一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统技术方案

本发明专利技术涉及一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，该系统包括在子午方向上依次排列的两块KB物镜和在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜；物点发出的X射线经过子午方向上的两块KB物镜分别反射后形成两个通道的一维成像，随后两个通道的一维成像再经过弧矢方向上的两块KB物镜分别反射后形成四个通道的两维成像。与现有技术相比，本发明专利技术提出的四通道KB系统的四块KB物镜采用依次排列的方式，在空间上没有相互干扰，也就降低了装调难度，显著降低了四通道KB系统对背光X射线尺寸的要求，相应的提高了单位面积上的背光X射线强度，拓展了四通道KB系统在ICF物理实验中的应用范围，适合在我国目前强激光装置上使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种ICF等离子体诊断用四通道X射线显微成像系统，尤其是涉及一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统。
技术介绍
X射线背光成像是进行高能量密度物理(HEDP)和惯性约束聚变(ICF)研究的重要诊断手段。四通道KB显微成像系统是在惯性约束聚变(ICF)研究中进行时间分幅高温高密度等离子体诊断的关键设备，已经在美国OMEGA上得到广泛应用。四通道KB显微成像系统与分幅相机配合，可以通过对四幅图像在不同时刻依次响应的方式实现时间分辨，展现了等离子体在二维空间方向上的瞬时状态。现有四通道KB系统的物镜结构如图I所示，四块反射镜在子午和弧矢方向上两两平行相对，并按照前后顺序依次排列，空间位置关系由物镜中心处的高精度支撑方芯保证。支撑方芯的四个侧棱留有倒角，是X射线成像通道。四通道KB系统在子午方向上的光学结构如图2所示。其中，s为四通道KB系统对样品靶中心位置成像所要求的背光源半尺寸st为背光源到样品靶的距离；Φ为样品靶直径；Θ为·KB反射镜工作掠入射角d为KB反射镜镜长；h为子午方向上像点的距离。上述各结构参数之间存在如式(I)所示的关系，弧矢方向上的结构参数关系与式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征在于，该系统包括在子午方向上依次排列的两块KB物镜和在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜；物点发出的X射线经过子午方向上的两块KB物镜分别反射后形成两个通道的一维成像，随后两个通道的一维成像再经过弧矢方向上的两块KB物镜分别反射后形成四个通道的两维成像。

【技术特征摘要】
1.一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征在于，该系统包括在子午方向上依次排列的两块KB物镜和在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜； 物点发出的X射线经过子午方向上的两块KB物镜分别反射后形成两个通道的一维成像，随后两个通道的一维成像再经过弧矢方向上的两块KB物镜分别反射后形成四个通道的两维成像。2.根据权利要求I所述的一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征在于，在子午方向上依次排列的两块KB物镜的工作反射面处于同一平面内。3.根据权利要求I所述的一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征在于，在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜的工作反射面处于同一平面内。4.根据权利要求I所述的一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征在于，子午方向上的第二块KB物镜和弧矢方向上的第一块KB物镜正交接触放置。5.根据权利要求I所述的一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊圣振，穆宝忠，王占山，章逸舟，王新，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：