一种薄膜性能测试中的制片的方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种薄膜性能测试中的制片的方法。该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试。该方案中，是将面积小于衬底基板且各自独立的基片固定在衬底基板上，然后进行镀膜，无需对一整块基板进行镀膜，因而该块基板的基片的数量可供进行多次镀膜，以进行薄膜测试，提高了对基板的利用率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀膜
，尤其涉及一种薄膜性能测试中的制片的方法。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)镀膜工艺，与溶胶-凝胶法以及化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)相比，具有优异的可控性以及长时间的工艺稳定性，与脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition，PLD)等相比，在大面积连续镀膜的领域具有很大的优势。然而在镀膜过程中，也存在很多对薄膜性能影响的因素，例如仪器设备的稳定状况，各种工艺参数：镀膜腔体的真空度、薄膜的沉积速率、基片温度、退火过程，等等。因而，需要测试各种薄膜性能参数，如果存在不良问题，需要通过改进工艺参数，以满足产品的实际需求。现有的薄膜性能的测试的制片的方式中，在大玻璃基板上进行镀膜，然后对其进行裂片。该方式中，对基板的利用率不高。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是提供一种薄膜性能测试中的制片的方法，用于解决现有技术中的制片的方式中对基板的利用率不高的问题。本专利技术实施例的目的是通过以下技术方案实现的：一种薄膜性能测试中的制片的方法，应用于物理气相沉积PVD镀膜工艺中，该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试。较佳地，所述衬底基板上预设有与所述镀膜区域对应的多个区域；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：将每组所述基片中的各所述基片，分别固定在所述衬底基板的表面上预设的、与所述镀膜区域对应的多个区域。较佳地，待测试的薄膜性能参数包括膜厚及其均匀性时，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：利用标记笔在各所述基片上做十字标记；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜之后，该方法还包括：利用无水乙醇去除所述基片上的十字标记形成阶梯以便测试膜厚。较佳地，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：在所述基片上的部分区域形成前层结构；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：将部分区域形成有前层结构的每组所述基片固定在所述衬底基板的表面上。较佳地，待测试的薄膜性能参数包括薄膜在有机膜层上的特性；在所述基片上的部分区域形成前层结构，包括：在所述基片的边缘涂布有机膜层。较佳地，所述衬底基板分为N个区域；每组所述基片包括M个基片且均匀分布在各个区域；衬底基板上的基片的总数量为M*n；每个区域的基片的数量为M*n/N；其中，n为基片的组数。较佳地，所述衬底基板按照九宫格的方式分为九格；每组所述基片包括9个基片且均匀分布在每格中；衬底基板上的基片的总数量为9n；每格的基片的数量为n。较佳地，待测试的薄膜性能参数包括膜厚和光学透过率；所述基片的组数为一组。较佳地，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：在所述衬底基板的表面上，利用胶带固定至少一组所述基片。较佳地，所述胶带为铁氟龙胶带。较佳地，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：利用标记笔在各所述基片上做编号标记。较佳地，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：利用无水乙醇和去离子水分别清洗所述基片并烘干。较佳地，所述基片的形状为圆形、方形或菱形。较佳地，所述衬底基板的尺寸至少为1100mm*1350mm。较佳地，所述基片的面积范围是10cm2～200cm2。较佳地，所述PVD工艺为磁控溅射镀膜工艺。本专利技术实施例的有益效果如下：本专利技术实施例中，是将面积小于衬底基板且各自独立的基片固定在衬底基板上，然后进行镀膜，无需对一整块基板进行镀膜，因而该块基板的基片的数量可供进行多次镀膜，以进行薄膜测试，提高了对基板的利用率；并且衬底基板只是用于固定基片，可以重复利用，也提高了利用率，降低了生成成本。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种薄膜性能测试中的制片的方法流程图；图2为本专利技术实施例提供的一种对基片做十字标记和编号标记的示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种基片在衬底基板上的分布示意图；图4a～图4d为本专利技术实施例中对薄膜的结晶状况的观察结果示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术提供的一种薄膜性能测试中的制片的方法进行更详细地说明。本专利技术实施例提供一种薄膜性能测试中的制片的方法，应用于物理气相沉积PVD镀膜工艺中，如图1所示，该方法至少包括如下步骤：步骤110、在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于衬底基板且各自独立的基片；步骤120、将固定有基片的衬底基板置于镀膜区域；步骤130、按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；步骤140、从衬底基板上取下镀膜后的各基片以便进行薄膜性能测试。本专利技术实施例中，是将面积小于衬底基板且各自独立的基片固定在衬底基板上，然后进行镀膜，与现有技术的方案相比，无需对一整块基板进行镀膜，因而该块基板的基片的数量可供进行多次不同的镀膜，以进行更多的薄膜测试，提高了对基板的利用率；并且衬底基板只是用于固定基片，可以重复利用，也提高了利用率，降低了生成成本。其中，基片可以但不限于是通过预先对一整块基板分割得到的。具体实施时，较佳地，衬底基板上预设有与镀膜区域对应的多个区域；上述步骤110中，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于衬底基板且各自独立的基片，具体可以是：将每组基片中的各基片，分别固定在衬底基板的表面上预设的、与镀膜区域对应的多个区域。本实施例中，由于在与镀膜区域对应的多个区域都固定有基片，可以测试不同的区域的差异，兼顾了不同镀膜区域对均匀性的影响，保证了后续的薄膜性能测试结果的准确性。例如，可以测试膜厚的差异，以检测均匀性。如果待测试的薄膜性能参数包括膜厚及其均匀性时，上述步骤110中，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于衬底基板且各自独立的基片之前，本专利技术实施例提供的制片的方法还包括：利用标记笔在各基片上做十字标记；上述步骤120按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜之后，本专利技术实施例提供的制片的方法还包括：利用无水乙醇去除基片上的十字标记形成阶梯以便测试膜厚。本实施例中，在十字标记的区域也会有镀膜，利用无水乙醇去除十字标记，在十字标记区域的镀膜就会被去除，基片上的膜层在十字标记区域的边界就会形成一个断面，即上述阶梯，利用该阶梯就可以测试膜厚了。具体实施时，较佳地，上述步骤110在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于衬底基板且各自独立的基片之前，本专利技术实施例提供的制片的方法还包括：在基片上的部分区域形成前层结构；上述步骤110中，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于衬底基板且各自独立的基片，具体可以是：将部分区域形成有前层结构的每组基片固定在衬底基板的表面上。如果待测试的薄膜性能参数包括薄膜在有机膜层上的特性；在基片上的部分区域形成前层结构，具体可以是：在基片的边缘涂布有机膜层。实施中，可以观察膜层在涂布有机膜层的区域和没有涂布有机膜层的区域的结晶状况。结晶状况良好，说本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜性能测试中的制片的方法，应用于物理气相沉积PVD镀膜工艺中，其特征在于，该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜性能测试中的制片的方法，应用于物理气相沉积PVD镀膜工艺中，其特征在于，该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底基板上预设有与所述镀膜区域对应的多个区域；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：将每组所述基片中的各所述基片，分别固定在所述衬底基板的表面上预设的、与所述镀膜区域对应的多个区域。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，待测试的薄膜性能参数包括膜厚及其均匀性时，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：利用标记笔在各所述基片上做十字标记；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜之后，该方法还包括：利用无水乙醇去除所述基片上的十字标记形成阶梯以便测试膜厚。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：在所述基片上的部分区域形成前层结构；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：将部分区域形成有前层结构的每组所述基片固定在所述衬底基板的表面上。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，待测试的薄膜性能参数包括薄膜在有机膜层上的特性；在所述基片上的部分区域形成前层结构，包括：在所述基片的边缘涂布有机膜层。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：申昌军，田兴奎，郑董文，刘大刚，杨文娟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11