凹球面基底胶体涂覆装置及涂覆方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种凹球面基底胶体涂覆装置及涂覆方法，其中涂覆装置包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，加热单元置于所述载物台上。本发明专利技术可对半球凹曲面进行胶体涂覆，并且涂覆的胶层均匀性高。

【技术实现步骤摘要】
201610243907

【技术保护点】
凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，所述加热单元置于所述载物台上。

【技术特征摘要】
1.凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，包括：
基台；
载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动
凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；
可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所
述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不
变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；
加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，所
述加热单元置于所述载物台上。
2.根据权利要求1所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述
可移动式光刻胶喷头以凹球面的球心为旋转中心在垂直方向上转动，以调整喷
射角度。
3.根据权利要求1所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述
基台上还设有喷头调节机构，所述可移动式光刻胶喷头设于喷头调节机构上，
所述喷头调节机构调节可移动式光刻胶喷头的喷射方向及喷涂距离。
4.根据权利要求3所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述
喷头调节机构包括：
支撑体，设于基台上；
旋转中心轴，可转动设于支撑体上；
连接部，与旋转中心轴连接，并在旋转中心轴带动下转动；
所述可移动式光刻胶喷头设于连接部上，且可移动式光刻胶喷头3的喷射
方向与旋转中心轴的轴线垂直。
5.根据权利要求4所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述
连接部包括与旋转中心轴连接的第一连接杆、与第一连接杆连接的第二连接杆
和与第二连接杆连接的第三连接杆，其中第一连接杆与旋转中心轴交叉设置，
第三连接杆与旋转中心轴垂直，可移动式光刻胶喷头设于第三连接杆上。
6.根据权利要求4所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，还包
括旋转角度显示机构，用于显示旋转中心轴旋转的角度。
7.根据权利要求6所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述

\t旋转角度显示机构包括角度刻度盘和指针，角度刻度盘和指针其中一个固定于
支撑体上，另一个固定于旋转中心轴上，随旋转中心轴6一起转动，通过指针
读出角度刻度盘上的角度刻度。
8.凹球面基底胶体涂覆方法，其特征在于，包括如下步骤：
确定喷涂过程中光刻胶喷头调整喷射角度的总次数m，确定光刻胶喷头每
次调整的角度θ，θ＝α/m，所述喷射角度为喷射方向与凹球面的对称轴的夹
角，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金扬利，祖成奎，徐博，赵慧峰，韩滨，刘永华，赵华，王衍行，陈江，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，
类型：发明
国别省市：北京;11