一种LED发光二极管外延生长新设备制造技术

技术编号:8283651 阅读:210 留言:0更新日期:2013-01-31 23:42
本实用新型专利技术公开了一种LED发光二极管外延生长新设备,该设备包括电控箱、混气箱、反应腔、传送箱、尾气处理系统,区别于传统的圆柱型反应腔,本实用新型专利技术所述的反应腔侧壁不垂直于外延生长载盘,同时反应腔内的尾气排放装置安装于反应腔的下方,并且尾气排放出口为环形结构,从结构上对传统MOCVD进行了改进,使其不但节约了磊晶所用的原料,更改善了MOCVD磊晶的均匀性,提高了磊晶质量,并且解决了传统MOCVD制备芯片尺寸及产率低的局限性。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种LED发光二极管外延生长设备的改进,属于LED发光二极管外延生长设备领域。
技术介绍
LED 发光二极管外延生长设备即 MOCVD (Metal-Organic Chemical VaporDeposition),中文名称金属有机化学气相沉积,是以III族、II族元素的有机化合物和V、VI族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种III-V族、II -VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。传统MOCVD反应系统包括反应腔、用于输入反应气体的喷淋盘、设置于反应腔底部的加热基座、对基座进行加热的加热器、设置在反应腔底部用于排出反应副产物的排气口。MOCVD设备长期以 来一直依赖进口,其价格昂贵,导致半导体光源价格拘于高位,不利推广,国内由于不掌握关键设备技术,反过来极大地制约了材料技术和器件性能的提高,制约了我国光电子产业的进一步发展,也成了发展我国高端光电子器件的瓶颈。这就要求我们能自己掌握MOCVD设备特别是反应系统的设计与制造技术,实现光电子产业的一个重大突破。磊晶的重要指标之一,就是其厚度和组分的均匀性,在M本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LED发光二极管外延生长新设备,包括电控箱、混气箱、反应腔、传送箱、尾气处理系统,其特征在于反应腔侧壁不垂直于外延生长载盘。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:庄文荣孙明
申请(专利权)人:江苏汉莱科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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