【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于外延沉积的反应腔，其特征在于，包括：腔体，所述腔体包括顶盖、第一侧壁和底壁，所述顶盖与所述底壁相对设置，所述顶盖、所述第一侧壁和所述底壁围成所述腔体；以及装设于所述腔体底部的衬底支承座；还包括设置于所述腔体所围成的空间内，并与所述衬底支承座相对设置的喷淋装置，所述喷淋装置与衬底支承座间区域限定反应区；所述喷淋装置与所述腔体之间通过一连接件相接，用于使所述喷淋装置悬于所述腔体所围成的空间内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：田益西，黄允文，
申请(专利权)人：光垒光电科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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