反应腔室的上盖结构和反应腔室制造技术

本发明专利技术提供一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述开盖挂钩在对正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。本发明专利技术还提供一种反应腔室。与现有技术相比，本发明专利技术中的上盖结构上升时，开盖挂钩不需要移动一段空行程，因而可以减少铜连接条受到的拉力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工
，具体涉及一种反应腔室的上盖结构和包括该上盖结构的反应腔室。
技术介绍
通常，用于刻蚀反应的反应腔室包括腔体15、上电极和下电极。如图1所示的反应腔室的上盖结构的示意图，上电极11设置在线圈盒12上部的电极子腔121中，通过铜连接条13与线圈支架14以及盖板18相连。通常反应腔室的两种维护需求有：对腔体内的空间进行维护；对上盖结构中的线圈、喷嘴等结构维护。盖板18可以在盖板挂钩17和开盖挂钩16的带动下上升，开盖挂钩16和盖板挂钩17的结构如图2所示，对腔体内的空间进行维护时，开盖挂钩16位于对正位(如图3所示)，驱动立柱19带动线圈盒12和开盖挂钩16升起，从而带动盖板挂钩17以及盖板18升起；对上盖中的线圈等结构进行维护时，将开盖挂钩16沿图4中箭头所示的方向移动至脱离位(如图4所示)，且将铜连接条13与上电极11之间的连接断开，此时，线圈盒12的上升不会带动盖板18。由图3和图4可以看出，在开盖挂钩16带动盖板挂钩17本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述隔板设置在所述线圈盒内，所述开盖挂钩与所述隔板相连，所述盖板设置在所述隔板下方，多个所述盖板挂钩环绕所述盖板设置，所述开盖挂钩能够从脱离位绕所述上盖结构的纵向轴线旋转至对正位，所述开盖挂钩在对正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，其特征在于，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面...

【技术特征摘要】
1.一种反应腔室的上盖结构，包括线圈盒、隔板、盖板、多个
开盖挂钩和与多个开盖挂钩一一对应的盖板挂钩，所述隔板设置在所
述线圈盒内，所述开盖挂钩与所述隔板相连，所述盖板设置在所述隔
板下方，多个所述盖板挂钩环绕所述盖板设置，所述开盖挂钩能够从
脱离位绕所述上盖结构的纵向轴线旋转至对正位，所述开盖挂钩在对
正位时与所述盖板挂钩对正，在脱离位时与所述盖板挂钩相错开，
其特征在于，所述开盖挂钩包括第一钩持部，所述盖板挂钩包
括第二钩持部，所述第一钩持部的上表面的高度沿该第一钩持部的上
表面的一端至另一端的方向逐渐降低，所述第二钩持部的下表面与所
述第一钩持部的上表面相匹配，以使得位于对正位时的开盖挂钩的第
一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面相贴合。
2.根据权利要求1所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述第一钩持部的上表面为斜平面，所述第二钩持部的下表面为与第
一钩持部的上表面相对应的斜平面。
3.根据权利要求2所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述第一钩持部的上表面的斜度满足以下关系：
L/D<μ；
其中，L为位于脱离位时的开盖挂钩的第一钩持部的上表面与
所述第二钩持部的下表面的高度差；
D为位于对正位时的开盖挂钩第一钩持部与第二钩持部相接触
的部分在水平面的投影宽度；
μ为所述第一钩持部的上表面与所述第二钩持部的下表面之间
的摩擦系数。
4.根据权利要求3所述的反应腔室的上盖结构，其特征在于，
所述开盖挂钩和所述盖板挂钩均由铝制成，位于脱离位时的开盖挂钩
...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟涛，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11