双极性薄膜晶体管制造技术

本发明专利技术涉及一种双极性薄膜晶体管，包括：一源极；一漏极，该漏极与该源极间隔设置；一半导体层，所述半导体层与所述源极及漏极电连接；以及，一栅极，该栅极通过一绝缘层与该半导体层、源极及漏极绝缘设置，定义所述栅极覆盖的所述半导体层的区域为沟道区域；其中，进一步包括两个导电过渡层分别设置在所述源极和漏极与所述半导体层之间，所述半导体层为一碳纳米管结构，所述导电过渡层的材料的功函数与所述半导体层的材料的功函数相同，所述导电过渡层延伸至所述沟道区域，且所述导电过渡层进入所述沟道区域的长度大于等于所述导电过渡层与所述栅极之间的间距。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种双极性薄膜晶体管，包括：一源极；一漏极，该漏极与该源极间隔设置；一半导体层，所述半导体层与所述源极及漏极电连接；以及，一栅极，该栅极通过一绝缘层与该半导体层、源极及漏极绝缘设置，定义所述栅极覆盖的所述半导体层的区域为沟道区域；其中，进一步包括两个导电过渡层分别设置在所述源极和漏极与所述半导体层之间，所述半导体层为一碳纳米管结构，所述导电过渡层的材料的功函数与所述半导体层的材料的功函数相同，所述导电过渡层延伸至所述沟道区域，且所述导电过渡层进入所述沟道区域的长度大于等于所述导电过渡层与所述栅极之间的间距。【专利说明】双极性薄膜晶体管
本专利技术涉及一种薄膜晶体管，尤其涉及一种双极性薄膜晶体管。
技术介绍
薄膜晶体管（Thin Film Transistor, TFT)是现代微电子技术中的一种关键性电 子元件，目前已经被广泛的应用于平板显示器等领域。薄膜晶体管主要包括栅极、绝缘层、 半导体层、源极和漏极。其中，源极和漏极间隔设置并与半导体层电连接，栅极通过绝缘层 与半导体层及源极和漏极间隔绝缘设置。所述半导体层位于所述源极和漏极之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双极性薄膜晶体管，包括：一源极；一漏极，该漏极与该源极间隔设置；一半导体层，所述半导体层与所述源极及漏极电连接；以及一栅极，该栅极通过一绝缘层与该半导体层、源极及漏极绝缘设置，定义所述栅极覆盖的所述半导体层的区域为沟道区域；其特征在于，进一步包括两个导电过渡层分别设置在所述源极和漏极与所述半导体层之间，所述半导体层为一碳纳米管结构，所述导电过渡层的材料的功函数与所述半导体层的材料的功函数相同，所述导电过渡层延伸至所述沟道区域，且所述导电过渡层进入所述沟道区域的长度大于等于所述导电过渡层与所述栅极之间的间距。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钱庆凯，李群庆，
申请(专利权)人：清华大学，鸿富锦精密工业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11