反应腔室的上盖结构和反应腔室制造技术

本发明专利技术提供一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述开盖挂钩在对正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。本发明专利技术还提供一种反应腔室。与现有技术相比，本发明专利技术中的上盖结构上升时，开盖挂钩不需要移动一段空行程，因而可以减少铜连接条受到的拉力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工
，具体涉及一种反应腔室的上盖结构和包括该上盖结构的反应腔室。
技术介绍
通常，用于刻蚀反应的反应腔室包括腔体15、上电极和下电极。如图1所示的反应腔室的上盖结构的示意图，上电极11设置在线圈盒12上部的电极子腔121中，通过铜连接条13与线圈支架14以及盖板18相连。通常反应腔室的两种维护需求有：对腔体内的空间进行维护；对上盖结构中的线圈、喷嘴等结构维护。盖板18可以在盖板挂钩17和开盖挂钩16的带动下上升，开盖挂钩16和盖板挂钩17的结构如图2所示，对腔体内的空间进行维护时，开盖挂钩16位于对正位(如图3所示)，驱动立柱19带动线圈盒12和开盖挂钩16升起，从而带动盖板挂钩17以及盖板18升起；对上盖中的线圈等结构进行维护时，将开盖挂钩16沿图4中箭头所示的方向移动至脱离位(如图4所示)，且将铜连接条13与上电极11之间的连接断开，此时，线圈盒12的上升不会带动盖板18。由图3和图4可以看出，在开盖挂钩16带动盖板挂钩17上升之前，开盖挂钩16与盖板挂钩17之间存在一定的高度差H，该高度差H的存在有一定的必要性：首先开盖挂钩16上的挂钩销161具有一定的高度；其次，为了使得开盖挂钩16与盖板挂钩17活动灵活；再次，腔体内抽真空后会使得盖板挂钩17下降，该高度差H便于脱离位的开盖挂钩16移动至对正位。但是该高度差H至少会产生以下问题：一方面，线圈盒12和开盖挂钩16开始上升，且开盖挂钩16未接触到盖板挂钩17时，盖板18并未移动导致上电极11与盖板之间的铜连接条13发生形变，容易损坏；若在线圈盒12上升之前将铜连接条13与上电极11之间的连接断开，将增加工作量；另一方面，由于盖板18较重，因此开盖挂钩16上升这段空行程H后，接触到盖板挂钩17时会产生一定高度冲击力。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种反应腔室的上盖结构以及包括该上盖结构的反应腔室，以减少位于对正位的开盖挂钩带动盖板挂钩时产生的冲击力。为了实现上述目的，本专利技术提供一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述隔板设置在所述线圈盒内，所述开盖挂钩与所述隔板相连，所述盖板设置在所述隔板下方，多个所述盖板挂钩环绕所述盖板设置，所述开盖挂钩能够从脱离位绕所述上盖结构的纵向轴线旋转至对正位，所述开盖挂钩在对正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，其中，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。优选地，所述第一钩持部的上表面为斜平面，所述第二钩持部的下表面为与第一钩持部的上表面相对应的斜平面。优选地，所述第一钩持部的上表面的斜度满足以下关系：L/D<μ；其中，L为位于脱离位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面的高度差；D为位于对正位时的开盖挂钩第一钩持部与第二钩持部相接触的部分在水平面的投影宽度；μ为所述第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面之间的摩擦系数。优选地，所述开盖挂钩和所述盖板挂钩均由铝制成，位于脱离位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面的高度差在5～10mm之间，位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部与第二钩持部相接触的部分在水平面上的投影宽度在40～60mm之间。优选地，所述第一钩持部的上表面和所述第二钩持部的下表面均设置有防滑层。优选地，所述上盖结构还包括固定件，用于将处于所述对正位时的开盖挂钩和盖板挂钩固定连接。优选地，所述开盖挂钩还包括连接在所述第一钩持部和所述隔板之间的第一固定部，所述固定件包括穿过所述第一固定部的固定销，所述第二钩持部上设置有销孔，当所述开盖挂钩位于所述对正位时，所述固定销的末端伸入所述销孔内。优选地，所述上盖结构还包括与所述隔板相连的挂钩转环，且该挂钩转环能够沿所述上盖结构的纵向轴线旋转，所述第一固定部与所述挂钩转环固定相连。优选地，所述盖板挂钩还包括第二固定部和第二连接部，所述第二固定部的一端与所述盖板相连，所述第二连接部连接在所述第二固定部的另一端与所述第二钩持部之间。相应地，本专利技术还提供一种反应腔室，该反应腔室包括腔体设置在所述腔体开口的上盖结构，所述上盖结构为本专利技术所提供的上述上盖结构。本专利技术中的开盖挂钩位于对正位时，第一钩持部的上表面与第二钩持部的下表面相贴合，因此，第一钩持部向上移动时可以直接带动第二钩持部以及盖板上升，而不会使得盖板对铜连接条产生拉力，减小铜连接条发生变形的可能性；同时，第一钩持部不需要移动一段空行程，从而减少开盖挂钩和盖板挂钩之间产生的冲击力，进而减少了对上盖结构中的器件的损坏。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是现有技术中反应腔室的上盖结构的示意图；图2是图1中A部分的结构示意图；图3是图2中的开盖挂钩位于脱离位时BB方向的剖视图；图4是图2中的盖板挂钩位于对正位时BB方向的剖视图；图5是本专利技术中反应腔室的上盖结构的示意图；图6是图5中I部分的结构示意图；图7是图6中的开盖挂钩位于脱离位时CC方向的剖视图；图8是图6中的开盖挂钩位于对正位时CC方向的剖视图；图9是挂钩转环的结构示意图；其中，附图标记为：11、上电极；12、线圈盒；121、电极子腔；13、铜连接条；14、线圈支架；15、腔体；16、现有技术中的开盖挂钩；17、现有技术中的盖板挂钩；18、盖板；19、驱动立柱；21、隔板；25、挂钩转环；26、本专利技术中的开盖挂钩；261、第一钩持部；262、第一固定部；27、本专利技术中的盖板挂钩；271、第二钩持部；272、第二固定部；273、第二连接部；28、固定销。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。作为本专利技术的一方面，提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述隔板设置在所述线圈盒内，所述开盖挂钩与所述隔板相连，所述盖板设置在所述隔板下方，多个所述盖板挂钩环绕所述盖板设置，所述开盖挂钩能够从脱离位绕所述上盖结构的纵向轴线旋转至对正位，所述开盖挂钩在对正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，其特征在于，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。

【技术特征摘要】
1.一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个
开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述隔板设置在所
述线圈盒内，所述开盖挂钩与所述隔板相连，所述盖板设置在所述隔
板下方，多个所述盖板挂钩环绕所述盖板设置，所述开盖挂钩能够从
脱离位绕所述上盖结构的纵向轴线旋转至对正位，所述开盖挂钩在对
正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，
其特征在于，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包
括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上
表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所
述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第
一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。
2.根据权利要求1所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述第一钩持部的上表面为斜平面，所述第二钩持部的下表面为与第
一钩持部的上表面相对应的斜平面。
3.根据权利要求2所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述第一钩持部的上表面的斜度满足以下关系：
L/D<μ；
其中，L为位于脱离位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与
所述第二钩持部的下表面的高度差；
D为位于对正位时的开盖挂钩第一钩持部与第二钩持部相接触
的部分在水平面的投影宽度；
μ为所述第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面之间
的摩擦系数。
4.根据权利要求3所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述开盖挂钩和所述盖板挂钩均由铝制成，位于脱离位时的开盖挂钩
...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟涛，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11