铈基磨料和铈基磨料的制造方法技术

本发明专利技术是铈基磨料，其特征在于在主要组分为氧化铈和磨料颗粒的平均粒径为０．２－３．０微米的氧化铈基磨料中，粒径不小于１０微米的粗颗粒的浓度不大于１０００ｐｐｍ（重量），和／或磁性颗粒的浓度不大于１０００ｐｐｍ（重量）。这些粗颗粒和磁性颗粒特别优选不大于３００ｐｐｍ（重量）。而且，由于包含表面积平均值为０．５－３０米＃＋［２］／克的磨料颗粒，此磨料具有更高磨削性和能形成精度更高的研磨面。这种铈基磨料的制造方法是控制粗颗粒的浓度分级点和重复进行分级。对于磁性颗粒浓度的控制可单独或适当结合使用由磁性材料制成的过滤器的方法和改变粉碎介质的方法。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及研磨精度佳和磨削性好的主要组分为氧化铈的铈基磨料。
技术介绍
近年来，氧化铈(CeO2)为主要组分的铈基磨料已用于研磨各种玻璃材料。特别是铈基磨料已用于研磨从以前的常用平板玻璃到最近的电气、电子器械用的硬盘等磁性纪录介质的玻璃、液晶显示器(LCD)的玻璃基板等玻璃材料，其应用领域拓宽了。这种铈基磨料包含氧化铈(CeO2)颗粒作为主要组分的磨料颗粒。而根据氧化铈的含量，将铈基磨料大致分为高铈磨料(high cerium abrasive)和低铈磨料。高铈磨料含有不小于稀土金属氧化物总含量(以下称为TREO)的70重量％的氧化铈，是氧化铈的含量较多的磨料，低铈磨料是氧化铈含量较少、约为TREO的50％的磨料。虽然这种铈基磨料的氧化铈含量和原料不同，但在原料制成后的制造过程中没有多大差异。附图说明图1所示的是这种铈基磨料的制造步骤。高铈磨料的原料是由称为独居石的稀土矿经化学处理和浓缩制成的稀土金属氯化物。另一方面，以前低铈磨料的原料大多是称为氟碳铈镧矿的稀土矿经选矿而成的氟碳铈镧矿精矿，近年所用的原料大多是用氟碳铈镧矿和较为廉价的中国产复合矿为原料所合成的稀土金属氧化物或本文档来自技高网...

【技术保护点】
铈基磨料，其特征在于在主要组分为氧化铈和磨料颗粒的平均粒径为０．２－３．０微米的氧化铈基磨料中，粒径不小于１０微米的粗颗粒的浓度以重量计不大于１０００ｐｐｍ。

【技术特征摘要】
JP 2000-10-2 301624/00;JP 2000-10-2 301791/001.铈基磨料，其特征在于在主要组分为氧化铈和磨料颗粒的平均粒径为0.2-3.0微米的氧化铈基磨料中，粒径不小于10微米的粗颗粒的浓度以重量计不大于1000ppm。2.如权利要求1所示的铈基磨料，其特征在于所述的粒径不小于10微米的粗颗粒的浓度以重量计不大于300ppm。3.铈基磨料，其特征在于在主要组分为氧化铈和磨料颗粒的平均粒径为0.2-3.0微米的氧化铈基磨料中，磁性颗粒浓度以重量计不大于1000ppm。4.如权利要求1所述的铈基磨料，其特征在于所述的磁性颗粒浓度以重量计不大于300ppm。5.如权利要求1-4中任何一项所述的氧化铈基磨料，其特征在于所述的磨料颗粒的比表面积平均值为0.5-30米2/克。6.铈基磨料的制造方法，它包括以下步骤将磨料原料和分散介质混合成浆液，用湿式粉碎机处理所述浆液以使所述磨料原料湿式粉碎，对粉碎后的所述磨料原料进行过滤和干燥然后焙烧，对焙烧后的所述磨料原料进行干式粉碎然后进行分级处理，其特征在于它通过将分级点控制在0.5-15微米范围内而进行所述的分级处理。7.如权利要求6所述的铈基磨料的制造方法，其特征在于它还包括对经分级处理后的所述磨料至少重复分级一次的步骤。8.铈基磨料的制造方法，它包括以下步骤将磨料原料和分散接枝混合成浆液，用湿式粉碎...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤昭文，山崎秀彦，望月直义，内野义嗣，
申请(专利权)人：三井金属鉱业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]