抗腐蚀稀土金属基永磁体的制造方法、抗腐蚀稀土金属基永磁体技术

一种抗腐蚀稀土金属基永磁体的制造方法，其特征在于该方法包含：提供含水处理液，其包含烷基硅酸酯水解聚合产物和平均粒径为１至５０微米的细锌颗粒，并且ｐＨ值为６至８且粘度为１０００ｃＰ或更小；在稀土基永磁体的表面上施用处理液，以及使所得磁体在２５０℃至４００℃下接受热处理，从而形成其中分散细锌颗粒的抗腐蚀薄膜。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种稳定且简单的方法来制造在其表面上具有其中分散了细锌颗粒的抗腐蚀薄膜的稀土金属基永磁体；由所述方法制造的抗腐蚀稀土金属基永磁体；适于在不同形状的薄型工件上形成涂层膜的浸渍旋涂方法；以及在工件上形成涂层膜的方法。
技术介绍
稀土金属基永磁体，举例来说由Nd-Fe-B基永磁体代表的R-Fe-B基永磁体，或者由Sm-Fe-N基永磁体代表的R-Fe-N基永磁体等，使用资源丰富的廉价材料并且具有高磁性，特别是在其中，R-Fe-B基永磁体现在在许多领域中使用。但是，因为稀土金属基永磁体包含高度反应性的稀土元素R，所以它们易于被氧化并且在环境中被腐蚀，并且在不施用任何表面处理下使用的情况中，腐蚀在少量的酸性或碱性物质或水存在时趋向于从表面进行，产生锈蚀，这会引起磁性的退化和波动。另外，在这种生锈的磁体被嵌入磁路和类似器件的情况中，担心铁锈扩散，从而污染周围的组件。尽管给稀土金属基永磁体赋予抗腐蚀性有大量的方法，但是使用硅化合物作为原材料在稀土金属基永磁体表面上形成抗腐蚀薄膜的方法是公知的。最近，许多研究旨在进一步改善这种抗腐蚀薄膜的性能。举例来说，日本专利特许公开2000-18本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种抗腐蚀稀土金属基永磁体的制造方法，其特征在于该方法包含提供含水处理液，其包含烷基硅酸酯水解聚合产物和平均粒径为1至50微米的细锌颗粒，并且pH值为6至8且粘度为1000cP或更小；在稀土基永磁体的表面上施用处理液，以及使所得磁体在250℃至400℃下接受热处理，从而形成其中分散细锌颗粒的抗腐蚀薄膜。2.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于所述细锌颗粒是片状颗粒。3.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于所述含水处理液中作为原材料的烷基硅酸酯和细锌颗粒的总含量占据了40％重量至90％重量，其中烷基硅酸酯含量转化成SiO2含量。4.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于所述含水处理液中作为原材料的烷基硅酸酯和细锌颗粒的混合比为1∶1至1∶19，按重量比其中烷基硅酸酯含量转化成SiO2含量。5.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于在所述含水处理液中添加有机分散剂。6.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于所述其中分散细锌颗粒的抗腐蚀薄膜的膜厚为1微米至50微米。7.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于在所述其中分散细锌颗粒的抗腐蚀薄膜中附加分散其它的细无机颗粒。8.如权利要求1要求的制造方法，其特征在于通过浸渍旋涂方法向稀土金属基永磁体的表面施用所述含水处理液。9.如权利要求8要求的制造方法，其特征在于通过使用粘度为300cP至600cP的含水处理液来实施所述方法。10.如权利要求8要求的制造方法，其特征在于如下实施所述浸渍旋涂方法将多个稀土金属基永磁体支撑在可以绕着用作旋转轴的垂直中心轴旋转的转台的大约外围边缘部分上，通过将上面带有稀土金属基永磁体的转台浸入含水处理液罐中而用含水处理液浸涂稀土金属基永磁体，并且在从处理液中取出所得的转台后，旋转转台，以离心方式除去过量粘附到稀土金属基永磁体上的含水处理液。11.如权利要求10要求的制造方法，其特征在于以大约为环状的布局将所述多个稀土金属基永磁体支撑在转台大约外围边缘部分上。12.如权利要求10要求的制造方法，其特征在于所述稀土...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉村公志，大谷智郁，
申请(专利权)人：株式会社新王磁材，
类型：发明
国别省市：