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基胎的制造方法和基胎技术
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文档序号:11319234
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本发明的目的在于提供一种基胎和基胎的制造方法,其中不限制抛光后的基胎的形状,通过以使得硫化成型的基胎的抛光余量最优化的方式设定橡胶层的厚度而使基胎橡胶层具有适当的厚度。一种基胎的制造方法,所述基胎包括带束层、位于该带束层的并且用于提供胎面的...
该专利属于株式会社普利司通所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社普利司通授权不得商用。
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