【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
式Ⅰ化合物或其衍生物或其盐:其中,R1和R4各自为OH或OA,A为低级烷基;R2、R3、R5和R6各自为H或低级烷基;R7为OH、低级烷氧基或低级酰氧基;X为卤素;n为1至8中任一自然数。
【技术特征摘要】
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