本文提供了在处理腔室中使用的处理配件的实施方式。在一些实施方式中，一种用于处理腔室中的处理配件包括：沉积环，包括具有第一内壁架的第一部分和具有第二内壁架的第二部分，其中在第一位置中，该第一部分与该第二部分间隔开，并且其中在第二位置中，该...

一种压电器件包括：基板(12)和在该基板(12)上的铌镁酸铅

公开了用于形成包括氧化锗的无缺陷缝隙填充材料的方法。在一些实施例中，通过将基板表面同时暴露于锗烷前驱物与氧化剂来沉积缝隙填充材料。锗烷前驱物可间歇地流动。基板还可暴露于第二氧化剂以增加缝隙填充材料内氧的相对浓度。的相对浓度。的相对浓度。

本文提供了用于处理基板的方法和设备。例如，一种用于处理基板的系统包括：处理腔室，所述处理腔室包括第一处理空间与第二处理空间；载体，所述载体设置在第一处理空间中，所述载体包括第一热电模块(TEM)，并且所述载体被配置成在基板被加热或冷却时...

本公开内容总体涉及形成光学装置的方法，所述光学装置包含设置在透明基板上的纳米结构。一种形成纳米结构的第一工艺包含在玻璃基板上沉积第一材料的第一层；在所述第一层中形成一或多个沟槽；和在一或多个孔至沟槽中沉积第二材料的第二层，交替的第一材料...

使用成像工具获取器件特征的一个或多个图像。几何形状被定义为涵盖每一图像的相关像素，其中该几何形状是根据一个或多个参数来表示的。定义了成本函数，其变量包含几何形状的一个或多个参数。对于每一图像，应用数值最佳化以获得其中成本函数最小化的一个...

一种方法包括以下步骤：使含碳前驱物和载气流入其中定位有基板的处理容积中；通过向基板支撑件施加第一RF偏压来在处理容积中产生等离子体，以将碳膜的第一部分沉积到基板上；以及终止含碳前驱物的流动，同时维持载气的流动，以将等离子体维持在处理容积...

本公开内容的实施方式涉及改善的硬模材料和用于基板的图案化和蚀刻的方法。多个硬模可与图案化和蚀刻工艺共同使用以实现先进的装置架构。在一个实施方式中，第一硬模和第二硬模设置于基板上，所述基板具有设置于所述基板上的各种材料层。在第一蚀刻工艺期...

公开一种基板处理系统，包括耦接到传送腔室的基板输入/输出腔室，以及耦接到传送腔室的一个或多个处理腔室，其中基板输入/输出腔室包括多个堆叠载体保持器，并且载体保持器中的一者包括用于在其上支撑基板的基板载体。的一者包括用于在其上支撑基板的基...

基板蚀刻系统包含将晶片保持在面朝上方向上的支撑件、可横向移动跨越支撑件上的晶片的分配器臂(该分配器臂支撑输送端口以选择性地将液体蚀刻剂分配至晶片的顶面的一部分上)及监测系统，该监测系统包含可横向移动跨越支撑件上的晶片的探针。撑件上的晶片...

本发明涉及一种用于处理基板的真空处理系统(100)，所述真空处理系统包括：第一真空腔室(105)，所述第一真空腔室具有第一气体压力；第二真空腔室(106)，所述第二真空腔室具有第二气体压力；以及气体分隔单元(120)，所述气体分隔单元在...

根据本公开内容的各方面，提供了用于在基板上沉积蒸镀材料层的沉积源、沉积设备和方法。所述沉积源(100)包括：坩埚(104)，所述坩埚用于提供蒸镀材料；第一喷嘴区(110)，所述第一喷嘴区在第一方向上延伸并具有与所述坩埚(104)连通的第...

本公开的实施例总体涉及半导体处理设备，并且更具体地涉及可在基板的等离子体处理期间与磁体一起使用的装置，例如，磁体保持结构。在实施例中，提供一种用于等离子体增强化学气相沉积腔室的磁体保持结构。磁体保持结构包括具有多个磁体固位构件的顶部件和...

示例性半导体处理方法可包括使可包括含氮前驱物、含硅前驱物和载气的沉积气体流至基板处理腔室的基板处理区域中。含氮前驱物与含硅前驱物的流率比可大于或约为1:1。方法可进一步包括由沉积气体产生沉积等离子体，以在基板处理腔室中的基板上形成含硅和...

描述了一种用于载体运输组件的辊子。所述辊子包括辊子主体，所述辊子主体是可旋转的并且具有基板支撑表面；辊子壳套，所述辊子壳套围绕所述辊子的一部分；及所述辊子壳套的捕集表面，所述捕集表面具有面向所述辊子的至少第一表面部分。一表面部分。一表面...

一种垫载体组件，包括耦接基座和耦接到耦接基座的垫载体，耦接基座和垫载体被配置为通过机械夹紧机构支撑磨光垫。过机械夹紧机构支撑磨光垫。过机械夹紧机构支撑磨光垫。

提供一种光学装置计量方法。该方法包括：在第一时间段期间将第一类光提供至第一光学装置中；在第一时间段期间测量从顶表面或底表面上的第一位置透射的第一类光的量；在发生于第一时间段之后的第二时间段期间用光学吸收材料的第一涂层涂布一或多个边缘中的...

本文描述的实施方式涉及用于处理基板的设备和方法。更特定地，提供了一种具有可移动电极的处理腔室，可移动电极用于在填充有流体的处理容积内产生平行场。在一个实施方式中，处理腔室的长轴线垂直地定向，且基板支撑件与沿着处理腔室的长轴线延伸的多个可...

示例性像素结构可包括显示装置面板堆叠的像素结构。该结构可包括第一面板。第一面板可包括设置在底板上的多个紫外光源。该结构还可包括第二面板。第二面板可与第一面板耦接。第二面板可具有面向紫外光源的内表面。第二面板可包括透明基板及下转换层。下转...

提供了光学装置膜和形成具有小于约2.2μin的RMS表面粗糙度和大于2.0的折射率的光学装置膜的方法。在一个实施方式中，光学装置膜被提供并且包括折射率大于2.0的结晶或纳米结晶材料。光学装置膜的顶表面具有小于约2.2微英寸(μin)的均...