一种片式电子元器件内电极的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种片式电子元器件内电极的制备方法，包括如下步骤：(1)在干净平整的料片的表面上印刷一层平整的感光导电金属浆料并烘干；(2)利用具有与内电极图案一致的图案的第一掩膜板，对所述感光导电金属浆料进行紫外曝光；(3)对曝光后的料片显影并烘干，在所述料片上形成初步的内电极图案；(4)在料片的具有初步的内电极图案的一面上旋涂一层均匀的感光浆料并烘干；(5)利用具有与内电极图案一致的图案的第二掩膜板，对所述感光浆料进行紫外曝光；(6)对曝光后的料片显影并烘干，在所述料片上形成完整的内电极图案。本发明专利技术形成的内电极与料片之间不存在厚度差，解决了内电极叠层过程中易导致的内电极变形及叠层偏位等不良。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种片式电子元器件内电极的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在干净平整的料片的表面上印刷一层平整的感光导电金属浆料并烘干；(2)利用具有与内电极图案一致的图案的第一掩膜板，对所述感光导电金属浆料进行紫外曝光；(3)对经所述步骤(2)曝光后的料片显影并烘干，在所述料片上形成初步的内电极图案；(4)在料片的具有初步的内电极图案的一面上旋涂一层均匀的感光浆料并烘干；(5)利用具有与内电极图案一致的图案的第二掩膜板，对所述感光浆料进行紫外曝光；(6)对经所述步骤(5)曝光后的料片显影并烘干，在所述料片上形成完整的内电极图案。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈先仁，王清华，余洪学，覃杰勇，
申请(专利权)人：深圳顺络电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44