【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子元器件封装
,特别是涉及一种塑封后可省去电镀工艺的IC封装。
技术介绍
目前IC封装普遍采用的工艺是:磨片一划片一装片一键合一塑封一电镀一激光打印一切筋一测试一包装,引脚部位裸铜,塑封完后需再镀锡,这种方法生成的IC封装存在以下缺点:(I)封装生产周期较长;(2 )成本过高,封装后再电镀价格较高;(3 )镀锡过程中容易混料,即是不同功能的IC混在一起,从而导致产品不能使用。并且,这种IC封装引脚不够光滑,不够耐磨,产品颜色一致性不是太好,不美观。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中存在的问题而设计的一种IC封装,在经过前述装片工艺键步骤后成型的的铜引线框架上依次镀上镍层、钯层和金层。这种结构产品的引脚更光滑,更耐磨,产品颜色一致性更好,深受国内外客户喜爱。本技术所要求解决的技术问题可以通过以下技术方案来实现:一种IC封装,包括引线封装,所述引线封装从内到外依次覆盖镍层、钯层和金层。所述镍层厚度为0.2-0.35微米。所述钯层厚度为0.2-0.35微米。所述金层厚度为0.03-0.06微米。由于采用了如上技术方案,本技术具有如下特点:产品的弓I脚更光滑,更耐磨,产品颜色一致性更好,深受国内外客户喜爱。【附图说明】图1为本技术部分结构示意图。【具体实施方式】为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本技术。如图1所示,本技术包括引线封装1.经过磨片、划片和装片工艺后得到引线封装I,接着在整个引线框架I全部先镀上0.2-0.35微米镍层2,再镀上一层0.2-0 ...
【技术保护点】
一种IC封装,包括引线框架,其特征在于,所述引线框架从内到外依次覆盖镍层、钯层和金层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:廖红伟,朱辉兵,
申请(专利权)人:武汉芯茂半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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