处理设备可包含面向下的处理腔室，该处理腔室对水平处于固定的锐角角度。平台上的夹具平板可由开启位置至平行位置枢转，其中该平台对处理腔室处于锐角角度，其中该平台与该处理腔室平行。夹具平板可接着线性移动而与处理腔室进入密封接合。可在平台上提供...

提供一种用于掩蔽基板的掩模模块。掩模模块包括掩模载体和掩模。掩模载体具有后侧、前侧以及掩模载体孔隙。后侧可设计为面对基板，并且前侧可设计为面对涂布源。掩模可分离地附接于掩模载体的后侧。掩模具有掩模孔隙并且覆盖掩模载体孔隙的一部分。掩模孔...

一般来说，本公开内容涉及用于沉积材料的系统、设备和方法。特别是，本公开内容涉及用于蒸发源材料的坩锅。所述坩锅具有壁，所述壁具有内表面，所述内表面围绕内部容积，所述内部容积用于容纳源材料和一个或多个热传输元件，所述一个或多个热传输元件布置...

描述一种用于将材料沉积在基板(121)上的真空沉积系统(300；400；500)。真空沉积系统(300；400；500)包括：真空腔室(110)，真空腔室(110)具有腔室容积；以及材料沉积布置(100)，材料沉积布置(100)用于提供...

提供本公开内容的实施方式，包含一种静电吸盘组件、一种处理腔室和一种保持基板温度的方法。在一个实施方式中，提供有静电吸盘组件，静电吸盘组件包含静电吸盘、冷却板和气体箱。冷却板包含形成于冷却板中的气体通道。气体箱可操作以控制通过气体通道的冷...

描述一种用于在真空腔室(110)中将已蒸发的材料沉积在基板(121)上的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括两个材料沉积源(100a、100b)，它们各自具有分配管道(106a、106b)和一或多个喷嘴(712)。另外，描述一种...

本文提供用于在基板处理腔室中使用的准直器的实施方式。在一些实施方式中，准直器包含：本体，所述本体具有中央区域、周边区域以及设置在中央区域和周边区域之间的过渡区域；在中央区域中的多个具有第一深宽比的第一孔；在周边区域中的多个具有第二深宽比...

提供一种用于在处理腔室中掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，所述掩模框架具有一个或多个框架元件(112、114、116、118)并且被配置为支撑掩模器件(120)，其中掩模器件(120)可连...

一种制造化学机械研磨垫的方法，包括以下步骤：将含有丙烯酸酯官能团的聚合物前体引入模具中；在该聚合物前体中提供磨料颗粒和光引发剂以形成混合物；以及在该混合物被容纳于该模具的底板和顶盖之间时，通过该模具的透明区段使该混合物暴露于紫外线辐射，...

于此揭露的CMP工具中的部件具有表面和沉积在所述表面上的疏水层。在一例子中，所述部件是用于在CMP工具中输送流体的部件。用于在CMP工具中输送流体的部件包含细长构件，所述细长构件具有第一端和第二端及在两端之间延伸的细长上表面。疏水层沉积...

一种用于从工件剥离沉积材料的方法，所述方法可包含：将工件浸入超声波浴中并施加超声波能量，其中所述超声波浴含有流体，所述流体保持在从大于室温到小于流体沸点的范围内的恒温下，或者在室温与小于流体沸点之间的范围内选择的ΔT下循环流体，其中所述...

本公开总体上涉及控制边缘环的射频(RF)振幅的装置和方法。装置和方法包括通过可变电容器耦接到接地的电极。所述电极可以是环形的并且嵌入在基板支撑件中，所述基板支撑件包括静电卡盘。所述电极可定位于基板和/或所述边缘环的周边下方。当等离子体壳...

本公开内容的实施方式大体上提供实现更高效和/或更均匀的冷却特性的磁控管构造以及用于形成磁控管的方法。所述磁控管包括一或多个导流结构，所述一或多个导流结构被设置在平行冷却鳍片之间。所述导流结构跨所述冷却鳍片的各表面引导气流，并且防止气流以...

描述了一种用于有机材料的蒸发源。所述蒸发源包括蒸发坩埚，其中所述蒸发坩埚配置成蒸发所述有机材料；具有一个或多个出口的分布管，其中所述分布管与所述蒸发坩埚流体地连通，并且其中所述分布管可在蒸发期间绕轴旋转；以及用于防护所述有机材料的至少一...

在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实...

本申请提供了一种可调谐温度受控的基板支撑组件。本文所描述的实现方式提供一种基板支撑组件，所述基板支撑组件允许对静电夹盘与加热组件之间的热传递的横向调谐与方位角调谐两者。基板支撑组件包含：主体，具有基板支撑表面和下表面；一个或更多个主电阻...

本公开内容涉及用于处理腔室的适配器和灯组件。在一个实施方式中，所述适配器包括：中空主体，所述中空主体具有第一端部和第二端部，所述第二端部与所述第一端部相反；第一块体和第二块体，所述第一块体和所述第二块体关于所述主体的纵轴对称设置在所述中...

描述用于处理在基板表面上的膜的系统和方法。所述系统具有气溶胶发生器，所述气溶胶发生器从一或多种前驱物的冷凝物质(液体或固体)来形成液滴。载气流过所述冷凝物质，并将液滴推向放在基板处理区域中的基板。与气溶胶发生器连接的直列泵也可以用于将液...

本发明描述了用于具有疏水涂层的化学机械抛光(CMP)承载头的外部夹环，和具有所述外部夹环的承载头。在一个实施方式中，提供一种包括圆柱体的外部夹环，所述圆柱体具有外圆柱壁和内圆柱壁。疏水层被设置在外圆柱壁上。

本文所述实施方式涉及热学腔室。所述热学腔室可为配置用于制造OLED装置的较大处理系统的部分。所述热学腔室可配置成加热和冷却用于所述处理系统中的沉积工艺的掩模和/或基板。所述热学腔室可包括腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收容纳多个掩模...