【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带电粒子光刻系统和射束产生器
本专利技术涉及一种带电粒子射束产生器。本专利技术进一步涉及一种带电粒子射束光刻 系统。
技术介绍
在半导体工业中,越来越需要以高精确性与可靠度来制造更小的结构。光刻术是 此种制造过程的关键部分。目前,大部分的商用光刻系统使用光射束和掩膜作为再生用于 曝光目标的图案数据的构件,例如,其上有光阻涂层的晶圆。在无掩膜的光刻系统中,可能 会使用带电粒子子射束(chargedparticlebeamlet)将图案转印至此目标上。该子射束 可以个别控制,用于取得所希望的图案。 然而,为让这样的带电粒子光刻系统具有商业可行性(commerciallyviable),它 们必须应付特定的最小生产量,也就是,每小时所处理的晶圆的数量不应该太低于目前利 用光学光刻系统所处理的每小时的晶圆的数量。再者,该带电粒子光刻系统还必须符合低 误差容限(lowerrormargin)。相对高的生产量以及符合低误差容限的需求的组合具有挑 战性。 藉由使用更多的子射束可以获得较高的生产量,且所以,需要更多的电流。然而, 操控较大数量的子射束却导致需要更多的控制电路系统。再者,提高电流会导致更多的带 电粒子,其与该光刻系统中的器件产生相互作用。该电路系统以及带电粒子撞击器件两者 都可能导致该光刻系统里各个器件的加热。该加热可能降低该光刻系统内的图案化处理的 精确性。在最糟的情况中,这种加热可能会阻止该光刻系统内的一或多个器件使其无法发 挥功能。 再者,使用大量的子射束会提高因为该子射束之间的相互作用(举例来说,库仑 相互作用 ...
【技术保护点】
一种用于曝光目标(13)的带电粒子光刻系统(1),所述系统包括:带电粒子射束产生器,用于产生带电粒子射束;孔径阵列(6),用于从所述带电粒子射束形成多个子射束;以及子射束投射器(12),用于将所述子射束投射于所述目标的表面上,其中,所述带电粒子射束产生器包括:带电粒子源(3),用于产生发散的带电粒子射束;准直器系统(5a、5b、5c、5d;72;300),用于折射所述发散的带电粒子射束;以及抽吸系统的一个或多个开口;高电压屏蔽配置(201),用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件,避免受到所述高电压屏蔽配置内的高电压影响;以及冷却配置(203),用于移除热量;其中所述一个或多个开口位于所述高电压屏蔽配置和所述冷却配置之间。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.14 US 61/646,8391. 一种用于曝光目标(13)的带电粒子光刻系统(1),所述系统包括: 带电粒子射束产生器,用于产生带电粒子射束; 孔径阵列¢),用于从所述带电粒子射束形成多个子射束;以及 子射束投射器(12),用于将所述子射束投射于所述目标的表面上,其中,所述带电粒子 射束产生器包括: 带电粒子源(3),用于产生发散的带电粒子射束; 准直器系统(5a、5b、5c、5d ;72 ;300),用于折射所述发散的带电粒子射束;以及 抽吸系统的一个或多个开口; 高电压屏蔽配置(201),用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件,避免受到所述高 电压屏蔽配置内的高电压影响;以及 冷却配置(203),用于移除热量; 其中所述一个或多个开口位于所述高电压屏蔽配置和所述冷却配置之间。2. 根据权利要求1所述的光刻系统,其中,所述一或多个开口是一或多个泵(220)的一 部分,所述一或多个泵位于所述高电压屏蔽配置与所述冷却配置之间。3. 根据权利要求2所述的光刻系统,其中,所述一或多个泵为吸气剂泵或升华泵。4. 根据权利要求1至3中任一项所述的光刻系统,其中,所述带电粒子源位于第一真空 腔室(102)中,并且所述准直器系统、所述高电压屏蔽配置、所述冷却配置以及所述抽吸系 统的所述开口位于第二真空腔室(103)中。5. 根据权利要求4所述的光刻系统,其中,孔径阵列位于所述第二真空腔室中所述准 直器系统的下游处。6. 根据权利要求4或5所述的光刻系统,其中,所述第一真空腔室位于所述第二真空腔 室中。7. 根据权利要求4或5所述的光刻系统,其中,所述第一真空腔室与所述第二真空腔室 位于第三真空腔室中。8. 根据前述权利要求中任一项所述的光刻系统,其中,所述高电压屏蔽配置包括金属 丝网结构。9. 根据前述权利要求中任一项所述的光刻系统,其中,磁屏蔽配置(205)包围所述冷 却配置。10. 根据权利要求9所述的光刻系统,其中,所述磁屏蔽配置包括包括mu金属的一或多 个板。11. 根据权利要求9或10所述的光刻系统,其中,所述准直器系统包括适用于接收超过 500eV电压的一或多个透镜结构(5b ;5d),并且其中,所述产生器进一步包括电线(210),以 提供所述电压给所述一或多个透镜结构。12. 根据权利要求11所述的光刻系统,其中,所述磁屏蔽配置内的电线为直的。13. 根据前述权利要求中任一项所述的光刻系统,其中,所述准直器系统包括包括三个 电极(5a、5b、5c)的 Einzel 透镜。14. 根据权利要求13所述的光刻系统,进一步包括位于所述Einzel透镜下游处的孔径 阵列,且其中,所述抽吸系统的所述一或多个开口位于所述Einzel透镜与所述孔径阵列之 间。15. 根据权利要求13或14所述的光刻系统,其中,所述准直器系统包括其中具有凹腔 的主体,其中,所述凹腔被构造成使得所述凹腔的表面充当所述Einzel透镜的外电极,且 其中,所述Einzel透镜的中央电极(5b)藉由连接所述中央电极...
【专利技术属性】
技术研发人员:AHV范维恩,
申请(专利权)人:迈普尔平版印刷IP有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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