一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置制造方法及图纸

一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置，是由：墙体、长加热模块、长加热模块正极、长加热模块负极、短加热模块、短加热模块正极、短加热模块负极、矩形加热模块、正负极输入输出孔、定位器构成；加热的结构及其方法简单，设计科学合理，使用方便、操作容易快捷；确保在大型连续性生产氧化铟锡膜中，通过控制对磁控溅射磁悬浮车靶的各部位的加热温度，使ITO薄膜得到整版均匀性良好的电阻，明显提高ITO薄膜的产品质量，大大提高工作效率，节约生产成本，延长使用寿命2倍以上，节能环保。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置
本技术涉及ITO膜加热装置，尤其是一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热 目.0
技术介绍
ITO透明导电膜即掺杂铟锡氧化物薄膜，简称ITO薄膜，是Indium Tin Oxide的缩写。ITO薄膜是一种η型半导体材料，其具有许多优异的物理、化学性能，例如较高的可见光透过率和导电率，与大部分衬底具有良好的附着性，较强的硬度及良好的抗酸、碱及有机溶剂能力，因此，被广泛应用于光电器件中。比如:液晶显示器(IXD)，等离子显示器(TOP)，电极放光显示器(EL/0LED)，触摸屏，太阳能电池及其他电子仪表中。 目前，ITO薄膜的制备方法很多，常见的有:喷涂法、真空蒸发法、化学气相沉积、反应离子注入以及磁控溅射等。在这些制备方法中，目前磁控溅射法是用的最普遍的。由于磁控溅射具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜，因此被广泛应用于显示器件中ITO薄膜的制备。磁控溅射制备ITO薄膜，主要是利用直流(DC)电源在Ar溅射气体和充分氧化Ar/02混合气体中产生等离子体，对In-Sn合金靶或In203，Sn02氧化物靶或陶瓷靶进行轰击，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置，是由：墙体(1)、长加热模块(2)、长加热模块正极(2‑2)、长加热模块负极(2‑3)、短加热模块(3)、短加热模块正极(3‑2)、短加热模块负极(3‑3)、矩形加热模块(4)、正负极输入输出孔(4‑2)、定位器(5)构成；其特征在于：墙体(1)一侧的中部设置长加热模块组，长加热模块组的上方设置短加热模块组，下方设置矩形加热模块组。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置，是由:墙体(I)、长加热模块(2)、长加热模块正极(2-2)、长加热模块负极(2-3)、短加热模块(3)、短加热模块正极(3-2)、短加热模块负极(3-3)、矩形加热模块(4)、正负极输入输出孔(4-2)、定位器(5)构成；其特征在于:墙体(I) 一侧的中部设置长加热模块组，长加热模块组的上方设置短加热模块组，下方设置矩形加热模块组。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置，其特征在于:所述的长加热模块组由至少五块长加热模块(2)并列设置组成，每块长加热模块(2)上方中部设置长加热模块正极(2-2)和长加热模块负极(2-3)。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置，其特征在于:所述的短加热模块组由至少两块短加热模块(3)并排设置组成...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦遵红，王恋贵，董安光，谭华，
申请(专利权)人：洛阳康耀电子有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41