基胎的制造方法和基胎技术

本发明专利技术的目的在于提供一种基胎和基胎的制造方法，其中不限制抛光后的基胎的形状，通过以使得硫化成型的基胎的抛光余量最优化的方式设定橡胶层的厚度而使基胎橡胶层具有适当的厚度。一种基胎的制造方法，所述基胎包括带束层、位于该带束层的并且用于提供胎面的、具有特定宽度的最外橡胶层和位于该最外橡胶层的宽度方向两侧的位置的端部橡胶构件，其中：将所述最外橡胶层的损耗角正切tanδ设定为比所述端部橡胶构件的损耗角正切tanδ低；将该最外橡胶层的赤道部处的抛光前厚度(A1)设定为抛光后厚度(A2)×150％或更少；并且将抛光后厚度(A2)设定在1mm至3.5mm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用作轮胎的基部的基胎的制造方法，更具体地，涉及一种在随后的步骤中配设胎面橡胶的基胎的制造方法和通过该方法制造的基胎。
技术介绍
在一种已知的轮胎的制造方法中，用作轮胎基部的新制造的基胎和胎面橡胶单独硫化成型。于是，带状或环状的硫化成型胎面橡胶被贴附到在基胎的外周面上设置的粘合层，该粘合层是胎面橡胶用的贴附面。于是，基胎和胎面橡胶被硫化成为一体的产品轮胎。基胎的供胎面橡胶贴附的外周面在硫化成型作业中形成为平滑的弯曲面。然而，按照这种方法，一旦外周面被抛光而使胎面橡胶用的贴附面形成为预定形状，则在设定用于将胎面橡胶粘合到贴附面的粘合层后将胎面橡胶配设到贴附面。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平08-230072号公报专利文献2:日本特开2010-173139号公报专利文献3:日本特开2011-025853号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题硫化成型的基胎的外周面被抛光以将贴附面形成预定形状。然而，在抛光前外周面橡胶层必须存在适当的抛光余量，以确保抛光后贴附面和带束层之间残留适当的厚度。因此，以往，通过使轮胎的带束层中位于径向最外位置的最外带束起的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基胎的制造方法，所述基胎具有带束层、设置在该带束层的上部的用于配设胎面且具有预定宽度的最外橡胶层和位于该最外橡胶层的宽度方向两侧的位置的端部橡胶构件，所述方法包括：通过以下方式抛光所述基胎：将所述最外橡胶层的损耗角正切tanδ设定为比所述端部橡胶构件的损耗角正切tanδ低，将该最外橡胶层的赤道部处的抛光前厚度A1设定为抛光后厚度A2×150％或更少，并且将抛光后厚度A2设定在1mm至3.5mm的范围。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：川越健次，
申请(专利权)人：株式会社普利司通，
类型：发明
国别省市：日本;JP