【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子器件开封
,特别是指一种。
技术介绍
目前行业中对于采用芯片倒装工艺的器件主要为BGA封装、PGA封装的大规模、超大规模集成电路。由于其结构复杂及现有的开封方法的限制,使得开封质量得不到保障,严重影响开封后的相关试验、且电特性不能保障。现有开封方法为将器件浸入高温的酸中,溶解掉外部封装的材料(如:模塑化合物、印制板等),由于采用芯片倒装工艺的器件结构与传统键合工艺的器件不同,其开封难度远大于传统键合工艺的器件,开封后的质量得不到保障,对硅片的损伤较大,且无法实现对印制板的层间结构进行观察。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提出一种,相比较传统的采用芯片倒装工艺器件的开封方法,本方法大大提升了开封质量,保障了开封后硅片的完成性和电特性。基于上述目的本专利技术提供的一种,包括:采用立体显微镜,在7.1?115倍目镜下对待开封器件进行观察,测量其外观尺寸、封装厚度,观察其封装形式、封装材料;选择扫描声学显微镜、微焦点X射线检测仪、CT检测仪其中的一种或多种对待开封器件的内部结构、芯片位置、芯片尺寸、内部键合丝排布进行观察 ...
【技术保护点】
一种用于倒装芯片器件的开封方法,其特征在于,包括:采用立体显微镜,在7.1~115倍目镜下对待开封器件进行观察,测量其外观尺寸、封装厚度,观察其封装形式、封装材料;选择扫描声学显微镜、微焦点X射线检测仪、CT检测仪其中的一种或多种对待开封器件的内部结构、芯片位置、芯片尺寸、内部键合丝排布进行观察并记录相关数据,为后期的开封试验提供支持;针对器件类型,根据上述检查结果,确定器件的开封方案;采用镶嵌磨抛或外壳启封对待开封器件进行开封前预处理;采用掩膜刻蚀法、化学腐蚀法、剖面镜检法其中的一种或多种完成待开封器件的化学开封;对开封后器件的内部芯片、印制板、焊点及其它内部工艺参数进行检查评价分析。
【技术特征摘要】
1.一种用于倒装芯片器件的开封方法,其特征在于,包括: 采用立体显微镜,在7.1~115倍目镜下对待开封器件进行观察,测量其外观尺寸、封装厚度,观察其封装形式、封装材料; 选择扫描声学显微镜、微焦点X射线检测仪、CT检测仪其中的一种或多种对待开封器件的内部结构、芯片位置、芯片尺寸、内部键合丝排布进行观察并记录相关数据,为后期的开封试验提供支持; 针对器件类型,根据上述检查结果,确定器件的开封方案; 采用镶嵌磨抛或外壳启封对待开封器件进行开封前预处理; 采用掩膜刻蚀法、化学腐蚀法、剖面镜检法其中的一种或多种完成待开封器件的化学开封; 对开封后器件的内部芯片、印制板、焊点及其它内部工艺参数进行检查评价分析。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,一般情况下,米用扫描声学显微镜、微焦点X射线检测仪进行内部结构、芯片位置、芯片尺寸、内部键合丝排布观察并记录相关数据;当器件内部结构复杂时,用CT检测仪确定内部结构分布。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对于简单封装器件,采用镶嵌磨抛对待开封器件进行开封前预处理,包括: 根据X射线检测结果,确定研磨表面; 将器件平放在砂纸上,采用500~800目的砂纸,对其进行磨抛,直至管脚被磨削掉,暴露出器件的焊点为止。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对于复杂封装器件,采用外壳启封对待开封器件进行开封前预处理,包括: 将待开封器件用台钳固定,使其不能晃动,用手术刀对准盖板与印制板之间的缝隙,轻敲手术刀背,直至刀刃切入缝隙5~8mm,依照此方法对器件的四周进行切入;完成切入步骤后,从器件盖板的尖角处将盖板掀起。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对于简单封装器件,采用掩膜刻蚀法完成待开封器件的化学开封;对于复杂封装器件,采用化学腐蚀法或剖面镜检法完成待开封器件的化学开封。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述掩膜刻蚀法包括: 利用刻蚀开封机采用...
【专利技术属性】
技术研发人员:贺峤,
申请(专利权)人:航天科工防御技术研究试验中心,
类型:发明
国别省市:北京;11
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