大功率整流器件制造技术

技术编号:10325657 阅读:156 留言:0更新日期:2014-08-14 12:17
本实用新型专利技术公开一种大功率整流器件,包括二极管芯片、第一铜引线和第二铜引线;二极管芯片包括具有P区和N区的硅片衬底,P区周边覆盖保护膜层,P区中央为正极金属层,N区下表面为负极金属层,P区与N区为弧形接触面,二极管芯片为八角形状;位于第一焊接区一端的第一圆形引线端头通过焊膏层与所述二极管芯片的正极金属层连接,位于第二焊接区一端的第二圆形引线端头通过焊膏层与所述二极管芯片的负极金属层连接;一环氧封装体包覆所述二极管芯片、第一焊接区、第二焊接区。本实用新型专利技术大功率整流器件增加了PN结有效面积,从而显著降低二极管在电路中应用时的功耗,且增加器件的电流。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
大功率整流器件
本技术涉及一种大功率整流器件,属于半导体元器件领域。
技术介绍
整流器件是最基本的半导体器件,主要作用为将交流电转变为直流电,广泛应用于各种电子线路。现有的整流二极管器件体积较大,安装不方便,且安装时,容易造成环氧封装体与铜引线开裂,以及影响二极管芯片与铜引线焊接牢度。因此,如何设计一种安装方便且可靠性高的整流二极管器件,是本技术研究的问题。
技术实现思路
本技术提供一种大功率整流器件,该大功率整流器件增加了 PN结有效面积,从而显著降低二极管在电路中应用时的功耗,且增加器件的电流。为达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种大功率整流器件,包括二极管芯片、第一铜引线和第二铜引线;所述二极管芯片包括具有P区和N区的硅片衬底,所述P区周边覆盖保护膜层,P区中央为正极金属层,N区下表面为负极金属层,所述P区与N区为弧形接触面,所述二极管芯片为八角形状;所述第一铜引线,此第一铜引线一端为第一焊接区,此第一铜引线另一端作为整流二极管器件的阳极端子区;所述第二铜引线,此第二铜引线一端为第二焊接区,此第二铜引线另一端作为整流二极管器件的阴极端子区;位于第一焊接区一端的第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大功率整流器件,其特征在于:包括二极管芯片(1)、第一铜引线(2)和第二铜引线(3);所述二极管芯片(1)包括具有P区(91)和N区(92)的硅片衬底(9),所述P区(91)周边覆盖保护膜层(10),P区(91)中央为正极金属层,N区(92)下表面为负极金属层,所述P区(91)与N区(92)为弧形接触面(11),所述二极管芯片(1)为八角形状;所述第一铜引线(2),此第一铜引线(2)一端为第一焊接区(21),此第一铜引线(2)另一端作为整流二极管器件的阳极端子区(22);所述第二铜引线(3),此第二铜引线(3)一端为第二焊接区(31),此第二铜引线(3)另一端作为整流二极管器件的阴极端子区...

【技术特征摘要】
1.一种大功率整流器件,其特征在于:包括二极管芯片(I)、第一铜引线(2)和第二铜引线(3); 所述二极管芯片(I)包括具有P区(91)和N区(92 )的硅片衬底(9 ),所述P区(91)周边覆盖保护膜层(10),P区(91)中央为正极金属层,N区(92)下表面为负极金属层,所述P区(91)与N区(92)为弧形接触面(11),所述二极管芯片(I)为八角形状; 所述第一铜引线(2),此第一铜引线(2)—端为第一焊接区(21),此第一铜引线(2)另一端作为整流二极管器件的阳极端子区(22); 所述第二铜引线(3),此第二铜引线(3)—...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗伟忠华国铭张建平
申请(专利权)人:苏州锝耀电子有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1