氮化硅薄膜窗口制造技术

本实用新型专利技术氮化硅薄膜窗口，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。本实用新型专利技术氮化硅薄膜窗口实现了保证软X射线高透过率的同时，也保证了较好的应力。同时可以实现多样品的测量，对比效果更好。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于同步辐射X射线(尤其在软X射线)透射显微成像时承载工具、沉积用窗口，特别是一种氮化硅薄膜窗口。
技术介绍
X射线薄膜窗口能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗口越薄。特别是在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好的穿透。我司之前的技术，由于薄膜的厚度和应力，尽管在一定程度上较老式的计量式或ST氮化硅薄膜穿透力和应力较好，但在软射线的透过率上还是需要改进；基于现在对光源的研究和生物样品的成像，尤其在其他方面差异不大时，透射成像的清晰对比度的关键就在于，新的氮化硅薄膜必须对特殊软X射线有较小的吸收；氮化硅窗口的应力和对软X射线的透过率一直是两个相对的参数，如何不顾此失彼寻找平衡点是目前技术的关键；单个氮化硅薄膜窗口，一次只能实现一个样品的观测，而想在同一张图像中得到对比呈现，不能排除其它变量影响，因此一次实现多个样品测量，对这样的对比观测非常重要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可实现一次测量多个样品的氮化硅薄膜窗口。为解决上述技术问题，本技术氮化硅薄膜窗口，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。所述观测沟槽的尺寸为0.1毫米×0.1毫米。所述标记沟槽的尺寸为0.1毫米×0.35毫米。所述观测沟槽的数量为八个，八个所述观测沟槽与所述标记沟槽呈3×3阵列均匀分布。八个所述观测沟槽与所述标记沟槽之间的间距为0.1毫米。所述氮化硅膜及所述衬底的尺寸为3毫米×3毫米。所述氮化硅膜的厚度为20纳米。所述衬底的厚度为500微米。所述衬底为(100)晶向的N型或P型单晶硅。本技术氮化硅薄膜窗口实现了保证软X射线高透过率的同时，也保证了较好的应力。同时可以实现多样品的测量，对比效果更好。附图说明图1为本技术氮化硅薄膜窗口结构示意图一；图2为本技术氮化硅薄膜窗口结构示意图二；图3为图2A-A面剖视图；图4为本技术氮化硅薄膜窗口观测沟槽及标记沟槽结构布局示意图。本技术氮化硅薄膜窗口附图中附图标记说明：1-氮化硅膜  2-观测沟槽  3-标记沟槽4-衬底具体实施方式下面结合附图对本技术氮化硅薄膜窗口作进一步详细说明。如图1～图4所示，本技术氮化硅薄膜窗口，包括(100)晶向的N型或P型单晶硅衬底4，其厚度为500微米，氮化硅膜1镀在衬底4下部，且尺寸同为3毫米×3毫米。20纳米的氮化硅薄膜1能增加软X射线超强透射能力。在衬底4上设有贯穿衬底4的观测沟槽2和标记沟槽3，观测沟槽2和标记沟槽3同为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于衬底4上部、顶面开口位于衬底4下部。其中观测沟槽的尺寸为0.1毫米×0.1毫米；标记沟槽的尺寸为0.1毫米×0.35毫米。八个观测沟槽与标记沟槽呈3×3阵列均匀分布，而且八个观测沟槽与标记沟槽之间的间距为0.1毫米。高度对称的9孔结构可以实现多样品同时测量，同时有效分散应力，可以保证超薄的同时，保证较好的应力；中间长方形设计的标记沟槽3能有效地进行观测定位，并且在光学显微镜和透射电镜观测切换的时候，有效记录对应样品的位置。本技术氮化硅薄膜窗口实现了保证软X射线高透过率的同时，也保证了较好的应力。同时可以实现多样品的测量，对比效果更好。以上已对本技术创造的较佳实施例进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本专利技术创造精神的前提下还可作出种种的等同的变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
氮化硅薄膜窗口，其特征在于，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。

【技术特征摘要】
1.氮化硅薄膜窗口，其特征在于，包括：
衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所
述衬底的形状和尺寸相同；
观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿
所述衬底；
标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述
衬底；其中
所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开
口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。
2.根据权利要求1所述的氮化硅薄膜窗口，其特征在于，所述观测沟
槽的尺寸为0.1毫米×0.1毫米。
3.根据权利要求2所述的氮化硅薄膜窗口，其特征在于，所述标记沟
槽的尺寸为0.1毫米×0.35毫米。
4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晟，
申请(专利权)人：上海纳腾仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31