基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法制造方法及图纸

具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法
本专利技术涉及基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法。
技术介绍
以往，作为基板处理装置，已知在光罩与板件(基板)之间配置有投影光学系统的曝光装置(例如，参照专利文献1)。该投影光学系统包含透镜组、平面反射镜、两个偏振光分束器、两个反射镜、λ/4波片及视场光阑而构成。在该曝光装置中，经由光罩而照射至投影光学系统的S偏振光的投影光由一方的偏振光分束器反射。被反射的S偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为圆偏振光。圆偏振光的投影光通过透镜组而反射至平面反射镜。被反射的圆偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为P偏振光。P偏振光的投影光从另一方的偏振光分束器透过，被一方的反射镜反射。被一方的反射镜反射的P偏振光的投影光在视场光阑中形成中间像。从视场光阑通过的P偏振光的投影光被另一方的反射镜反射，再次入射至一方的偏振光分束器。P偏振光的投影光从一方的偏振光分束器透过。透过后的P偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为圆偏振光。圆偏振光的投影光从透镜组通过，并被平面反射镜反射。被反射的圆偏振光的投影光从λ/4波片通过从而转换为S偏振光。S偏振光的投影光被另一方的偏振光分束器反射而到达板件上。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平8-64501号公报
技术实现思路
在此，偏振光分束器中反射及透过的投影光的一部分成为泄漏光。即，在偏振光分束器中反射的投影光的一部分分离，分离的投影光的一部分成为泄漏光而从偏振光分束器透过，或在偏振光分束器中透过的投影光的一部分分离，分离的投影光的一部分成为泄漏光，由偏振光分束器反射。在这种情况下，会有泄漏光在基板上成像，从而在基板上形成不良像的可能性。在这种情况下，在基板上，通过投影光而形成投影像，通过泄漏光而形成不良像，所以会有成为双重曝光的可能性。本专利技术的方案是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法，能够降低泄漏光对形成于基板上的投影像的影响，而将投影像适当地投影在基板上。根据本专利技术的第1方式，提供一种基板处理装置，具有：投影光学系统，其通过来自光罩部件的图案的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像，以使从所述中间像面向规定的基板行进的第2投影光再次从所述投影光学系统通过的方式折返，从而在所述基板上形成所述中间像再成像的投影像；以及光量减少部，其将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，所述投影光学系统具有：入射来自所述图案的所述第1投影光而形成所述中间像的部分光学系统；以及导光光学系统，其将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将来自所述中间像面的所述第2投影光再次引导至所述部分光学系统，所述部分光学系统使来自所述中间像面的所述第2投影光再成像，并在所述基板上形成所述投影像。根据本专利技术的第2方式，提供一种器件制造系统，具有：本专利技术的第1方式的基板处理装置；对上述基板处理装置供给上述基板的基板供给装置。根据本专利技术的第3方式，提供一种器件制造方法，包含：使用本专利技术的第1方式的基板处理装置对上述基板进行投影曝光；通过处理经投影曝光的上述基板而形成上述光罩部件的图案。专利技术效果根据本专利技术的方式，提供基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法，能够降低投射至基板上的泄漏光的光量，使投影像适当地投影到基板上。附图说明图1是表示第1实施方式的器件制造系统的构成的图。图2是表示第1实施方式的曝光装置(基板处理装置)的整体构成的图。图3是表示图2所示的曝光装置的照明区域及投影区域的配置的图。图4是表示图2所示的曝光装置的照明光学系统及投影光学系统的构成的图。图5是将基于投影光学组件的圆形的全成像视场在YZ面上展开的图。图6是表示第1实施方式的器件制造方法的流程图。图7是表示第2实施方式的曝光装置的照明光学系统及投影光学系统的构成的图。图8是表示第3实施方式的曝光装置的投影光学系统的构成的图。图9是表示第4实施方式的曝光装置(基板处理装置)的整体构成的图。具体实施方式参照附图对用于实施本专利技术的方式(实施方式)进行详细的说明。本专利技术不受以下的实施方式所记载的内容限定。另外，以下记载的构成要素包含本领域技术人员能够容易想到的要素、及实质上相同的要素。而且，以下所记载的构成要素能够适当组合。另外，在不脱离本专利技术宗旨的范围内能够省略、替换或者改变各种构成要素。[第1实施方式]第1实施方式的基板处理装置是对基板实施曝光处理的曝光装置，曝光装置被组装在对曝光后的基板实施各种处理而制造器件的器件制造系统中。首先，对器件制造系统进行说明。＜器件制造系统＞图1是表示第1实施方式的器件制造系统的构成的图。图1所示的器件制造系统1是制造作为器件的柔性显示器的生产线(柔性显示器生产线)。作为柔性显示器，例如有有机EL显示器等。该器件制造系统1是从将挠性的基板P卷绕成辊状的供给用辊FR1送出该基板P，并对送出的基板P连续地实施各种处理后，将处理后的基板P作为具有挠性的器件卷绕于回收用辊FR2的、所谓卷对卷(RolltoRoll)方式。在第1实施方式的器件制造系统1中，示出了作为薄膜状的片材的基板P被从供给用辊FR1送出，且从供给用辊FR1送出的基板P依次经过n台处理装置U1、U2、U3、U4、U5、…Un直至被卷绕于回收用辊FR2为止的例子。首先，对作为器件制造系统1的处理对象的基板P进行说明。基板P例如使用树脂薄膜、由不锈钢等金属或合金形成的箔(foil)等。作为树脂薄膜的材质，例如包含聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚酯树脂、乙烯乙烯醇共聚物树脂、聚氯乙烯树脂、纤维素树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂中的一种或两种以上。优选的是，基板P例如选定热膨胀系数不那么显著大的材料，以使得实际上能够忽视在对基板P实施的各种处理中受热而产生的变形量。热膨胀系数例如可以通过将无机填料混合于树脂薄膜中而设定为比与工艺温度等相应的阈值小。无机填料例如可以是氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化硅等。另外，基板P可以是通过浮式法等制造的厚度为100μm左右的极薄玻璃的单层体，也可以是在该极薄玻璃上粘贴上述树脂薄膜、箔等而成的层叠体。这样构成的基板P，被卷绕成辊状而成为供给用辊FR1，该供给用辊FR1被安装于器件制造系统1。安装有供给用辊FR1的器件制造系统1，对从供给用辊FR1送出的基板P重复执行用于制造器件的各种处理。因此，处理后的基板P成为多个器件相连的状态。也就是说，从供给用辊FR1送出的基板P成为多件同时处理用的基板。另外，基板P可以是预先通过规定的前处理对其表面进行改性而使其活性化的部件，或者，也可以是在表面上形成有用于精密图案化的微细的隔壁构造(凹凸构造)的部件。处理后的基板P被卷绕成辊状，从而作为回收用辊FR2而被回收。回收用辊FR2安装于未图示的切割装置。安装有回收用辊FR2的切割装置将处理后的基板P按每个器件分割(切割)从而成为多个器件。基板P的尺寸例如为，宽度方向(成为短边的方向)的尺寸为10cm～2m左右，长度方向(成为长边的方向)的尺寸为10m以上。此外，基板P的尺寸不限定于上述的尺寸。接下来，参照图1，对器件制造系统进行说明。在图1中，X方向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，具有：投影光学系统，其通过来自光罩部件的图案的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像，且使从所述中间像面向规定的基板行进的第2投影光以再次从所述投影光学系统通过的方式折返，从而在所述基板上形成所述中间像再成像而得到的投影像；以及光量减少部，其将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，所述投影光学系统具有：入射来自所述图案的所述第1投影光而形成所述中间像的部分光学系统；以及导光光学系统，其将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将来自所述中间像面的所述第2投影光再次引导至所述部分光学系统，所述部分光学系统使来自所述中间像面的所述第2投影光再成像，并在所述基板上形成所述投影像。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.12.18 JP 2012-2761391.一种基板处理装置，在基板上形成光罩部件的图案的投影像，所述基板处理装置具有投影光学系统，该投影光学系统具有导光光学系统和入射来自所述光罩部件的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像的部分光学系统，所述导光光学系统将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面并将通过了所述中间像面的所述第1投影光作为第2投影光而再次引导至所述部分光学系统，所述投影光学系统利用被入射所述第2投影光的所述部分光学系统而在所述基板上形成所述中间像再成像而得到的投影像，所述部分光学系统包含：供所述第1投影光及所述第2投影光入射的透镜部件，和将通过了所述透镜部件的所述第1投影光及所述第2投影光反射的反射光学部件，来自所述图案的所述第1投影光入射至所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述中间像面，来自所述中间像面的所述第2投影光入射至所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述基板上，所述导光光学系统包含：使来自所述图案的所述第1投影光入射至所述透镜部件的第1光学部件；使从所述透镜部件射出的所述第1投影光入射至所述中间像面的第2光学部件；使来自所述中间像面的所述第2投影光入射至所述透镜部件的第3光学部件；使从所述透镜部件射出的所述第2投影光入射至所述基板上的第4光学部件，利用所述第1光学部件至所述第4光学部件的每一个，而使入射至所述透镜部件的所述第1投影光的第1入射视场、从所述透镜部件射出的所述第1投影光的第1出射视场、入射至所述透镜部件的所述第2投影光的第2入射视场、从所述透镜部件射出的所述第2投影光的第2出射视场相互分离。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，还具有保持所述光罩部件的光罩保持部件和通过支承面支承所述基板的基板支承部件，所述光罩部件的图案面具有以第1轴为中心的成为第1曲率半径的第1圆周面，所述基板支承部件的所述支承面具有以第2轴为中心的成为第2曲率半径的第2圆周面，所述第1轴与所述第2轴平行，所述投影光学系统与配置于所述光罩部件的图案面的多个照明区域的每一个照明区域对应地设置有多个，多个所述投影光学系统将来自所述图案面的多个所述照明区域的多个所述第1投影光向多个所述中间像面引导，将来自多个所述中间像面的多个所述第2投影光向配置在所述基板上的多个投影区域的每一个投影区域引导。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，在多个所述投影光学系统沿所述光罩部件的周向并列配置成2列、且各所述投影光学系统中所述基板的所述投影区域相对于所述图案面的所述照明区域在周向偏移的情况下，所述光罩保持部件及所述基板支承部件中，所述第2轴相对于所述第1轴的位置成为与所述投影区域相对于所述照明区域在周向上的偏移量相应地不同的位置，将与第1列所述投影光学系统对应的所述照明区域的中心和与第2列所述投影光学系统对应的所述照明区域的中心沿所述光罩部件的周向连结起来的周长，跟将与第1列所述投影光学系统对应的所述投影区域的中心和与第2列所述投影光学系统对应的所述投影区域的中心沿所述基板的周向连结起来的周长为相同的长度。4.一种基板处理装置，在基板上形成光罩部件的图案的投影像，所述基板处理装置具有：投影光学系统，其具有导光光学系统和入射来自所述光罩部件的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像的部分光学系统，所述导光光学系统将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面并将通过了所述中间像面的所述第1投影光作为第2投影光而再次引导至所述部分光学系统，所述投影光学系统利用被入射所述第2投影光的所述部分光学系统而在所述基板上形成所述中间像再成像而得到的投影像；以及光量减少部，其为了将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，使通过所述第2投影光而形成的所述投影像的成像位置和通过所述第1投影光的一部分泄漏光而形成的不良像的成像位置不同。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述部分光学系统包含：供所述第1投影光及所述第2投影光入射的透镜部件，和将通过了所述透镜部件的所述第1投影光及所述第2投影光反射的反射光学部件，来自所述图案的所述第1投影光入射至所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述中间像面，来自所述中间像面的所述第2投影光入射至所述透镜部件，由所述反射光学部件反射后，从所述透镜部件射出，并到达所述基板上。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，所述光量减少部为所述导光光学系统，所述光量减少部包含：第1偏振光分束器，该第1偏振光分束器使来自所述图案的所述第1投影光反射而入射至所述透镜部件，且使来自所述中间像面的所述第2投影光透过而入射至所述透镜部件；波片，该波片使从所述第1偏振光分束器射出的所述第1投影光及所述第2投影光偏振；第2偏振光分束器，该第2偏振光分束器使从所述透镜部件射出并通过了所述波片的所述第1投影光透过而入射至所述中间像面，且使从所述透镜部件射出并通过了所述波片的所述第2投影光反射而朝向所述基板上；第1光学部件，该第1光学部件使透过了所述第2偏振光分束器的所述第1投影光入射至所述中间像面；以及第2光学部件，该第2光学部件使来自所述中间像面的所述第2投影光入射至所述第1偏振光分束器。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述光量减少部还包括第1遮光板，该第1遮光板设于所述第2偏振光分束器与所述基板之间，所述光量减少部使通过由所述第2偏振光分束器反射的所述第2投影光而形成在所述基板上的所述投影像的成像位置与所述不良像的成像位置在沿着所述基板的表面的方向上不同，所述不良像是通过不从所述第2偏振光分束器透过而由所述第2偏振光分束器反射的所述第1投影光的一部...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP