【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于机器的处理站,以及用于控制机器的处理中的运动的控制装置和控制方法,其中,尤其有可能消除抓放机器人在传送系统的传送方向上运动的需要。
技术介绍
在用于生产物件的机器中,传送系统用于传送部件、工具等到机器的不同站点,所述部件、工具等可用于物件的生产。例如,这样的机器在US4,096,821中被描述,其公开了用于在基片上制造薄膜电子器件的系统。在这种机器中,通常传送系统包括传送带,以相同速度一个一个地传送基片到处理站。在处理站中,基片被从带上取下,这由在X、Y、Z和Θ方向运动的机器人处理,并且基片随后被放回到传送带上。于是,基片在处理站中静止不动,使得机器人可以在基片上拿取和放置物品。在那之后,所有基片随着传送带以相同速度被传送至下一个处理站。基片的这种操作需要许多操作步骤,因此是耗时的。结果,处理成本增加。此外,由于能够在X、Y、Z和Θ方向运动的机器人是昂贵的,导致了机器本身的高成本。这也带来了机器的处理成本的增加。
技术实现思路
因此本专利技术的目标是提供用于机器的处理站,以及用于控制机器的处理 ...
【技术保护点】
用于机器(1)的处理站(3、4),包括机器人(100、110),所述机器人(100、110)用于拿取和放置或操作负载(72),所述负载(72)被载体(70、80、90)传送,所述载体(70、80、90)能够通过磁力在传送系统(2)的特定传送方向上运动并被驱动装置(50)驱动,所述驱动装置(50)由第一控制单元(6)控制,其中,所述机器人(100、110)能够由第二控制单元(7)控制,以在与所述传送系统的所述特定传送方向不同的运动方向上运动,以便拿取和放置或操作所述负载(72),并且其中,用于传送所述负载(72)的所述特定传送方向和所述机器人(100、110)的所述运动方向被 ...
【技术特征摘要】
2013.08.22 EP 13181317.21.用于机器(1)的处理站(3、4),包括机器人(100、110),所述机器人(100、110)用于拿取和放置或操作负载(72),所述负载(72)被载体(70、80、90)传送,所述载体(70、80、90)能够通过磁力在传送系统(2)的特定传送方向上运动并被驱动装置(50)驱动,所述驱动装置(50)由第一控制单元(6)控制,其中,所述机器人(100、110)能够由第二控制单元(7)控制,以在与所述传送系统的所述特定传送方向不同的运动方向上运动,以便拿取和放置或操作所述负载(72),并且其中,用于传送所述负载(72)的所述特定传送方向和所述机器人(100、110)的所述运动方向被叠加,以在所述处理站(3、4)中操作或拿取和放置所述负载(72),以消除所述机器人(100、110)在所述传送系统(2)的所述传送方向上运动的需要,由此,通过将所述第一控制单元(6)的控制适应或耦合到由所述第二控制单元(7)控制的运动,用于在所述特定传送方向上传送所述负载(72)的控制和用于在所述运动方向上移动所述机器人(100、110)的控制是同步的,以便操作或拿取和放置所述负载(72)。
2.根据权利要求1所述的处理站(3、4),其中,所述处理站(3、4)包括多于一个机器人(100、110)。
3.根据权利要求1至2中任何一个所述的处理站(3、4),其中,所述处理站(3、4)被用在对于操作所述负载(72)而言需要高达约1 μm的定位精度的处理中。
4.根据权利要求1至3中任何一个所述的处理站(3、4),其中,所述处理站(3、4)是用于生产半导体元件的处理站。
5.机器(1),包括根据前述任何一个权利要求所述的至少一个处理站(3、4)并包括传送系统(2),所述传送系统(2)用于通过磁力在特定传送方向上传送至少一个载体(70、80、90),所述载体(70、80、90)被用作在所述机器(1)中传送将要被操作的负载(72),其中,所述传送系统(2)被布置为传送所述负载(72)到和/或离开所述至少一个处理站(3、4)。
6.根据权利要求5所述的机器(1),还包括第一控制单元(6)和第二控制单元(7),所述第一控制单元(6)用于控制所述载体(70、80、90)以通过磁力在特定传送方向上运动,所述第二控制单元(7)用于控制所述机器人(100)以在与所述传送系统(2)的所述特定传送方向不同的运动方向上运动以操作所述负载(72)。
7.根据权利要求5或6所述的机器(1),其中,所述传送系统(2)被配置为传送作为所述负载(72)的基片,并且所述一个或多个机器人(100、110)被配置为添加物品(113)到所述基片。
8.控制装置(5),用于控制机器(1)的处理中的运动,包括第一控制单元(6)和第二控制单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:M哈林,R希布斯,
申请(专利权)人:罗伯特·博世有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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