沉积蒸发系统技术方案

本发明专利技术涉及一种沉积蒸发系统，用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方；所述真空蒸发器的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置放置，所述蒸发源的纵向中心线与基片所在平面平行，所述沉积蒸发传动装置包括旋转架、基片载具和轨道，所述蒸发源的纵向中心线经过所述轨道所在圆的圆心。本发明专利技术提供的沉积蒸发系统具有多片蒸发、每个基片旋转速度可调和每个基片的倾斜角度可调等优点，可有利于产能提升和生产成本的降低，更适用于倾斜角蒸发纳米结构薄膜的批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种沉积蒸发系统
，尤其涉及一种倾斜角沉积蒸发系统及倾斜角沉积蒸发传动装置。
技术介绍
倾斜角沉积技术是一种将传统的薄膜真空沉积与可控的衬底转动结合起来的新颖、有效的薄膜制备方法。在传统的薄膜沉积技术中，粒子束沿着基片的法线方向入射到基片表面上(即正入射沉积)。而倾斜角沉积技术是将基片倾斜(或改变粒子束的入射方向)，使粒子束的入射方向与基片表面的法线成一定的夹角(即沉积角)，该方法生长出的薄膜具有倾斜的柱状结构。通过改变基片的倾斜角度和旋转速度可制备出各种形状的纳米结构薄膜，如螺旋状、倾斜柱状、之字形、C形和竖直的柱状结构等，这些薄膜因具有孔隙率高、比表面积大和各向异性等优越的性质，使其在渐变折射率减反膜、传感器、太阳能电池、光子晶体器件、光催化等方面得到广泛应用。目前，应用的倾斜角沉积蒸发系统需要采用两个电机来控制基片(图6中无公转)自转以及倾斜角度，且电机都位于真空腔内部，如图6所示，该结构的蒸发系统采用两个在腔体001内部的马达002、003，分别用于控制基片004的倾斜角度和旋转速度，基片位于蒸发源005的正上方，受到三维运动的限制，基片必需固定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积蒸发系统，用于对基片进行倾斜蒸发沉积，其特征在于，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方；所述真空蒸发器的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置放置，所述蒸发源的纵向中心线与基片所在平面平行。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：乐仲，孙福河，闻永祥，曹永辉，
申请(专利权)人：杭州士兰集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33