硬涂膜及透明导电性膜制造技术

本发明专利技术要解决的课题是提供一种透明性高、且耐粘连性良好的硬涂膜。并且，上述课题的解决手段是一种硬涂膜，其是在基材膜的至少一面上具备第一硬涂层的硬涂膜，其特征在于，第一硬涂层含有多个粒子聚集而成的粒子聚集体，所述粒子的平均粒径(r：μm)小于0.5μm、且相对于第一硬涂层的厚度(d：μm)为0.5倍以下，由所述粒子聚集体形成的突出部以在每4μm见方的第一硬涂层表面内为1个以上的密度存在于第一硬涂层表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明性高、且耐粘连性良好的硬涂膜及透明导电性膜，详细而言，涉及适用于透明导电性膜的硬涂膜及使用该硬涂膜而成的透明导电性膜。
技术介绍
在基材膜上层合有硬涂层而成的硬涂膜被用作显示器、触摸面板的表面保护、或者触摸面板用电极膜(触摸面板用透明导电性膜)的基底膜。对于用于上述用途的硬涂膜而言，要求透明性高、且耐粘连性良好。为了改良硬涂膜的耐粘连性，提出了在表面设置由粒子形成的突起的方案(专利文献1～3)。另外，已知有在显示器表面配置用于防止外部光线的反射、像的映现的防眩光膜的技术。对于防眩光膜，通常已知使防眩层含有较大的粒子而在防眩层表面形成凹凸(例如专利文献4)。专利文献1：日本特开2010-82864号公报专利文献2：日本特开2010-241937号公报专利文献3：日本特开2012-27401号公报专利文献4：日本特开2013-33240号公报
技术实现思路
然而，采用上述专利文献1～3中公开的技术，并未能达到同时充分满足透明性及耐粘连性的效果。如专利文献4所公开那样，防眩光膜由于使用较大的粒子(例如平均粒径为1μm以上的粒子)在表面形成凹凸，所以可获得较良好的耐粘连性。但是，这样的防眩光膜由于雾度值高，透明性不充分，所以并不适合用作透明导电性膜的基底膜。因此，鉴于上述现有技术的课题，本专利技术的目的在于提供一种透明性高、且耐粘连性良好的硬涂膜。本专利技术的另一目的在于提供一种适用于透明导电性膜的硬涂膜。本专利技术的上述目的通过以下专利技术来达成。[1]一种硬涂膜，其是在基材膜的至少一面上具备第一硬涂层的硬涂膜，其特征在于，第一硬涂层含有多个粒子聚集而成的粒子聚集体，所述粒子的平均粒径(r：μm)小于0.5μm、且相对于第一硬涂层的厚度(d：μm)为0.5倍以下，由所述粒子聚集体形成的突出部以在每4μm见方的第一硬涂层表面内为1个以上的密度存在于第一硬涂层表面。[2]如上述[1]所述的硬涂膜，其中，所述突出部以10个以上的粒子沿第一硬涂层表面的面方向(平面的)聚集起来的状态形成。[3]如上述[1]或[2]所述的硬涂膜，其中，所述突出部的长度(L)为0.4μm以上。[4]如上述[1]～[3]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述粒子为二氧化硅粒子，二氧化硅粒子或二氧化硅粒子聚集体被施以用于减小表面自由能的表面处理或利用表面活性剂进行的表面处理。[5]如上述[4]中所述的硬涂膜，其中，所述二氧化硅粒子为气相法二氧化硅。[6]如上述[1]～[5]中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂膜的雾度值为0.7％以下。[7]如上述[1]～[6]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述第一硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ra1)为25nm以下。[8]如上述[1]～[7]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述粒子的平均粒径(r：μm)为0.01μm以上且小于0.4μm。[9]如上述[1]～[8]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述第一硬涂层的厚度(d：μm)为0.5μm以上且小于4μm。[10]如上述[1]～[9]中任一项所述的硬涂膜，其中，在所述基材膜的两面上具备第一硬涂层。[11]如上述[1]～[10]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述基材膜是折射率为1.62～1.70的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，在该聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面或两面上，隔着折射率为1.55～1.61的树脂层而层合有折射率为1.48～1.54的第一硬涂层。[12]如上述[1]～[9]中任一项所述的硬涂膜，其中，所述基材膜是折射率为1.62～1.70的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，在该聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面上，隔着折射率为1.55～1.61的树脂层而层合有折射率为1.48～1.54的第一硬涂层，并且，在所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的另一面上，隔着折射率为1.55～1.61的树脂层而层合有折射率为1.48～1.54的第二硬涂层。[13]一种透明导电性膜，其在上述[1]～[12]中任一项所述的硬涂膜的至少一面上具备透明导电膜。通过本专利技术，能够提供一种透明性高、且耐粘连性良好的硬涂膜。本专利技术的硬涂膜适用于透明导电性膜的基底膜。附图说明[图1]图1是本专利技术的硬涂膜的截面示意图。[图2]图2是本专利技术的硬涂膜中的第一硬涂层表面的俯视示意图(俯瞰图)。[图3]图3是本专利技术的硬涂膜中的第一硬涂层表面的利用扫描型电子显微镜拍摄的表面照片的一例。[图4]图4是示意性地表示形成粒子聚集体的各个粒子的图。具体实施方式本专利技术的硬涂膜在基材膜的至少一面上具备第一硬涂层。该第一硬涂层含有由多个粒子聚集而成的粒子聚集体，所述粒子的平均粒径(r：μm)小于0.5μm、且相对于第一硬涂层的厚度(d：μm)为0.5倍以下，由所述粒子聚集体形成的突出部(以下，简称为“突出部”)以在每4μm见方(4μm×4μm)的第一硬涂层表面内为1个以上的密度存在于第一硬涂层表面。本专利技术中，所谓多个粒子聚集而成的粒子聚集体，是指多个粒子凝集或结合(相连接)而成的产物。突出部的存在密度(在每4μm见方的第一硬涂层表面内的突出部个数)可通过用扫描型电子显微镜(SEM)观察硬涂层表面的方式进行测量。本专利技术中的突出部的存在密度是针对任意选择的5处测量突出部的个数、并将其平均而得到的值。突出部的存在密度在每4μm见方的第一硬涂层表面内小于1个时，得不到良好的耐粘连性。从提高耐粘连性的观点考虑，突出部的存在密度在每4μm见方的第一硬涂层表面内优选为2个以上，更优选为3个以上，特别优选为4个以上。上限没有特别限定，但100个左右是合适的。如果突出部的存在密度大于100个，则雾度值有上升趋势，存在硬涂膜的透明性降低的情况。从该观点考虑，突出部的存在密度的上限优选为80个以下，更优选为70个以下，特别优选为50个以下。图1是表示本专利技术的硬涂膜的一例的截面示意图。该硬涂膜在基材膜2上层合有第一硬涂层3。多个粒子1聚集而成的粒子聚集体10存在于第一硬涂层3的表面附近，在第一硬涂层表面形成有由粒子聚集体10形成的突出部11。图2是分两种情形表示本专利技术的硬涂膜的第一硬涂层表面的例子的俯视示意图。由多个粒子1聚集而成的粒子聚集体形成的突出部11存在于第一硬涂层表面。如图1及图2所示，优选突出部由多个粒子形成，进一步优选突本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂膜，其是在基材膜的至少一面上具备第一硬涂层的硬涂膜，其特征在于，第一硬涂层含有多个粒子聚集而成的粒子聚集体，所述粒子的平均粒径(r：μm)小于0.5μm、且相对于第一硬涂层的厚度(d：μm)为0.5倍以下，由所述粒子聚集体形成的突出部以在每4μm见方的第一硬涂层表面内为1个以上的密度存在于第一硬涂层表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.27 JP 2013-2446531.一种硬涂膜，其是在基材膜的至少一面上具备第一硬涂层的
硬涂膜，其特征在于，第一硬涂层含有多个粒子聚集而成的粒子聚
集体，所述粒子的平均粒径(r：μm)小于0.5μm、且相对于第一硬
涂层的厚度(d：μm)为0.5倍以下，由所述粒子聚集体形成的突出
部以在每4μm见方的第一硬涂层表面内为1个以上的密度存在于第
一硬涂层表面。
2.如权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述突出部以10个以
上的粒子沿第一硬涂层表面的面方向(平面的)聚集起来的状态形
成。
3.如权利要求1或2所述的硬涂膜，其中，所述突出部的长度
(L)为0.4μm以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的硬涂膜，其中，所述粒子
为二氧化硅粒子，二氧化硅粒子或二氧化硅粒子聚集体被施以用于
减小表面自由能的表面处理或利用表面活性剂进行的表面处理。
5.如权利要求4所述的硬涂膜，其中，所述二氧化硅粒子为气
相法二氧化硅。
6.如权利要求1～5中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂膜的
雾度值为0.7％以下。
7.如权利要求1～6中任一项所述的硬涂膜，其中，所述第一
硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ra1)为25n...

【专利技术属性】
技术研发人员：前田清成，
申请(专利权)人：东丽薄膜先端加工股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP