一种含铜杂原子多晶分子筛及其制备方法技术

技术编号:11160347 阅读:63 留言:0更新日期:2015-03-18 16:10
本发明专利技术公开了一种含铜杂原子多晶分子筛及其制备方法,以分子筛总重量计,含铜ANA晶相分子筛含量为5%~30%,含铜CHA晶相分子筛含量为70%~95%;多晶分子筛中氧化铜总含量为15%~20%。制备方法如下:将铝源、氢氧化钠和水混合均匀,然后依次加入铜源、模板剂混合均匀,然后加入硅源,反应生成混合物凝胶,晶化、洗涤、干燥、焙烧得到含铜杂原子多晶分子筛。本发明专利技术多晶分子筛性能稳定,含铜量高且不易流失,在NH3选择性还原氮氧化物的反应中具有潜在的应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于分子筛合成领域,具体说涉及一种含铜杂原子多晶分子筛及其制备方 法。
技术介绍
杂原子沸石的合成和应用上世纪70年代起一直相当活跃。以杂原子同晶取代沸 石的骨架元素,可以改善沸石的吸附和催化等性能。分子筛上硅或铝被其它元素磷、硼、铁、 钛、铬、钒等同晶取代即得杂原子分子筛。将杂原子引入分子筛骨架,不仅对分子筛催化剂 的酸性、表面性能起到调节作用,同时杂原子自身的催化特性,有利于分子筛催化剂实现多 功能催化。 由于铜原子特有的性质使得含铜原子的分子筛,在变压吸附、醇类脱水和氮化物 还原反应中表现出了优异的催化性能。臧玉魏等(改性Cu-ZSM-Il和Cu-ZSM-5分子筛催化 分解一氧化氮性能,硅酸盐学报,2009,第37卷第11期)采用一步交换的方法将铜离子负载 到ZSM-5和ZSM-Il分子筛上制备了一氧化氮分解催化剂,反应结果表明,该催化剂具有良 好的催化性能,转化率达到了 70%以上。王坤鹏等(Cu/ZSM-5分子筛催化剂SCR催化性能, 燃烧科学与技术,2012,第18卷第1期)采用浸渍的方法制备了含铜的催化剂,在实验反应 气流速为6父10 411_1,順3和勵!£物质的量比为1.1:1的实验条件下,170~1901:范围内达到接 近100%的最高转化效率。催化结果表明在铜含量达到6. 39%的时候,活性中心达到饱和, 催化性能最佳。可以看出铜元素对一氧化氮的转化具有很好的催化活性。 CHA分子筛以其具有高的水热和热稳定性以及八元环的孔道结构,在MTO以及NH3 还原消除NOx等反应中展现了很好的催化性能。CN101973562A报道了一种含铜杂原子分子 筛的制备方法,该方法通过以金属铜与有机胺形成稳定的络合物为模板剂,采用水热的方 法制备了不同类型的含铜杂原子分子筛。该专利的专利技术人随后在由新型铜胺络合物模板 剂设计合成活性优异的Cu-SSZ-13分子筛(催化学报,2012,01期,92~105)-文中,将含 铜杂原子SSZ-13分子筛应用于NH 3还原消除NOx具有很好的催化性能,但是其制备的在原 子分子筛中的铜元素在铵交换过程中流失严重,经过两次常规的铵交换后其铜含量从10% 降至6. 12%,若继续交换便可降低至3. 1%。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术提供。本 专利技术多晶分子筛性能稳定,含铜量高且不易流失。 本专利技术含铜杂原子多晶分子筛,以多晶分子筛总重量计,含铜ANA晶相分子筛含 量为59Γ30%,含铜CHA晶相分子筛含量为709Γ95%,多晶分子筛中氧化铜总含量为159Γ20%, 比表面为35(T520m 2/g,孔体积为0· 15?0· 2ml/g。 本专利技术多晶分子筛中,CHA晶相中铜的氢气程序升温还原(H2-TPR)温度为 12(Tl60°C,ANA晶相中铜的氢气程序升温还原温度为30(T370°C。 本专利技术含铜杂原子多晶分子筛的制备方法,包含如下内容:将铝源、氢氧化钠和 水混合均匀,然后依次加入铜源、模板剂混合均匀,然后加入硅源,反应生成混合物凝胶,晶 化、洗涤、干燥、焙烧得到含铜杂原子多晶分子筛。 本专利技术方法中,所述的铝源为偏铝酸钠或硫酸铝,铜源为硫酸铜或硝酸铜,模板剂 为四乙烯戊胺,硅源为硅溶胶或白炭黑。本专利技术方法中的混合过程在搅拌条件下进行,其中 加入模板剂后需至少搅拌1~2小时。 本专利技术方法中,反应原料以下列物质计的摩尔比为:4. 5飞Na2O: I. 5-2. 2R:1. 6?1. 9Cu0:A1203:5. 5?8. 0Si02:120?150H20,其中 R 为模板剂。 本专利技术方法中,所述的晶化条件为13(T150°C晶化:TlO天。 本专利技术含铜杂原子多晶分子筛的优点在于:在合成过程中通过将铜源与铝源充分 混合均匀,控制合成条件生成了两种晶相的多晶分子筛,铜元素分别进入ANA和CHA分子筛 的骨架,防止在分子筛处理过程中和反应过程中铜元素的流失,提高了催化剂的稳定性。分 子筛处理过程表明,在多晶分子筛铵交换过程中,氧化铜的含量没有发生任何变换。多晶分 子筛的氢气程序升温还原(H 2-TPR)实验表明,CHA晶相中铜的氢气程序升温还原(H2-TPR) 温度为12(T160°C,ANA晶相中铜的氢气程序升温还原温度为30(T37(TC。与氧化铜以及含 铜的CHA分子筛的还原温度(20(T30(TC)不同,其中多晶分子筛中由于ANA晶相的存在,使 得CHA晶相中铜的还原温度大幅降低,就相当于大大提高了在反应中的反应活性。本专利技术 多晶分子筛中的铜元素非常稳定,不易流失,在NH 3选择性还原氮氧化物的反应中具有潜在 的应用价值。 【附图说明】 图1是本专利技术实施例1合成分子筛的XRD衍射图。 图2是本专利技术实施例1合成分子筛的氢气程序升温还原(H2-TPR)谱图。 【具体实施方式】 下面结合实施例进一步说明本专利技术的制备过程。 含铜杂原子多晶分子筛的H2-TPR表征。合成的样品产物在110°C干燥24小时后, 在马弗炉中550°C恒温焙烧6小时脱出模板剂。H 2-TPR条件:预处理条件,300°C恒温条件 下,采用30ml/min的氦气对样品吹扫I. 0小时,脱出杂质,冷却至室温。还原条件,在30ml/ min的10v%氢气与氦气的混合气体持续通过的条件下,从还原温度从室温开始以10°C /min 升温至900°C。 实施例1 在室温条件下,将铝酸钠与氢氧化钠加入到去离子水中,搅拌均匀后,然后将硫酸铜加 入到溶液中,搅拌均匀后,将模板剂加入到上述溶液中,继续搅拌2小时,最后将硅源加入 到混合溶液中,得到反应混合物凝胶体系,在密闭条件下,于140°C晶化时间为6天,得到含 铜杂原子多晶分子筛。产物性质见表1。反应原料摩尔比(以氧化物计):48Na 20:1. 8R: 1. 7 CuO: Al2O3: 7Si02:130H20,模板剂R为四乙烯戊胺。 实施例2 在室温条件下,将铝酸钠与氢氧化钠加入到去离子水中,搅拌均匀后,然后将硫酸铜加 入到溶液中,搅拌均匀后,将模板剂加入到上述溶液中,继续搅拌I. 5小时,最后将硅源加 入到混合溶液中,得到反应混合物凝胶体系,在密闭条件下,于135°C晶化时间为5天,得到 含铜杂原子多晶分子筛。产物性质见表1。反应原料摩尔比(以氧化物计):4. 7Na20:2. OR: I. 7Cu0:A1203:6. 5Si02:138H20,模板剂 R 为四乙烯戊胺。 实施例3 在室温条件下,将硫酸铝与氢氧化钠加入到去离子水中,搅拌均匀后,然后将硫酸铜加 入到溶液中,搅拌均匀后,将模板剂加入到上述溶液中,继续搅拌1. 5小时,最后将硅源加 入到混合溶液中,得到反应混合物凝胶体系,在密闭条件下,于138°C晶化时间为9天,得到 含铜杂原子多晶分子筛。产物性质见表1。反应原料摩尔比(以氧化物计):4. 9Na20:1. 6R: I. 8Cu0:A1203:7. 5Si02:140H20,模板剂 R 为四乙烯戊胺。 实施例4 在室温条件下,将铝酸钠与氢氧化钠加入到去离子水中,搅拌均匀后,然后将硫酸铜加 入到溶液中,搅拌均匀后本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种含铜杂原子多晶分子筛,其特征在于:以多晶分子筛总重量计,含铜ANA晶相分子筛含量为5%~30%,含铜CHA晶相分子筛含量为70%~95%;多晶分子筛中氧化铜总含量为15%~20%。

【技术特征摘要】
1. 一种含铜杂原子多晶分子筛,其特征在于:以多晶分子筛总重量计,含铜ANA晶相分 子筛含量为59T30%,含铜CHA晶相分子筛含量为709T95% ;多晶分子筛中氧化铜总含量为 159T20%。2. 按照权利要求1所述的分子筛,其特征在于:分子筛的比表面为35(T520m2/g,孔体 积为 〇? 15?0? 2ml/g。3. 按照权利要求1所述的分子筛,其特征在于:在CHA晶相中的铜的氢气程序升温还 原温度为12(Tl60°C,ANA晶相中铜的氢气程序升温还原温度为30(T370°C。4. 一种权利要求1所述的含铜杂原子多晶分子筛的制备方法,其特征在于包含如下内 容:将铝源、氢氧化钠和水混合均匀,然后依次加入铜源、模板剂混合均匀,然后加入硅源, 反应生成混合物凝胶,晶化、洗涤、干燥、焙烧...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦波尹泽群宋喜军刘全杰
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院
类型:发明
国别省市:北京;11

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