一种彩色滤光片的制作方法及制作装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种彩色滤光片的制作方法及制作装置，该制作方法包括：在预设的玻璃基板上沉积第一反射膜；在所述第一反射膜上涂布光阻层；对所述光阻层的三种像素区域进行曝光处理，以形成包括三种不同厚度的光阻层；对经过曝光处理的三种像素区域进行显影处理，以使所述光阻层的第一面固定设置于所述第一反射膜上；及，在所述三种不同厚度的光阻层的第二面上沉积第二反射膜。采用本发明专利技术，解决了现有技术中形成法布里-珀罗带通滤光结构时耗时较长，效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种彩色滤光片的制作方法及制作装置。
技术介绍
液晶显示是一种较常用的显示技术，特别是薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display，TFT-1XD)，目前在亮度、对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能上均已赶上和超过阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT)等显示器件，它的性能优良、大规模生产特性好，自动化程度高，原材料成本低廉，发展空间广阔，已广泛应用于电视机、手机、显示器等各种终端的显示。目前，基于法布里-珀罗(Fabry-Perot)带通滤光结构的TFT-LCD对光的利用率较高，但是在制作Fabry-Perot带通滤光结构时，至少要经过三次不同膜厚派镀/黄光/刻蚀/去光阻以形成分别透射红光、绿光和蓝光的光阻，此过程耗时较长，并且精度得不到保障。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种彩色滤光片的制作方法及制作装置，可有效地解决现有技术中制作TFT-LCD中的带通滤光结构时耗时较长，并且精度不高的问题。第一方面，本专利技术实施例提供一种彩色滤光片的制作方法，该制作方法包括:在预设的玻璃基板上沉积第一反射膜；在所述第一反射膜上涂布光阻层；对所述光阻层的三种像素区域进行曝光处理，以形成包括三种不同厚度的光阻层；对经过曝光处理的三种像素区域进行显影处理，以使所述光阻层的第一面固定设置于所述第一反射膜上；在所述三种不同厚度的光阻层的第二面上沉积第二反射膜。结合第一方面，在第一方面的第一种可能的实现方式中，所述玻璃基板包括相对设置的第一表面和第二表面，其中，所述第一表面紧贴所述第一反射膜，所述制作方法还包括:在所述玻璃基板的第二表面上分散沉积多个黑色矩阵。结合第一方面，在第一方面的第二种可能的实现方式中，所述玻璃基板包括第一表面，所述第一表面紧贴所述第一反射膜，所述在预设的玻璃基板上沉积第一反射膜之前，所述制作方法还包括:在所述玻璃基板的第一表面上分散沉积黑色矩阵，其中，所述黑色矩阵的厚度小于所述第一反射膜的厚度。结合第一方面，在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述三种不同厚度的光阻层分别对应透射红色光波、绿色光波和蓝色光波。结合第一方面，在第一方面的第四种可能的实现方式中，所述第一反射膜和所述第二反射膜具有相同的参数，所述参数包括材质和/或厚度。结合第一方面、第一方面的第一至第四种可能的实现方式中的任一可能的实现方式，在第一方面的第五种可能的实现方式中，所述对所述光阻层的三种像素区域进行曝光处理以形成包括三种不同厚度的光阻层包括:照射带有通光孔的光罩，以使光线透过所述通光孔并照射在所述光阻层上，所述光罩上开设有三种排列密度的通光孔，以使光线透过所述三种排列密度的通光孔后分别形成三种光照强度的光线，并照射在所述光阻层的三种像素区域上，其中，每一种光照强度的光线对应照射在一种像素区域上。第二方面，本专利技术实施例提供一种彩色滤光片的制作装置，该制作装置包括:第一沉积模块，用于在预设的玻璃基板上沉积第一反射膜；涂布模块，用于在所述第一反射膜上涂布光阻层；曝光模块，用于对所述光阻层的三种像素区域进行曝光处理以形成包括三种不同厚度的光阻层；显影模块，用于对经过曝光处理的三种像素区域进行显影处理，以使所述光阻层的第一面固定设置于所述第一反射膜上；及第二沉积模块，用于在所述三种不同厚度的光阻层的第二面上沉积第二反射膜。结合第二方面，在第二方面的第一种可能的实现方式中，所述玻璃基板包括相对设置的第一表面和第二表面，其中，所述第一表面紧贴所述第一反射膜，所述制作装置还包括:第三沉积模块，用于在所述玻璃基板的第二表面上分散沉积多个黑色矩阵。结合第二方面，在第二方面的第二种可能的实现方式中，所述玻璃基板包括第一表面，所述第一表面紧贴所述第一反射膜，所述制作装置还包括:第三沉积模块，用于在所述玻璃基板的第一表面上分散沉积黑色矩阵，其中，所述黑色矩阵的厚度小于所述第一反射膜的厚度。结合第二方面，在第二方面的第三种可能的实现方式中，所述三种厚度的光阻层分别对应透射红色光波、绿色光波和蓝色光波。结合第二方面，在第二方面的第四种可能的实现方式中，形成的所述第一反射膜和所述第二反射膜具有相同的参数，所述参数包括材质和/或厚度。结合第二方面、第二方面的第一至第四种可能的实现方式中的任意可能实现的方式，在第二方面的第五种可能的实现方式中，所述曝光模块具体用于照射带有通光孔的光罩，以使光线透过所述通光孔并照射在所述光阻层上，所述光罩上开设有三种排列密度的通光孔，以使光线透过所述三种排列密度的通光孔后分别形成三种光照强度的光线，并照射在所述光阻层的三种像素区域上，其中，每一种光照强度的光线对应照射在一种像素区域上。通过实施本专利技术实施例，在制作TFT-1XD中的带通滤光结构时，使用三种不同强度的光照射有机光阻材料，使之发生光反应，再进过显影处理，可以一次性形成三种光阻，极大地提高了制作Fabry-Perot带通滤光结构的效率。另外，由于制作手段主要是光照，因此能达到较好的节能环保的效果。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种彩色滤光片的制作方法的流程示意图；图2?6是通过图1所示流程得到的彩色滤光片的结构示意图；图7?8是本专利技术实施例提供的两种彩色滤光片的结构示意图；图9是本专利技术实施例提供的一种彩色滤光片的制作装置的结构示意图；图10是本专利技术实施例提供的另一种彩色滤光片的制作装置的结构示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本专利技术，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸地连接，或者一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。需要说明的是，在本专利技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本专利技术。在本专利技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括：在预设的玻璃基板上沉积第一反射膜；在所述第一反射膜上涂布光阻层；对所述光阻层的三种像素区域进行曝光处理以形成包括三种不同厚度的光阻层；对经过曝光处理的三种像素区域进行显影处理，以使所述光阻层的第一面固定设置于所述第一反射膜上；及在所述三种不同厚度的光阻层的第二面上沉积第二反射膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：任维，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42