【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及研磨机或抛光机
，具体涉及一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构。
技术介绍
单面研磨机/抛光机是目前硬脆材料，半导体平面加工的主要设备，因加工材料的特殊性，要求设备有很高的加工精度。上下盘的平行度对工件的表面质量起着至关重要的作用。现有的研磨机或抛光机，上、下盘系统相对独立安装，很难保证上下盘之间的平行度，无法满足市场对硬脆材料，半导体等日益提高的工件表面质量要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，保证上下盘的平行度，从而保证加工精度和工件成品的表面质量。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本专利技术通过以下技术方案实现：一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统、顶台、主支座和下箱体，所述上盘系统固接在顶台上，所述顶台和主支座之间通过多个立柱组件连接，所述主支座下端设有多个减震器，所述减震器一端固接在下箱体的顶面上。进一步的，所述主支座的下方连接有动力系统。进一步的，所述主支座以悬挂方式连接下方的动力系统。进一步的，所述顶台与主支座之间设有四个立柱组件。进一步的，所述主支座与下箱体之间设有四个减震器。本专利技术的有益效果是:本专利技术的自平衡系统，合理的利用了减震器的弹性，有效的保证了设备在研磨抛光过程中，上盘和下盘之间的平行度，实现了上下盘在不同的工况下的自适应找正功能，保证了研磨，抛光加工过程稳定性，从而保证了加工效果，并且结构简单，保证了加工精度和工件成品的表面质量。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。图中标号说明：1、上盘系统，2、顶台，3、立柱组件...
【技术保护点】
一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，包括上盘系统（1）、顶台（2）、主支座（4）和下箱体（6），所述上盘系统（1）固接在顶台（2）上，所述顶台（2）和主支座（4）之间通过多个立柱组件（3）连接，所述主支座（4）下端设有多个减震器（5），所述减震器（5）一端固接在下箱体（6）的顶面上。
【技术特征摘要】
1.一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，包括上盘系统（1）、顶台（2）、主支座（4）和下箱体（6），所述上盘系统（1）固接在顶台（2）上，所述顶台（2）和主支座（4）之间通过多个立柱组件（3）连接，所述主支座（4）下端设有多个减震器（5），所述减震器（5）一端固接在下箱体（6）的顶面上。2.根据权利要求1所述的研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，所述主支座（4）的下方...
【专利技术属性】
技术研发人员：乔卫民，翟新，李方俊，马艳，
申请(专利权)人：苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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