Pretreatment method for preparing large area BDD electrode by CVD method. CVD method is a general method for preparing diamond electrode, prepared by the key of large area diamond electrode is pretreatment, that large, uniform hole is formed on the substrate surface, further in the hole planting large and uniform crystal diamond. The alloy electroplating method of the present invention is a good method for forming a large number of uniform holes on the surface of the base material. The substrate of titanium or niobium as cathode, titanium or niobium chloride and ferric chloride mixture as plating solution, plating, alloy titanium or niobium and iron plating on the surface of the cathode, the cathode removed, using hydrochloric acid soak, to dissolve the alloy of iron, iron dissolved after leaving the cathode surface uniform hole.
【技术实现步骤摘要】
一种CVD法制备大面积BDD电极的预处理方法
本专利技术涉及金刚石电极的制备方法。涉及利用化学气相沉积法(CVD)制备大面积掺硼金刚石电极(BDD)的预处理方法。
技术介绍
纯金刚石不导电,无法作为电极使用。在金刚石晶体中掺一定比例的硼元素,则成为很好的导体。掺硼金刚石电极(BDD)作为阳极用于污水处理,其性能比目前的常用的钛基贵金属电极(DSA电极)优势明显,其析氧电位高,电解的效率是钛基贵金属电极的5倍以上,且金刚石本身的稳定性好,电极寿命长。BDD电极用于污水处理的优良性能已经被大量报道,如专利CN201210514062、CN201210514054、CN201210514000公开的内容。BDD电极在污水处理中应用的难点是大面积BDD电极的指标。所谓大面积,是指面积大于100平米里面的电极。一平米厘米的BDD电极的制备已是成熟的技术,而大面积BDD电极的制备仍是难点。化学气相沉积法(CVD)是制备金刚石薄膜的通用方法。CVD法制备大面积BDD的技术难点有三:其一,基材的预处理,即均匀地将金刚石晶种种植于基材表面;其二,CVD实施过程中,温度场的均匀分布;其三,CVD实施过程中,温度场的均匀分布。而第一个技术难点是关键。基材的预处理报道的有两种方法,一种为表面化学腐蚀法,如韩国公开专利公报第10-2006-0051632报道的氟腐蚀法。更多的尝试是配置王水,对基础钛或铌进行表面腐蚀;第二种为机械打磨法,该法更普遍的应用。如硕士论文编号102870513-S065中使用的方法,如专利200610023442.3所公开的预处理方法。上述两种方法都有明显 ...
【技术保护点】
将基材钛或铌作为阴极,钛或铌的氯化物与氯化铁的混合物作为电镀液,进行电镀处理,钛或铌与铁的合金镀在阴极表面后,阴极取出,用盐酸浸泡,以溶解出合金中的铁,溶出铁后,阴极表面留下均匀的孔,在孔内种植金刚石的微晶后,即可作为CVD法制备大面积BDD电极的基材。
【技术特征摘要】
1.将基材钛或铌作为阴极,钛或铌的氯化物与氯化铁的混合物作为电镀液,进行电镀处理,钛或铌与铁的合金镀在阴极表面后,阴极取出,用盐酸浸泡,以溶解出合金中的铁,溶出铁后,阴极表面留下均匀的孔,在孔内种植金刚石的微晶后,即可作为CVD法制备大面积BDD电极的基材。2.如权利要求1所述的电镀工艺,阴极镀层的厚度为2~20微米,优选为6~...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘雅妮,左卫雄,
申请(专利权)人:昆山美淼环保科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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