一种光衰炉的控温系统技术方案

本实用新型专利技术属于太阳能电池片制造设备技术领域，具体涉及一种光衰炉的控温系统，光衰炉包括上炉胆、下炉胆、光源箱、传送装置和加热装置，传送装置设置于由上炉胆和下炉胆形成的容置空间内，加热装置与容置空间连接，光源箱设置于上炉胆的上方；控温系统包括设置于下炉胆的侧壁上的若干个压缩空气进入管，若干个压缩空气进入管的开口朝向均与传送装置的运动方向相反。相对于现有技术，本实用新型专利技术包括设置于下炉胆的侧壁上的若干个压缩空气进入管，其可以将压缩空气由高温区往低温区吹，以有效快速地中和下炉胆内的温度，快速达到设置的温度，如此就能较好的保证硅片各处的位置的均匀性和恒定性，以保证较佳的硅片光衰效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于太阳能电池片制造设备
，具体涉及一种光衰炉的控温系统。
技术介绍
自从1973年Fischer和Pschunder第一次发现硼掺杂娃片的光衰现象以来，晶体硅材料及其太阳能电池的光衰问题就一直受到人们的关注。虽然文献中有不少关于晶体硅片及其太阳能电池光衰规律研究的报道，但是，现有技术中，太阳能电池片的生产厂家一般不会对硅片进行光衰处理，这就使得硅片的光衰要到太阳能电池使用时才会发生，这就使得太阳能电池的光电转换效率降低，而且会影响太阳能电池的使用寿命。在对硅片进行光衰处理的过程中，温度的均匀和恒定是关键因素。有鉴于此，确有必要提供一种光衰炉的控温系统，其能够使得炉内各处的温度保持均匀、稳定，从而保证硅片的光衰效果。
技术实现思路
本技术的目的在于:针对现有技术的不足，而提供一种光衰炉的控温系统，其能够使得炉内各处的温度保持均匀、稳定，从而保证硅片的光衰效果。为了达到上述目的，本技术采用如下技术方案:—种光衰炉的控温系统，所述光衰炉包括上炉胆、下炉胆、光源箱、传送装置和加热装置，所述传送装置设置于由所述上炉胆和所述下炉胆形成的容置空间内，所述加热装置与所述容置空间连接，所述光源箱设置于所述上炉胆的上方；所述控温系统包括设置于所述下炉胆的侧壁上的若干个压缩空气进入管，若干个所述压缩空气进入管的开口朝向均与所述传送装置的运动方向相反，并且若干个所述压缩空气进入管均位于所述加热装置的上方。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述压缩空气进入管包括插接段和吹风段，所述插接段的一端与所述下炉胆的侧壁连接并与压缩空气相通，所述插接段的另一端与所述吹风段连接，所述吹风段的开口与所述传送装置的运动方向相反。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述吹风段的长度方向与所述下炉胆的侧壁平行。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述压缩空气进入管在所述下炉胆的侧壁的长度方向上均匀分布。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述控温系统还包括设置于所述光源箱内的冷凝器和离心风机，所述离心风机与所述光源箱的上部相连，所述冷凝器的一端与所述光源箱的内部相通，所述冷凝器的另一端与所述离心风机相通。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述加热装置包括发热板、热风马达和加热炉体，所述加热炉体置于所述下炉胆内，所述发热板设置于所述加热炉体上，所述热风马达的一端嵌入所述加热炉体内；所述控温系统还包括设置于所述热风马达上的鲜风补入口和与所述加热炉体内连接的热排口。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述加热炉体包括内壳层和表壳层，所述内壳层和所述表壳层均设置为不锈钢构件，所述发热板设置于所述内壳层上；所述控温系统还包括形成于所述内壳层和所述表壳层之间的空气流道和设置于所述发热板的两端的进风口，并且所述进风口与所述空气流道连通。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述内壳层包括底板和侧壁，所述底板上设置有可供所述热风马达穿出的通孔，所述侧壁包括倾斜段和竖直段，所述竖直段的一端通过所述倾斜段与所述底板连接，所述竖直段的另一端与所述发热板连接。作为本技术光衰炉的控温系统的一种改进，所述下炉胆和所述加热炉体之间设置有保温棉层。相对于现有技术，本技术提供的光衰炉的控温系统包括设置于下炉胆的侧壁上的若干个压缩空气进入管，由于在传送装置的带动下，硅片随着传送装置一起运动，在加热装置的加热作用下，硅片越往后运动温度越高，而压缩空气进入管则可以将压缩空气向前吹，即压缩空气由高温区往低温区吹，以有效快速地中和下炉胆内的温度，快速达到设置的温度，如此就能较好的保证硅片各处的位置的均匀性和恒定性，以保证较佳的硅片光衰效果。【附图说明】图1为本技术中光衰炉整体的剖视结构示意图。图2为本技术中下炉胆的部分结构示意图(其中包括本技术的其中一个控温系统)。图3为本技术中光源箱的立体结构示意图(其中包括本技术的第二个控温系统)。图4为本技术中光源箱的剖视结构示意图(其中包括本技术的第二个控温系统)。图5为本技术中加热装置的分解结构示意图(其中包括本技术的第三个控温系统)。图6为本技术中加热装置的剖视结构示意图(其中包括本技术的第三个控温系统)。其中:1-上炉胆；2-下炉胆；21-压缩空气进入管；211-插接段，212-吹风段；3-光源箱；31-冷凝器，32-离心风机；4-传送装置；5-加热装置；51-发热板，511-进风口，52-热风马达，53-加热炉体，531-内壳层，532-表壳层，533-空气流道，534-底板，5341-通孔，535-侧壁，5351-倾斜段，5352-竖直段，54-鲜风补入口，55-热排口，56-保温棉层；6-硅片。【具体实施方式】下面结合实施例和说明书附图，对本技术及其有益效果做进一步详细的阐述，但是本技术的【具体实施方式】并不限于此。如图1至6所示，本技术提供的一种光衰炉的控温系统，光衰炉包括上炉胆1、下炉胆2、光源箱3、传送装置4和加热装置5，传送装置4设置于由上炉胆I和下炉胆2形成的容置空间内，加热装置5与容置空间连接，光源箱3设置于上炉胆I的上方；其中，光源箱3内的光源为红外光源，因为其照射效果较好，能使硅片6有较好的光衰效果。传送装置4设置为传送带，硅片6置于传送带上，通过调节传送带的移动速度，可以控制硅片6在容置空间内停留的时间，加热装置5和控温系统的配合可以使得容置空间的各处的温度保持一致且恒定，以保证光衰效果。控温系统包括设置于下炉胆2的侧壁上的若干个压缩空气进入管21，若干个压缩空气进入管21的开口朝向均与传送装置4的运动方向相反，并且若干个压缩空气进入管21均位于加热装置5的上方。若干个压缩空气进入管21形成隧道式降温系统。因为在传送装置4的带动下，硅片6随着传送装置4 一起运动，由于加热装置5的加热作用，硅片6越往后运动温度越高，而压缩空气进入管21则可以将压缩空气向前吹，即压缩空气由高温区往低温区吹，以有效快速地中和下炉胆2内的温度，快速达到设置的温度，如此就能较好的保证硅片6各处的位置的均匀性和恒定性。压缩空气进入管21包括插接段211和吹风段212，插接段21当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光衰炉的控温系统，其特征在于：所述光衰炉包括上炉胆、下炉胆、光源箱、传送装置和加热装置，所述传送装置设置于由所述上炉胆和所述下炉胆形成的容置空间内，所述加热装置与所述容置空间连接，所述光源箱设置于所述上炉胆的上方；所述控温系统包括设置于所述下炉胆的侧壁上的若干个压缩空气进入管，若干个所述压缩空气进入管的开口朝向均与所述传送装置的运动方向相反，并且若干个所述压缩空气进入管均位于所述加热装置的上方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：唐岳泉，苏金财，洗志军，
申请(专利权)人：东莞市科隆威自动化设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44