一种设置在真空腔室中的用于冷却沉积区域的冷却系统，包括主动冷却装置，主动冷却装置包括第一表面和第二表面；第一表面布置在第二表面及沉积区域之间，且热交换器配置成用以通过将热量从第一表面传递离开而主动地冷却第一表面。一种用于在基板上进行材料...

本文描述的实施方式一般是涉及利用高射频(RF)功率来处理基板的设备和方法。高射频功率能够以更理想的性质将膜沉积在基板上。多个第一绝缘构件设置在多个拖架上，并且从腔室主体侧向朝内延伸。多个第二绝缘构件设置在腔室主体上，并且从多个第一绝缘构...

本文中描述的实施方式涉及三维(3D)显示设备。在一个实施方式中，所述3D显示设备包括：多色背光单元，所述多色背光单元包括发射光源；准直器，所述准直器包括耦接到所述背光单元并且与所述背光单元光学通信的多个准直特征；和衍射元件，所述衍射元件...

提供用于控制处理材料到沉积腔室的流动的方法和设备。在实施方式中，所述设备包括沉积腔室，沉积腔室通过一个或更多个输送管线而与一个或更多个升华器流体连通，其中一个或更多个升华器的每一者包括安瓿以及至少第一热源和第二热源，安瓿通过开口而与一个...

本公开内容的实施方式大致上包括用于从光刻掩模的表面移除粘合剂残留物的设备和方法。具体地，本文所描述的处理系统提供将溶剂输送到光刻掩模的表面上的分立的多个位置，以有助于从所述光刻掩模的表面移除粘合剂残留物。在一个实施方式中，一种处理基板的...

本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所...

一种finFET器件包括掺杂的源极及/或漏极延伸部，所述源极及/或漏极延伸部设置在finFET的栅极间隔物与其上设置n掺杂或p掺杂的源极或漏极延伸部的半导体基板的主体半导体部分之间。掺杂的源极或漏极延伸部通过选择性外延生长(SEG)工艺...

本文描述的实施方式提供了一种具有用于均匀地输送处理气体的气流入口引导件和用于有效地净化处理气体并减少净化时间的气流出口引导件的腔室。所述腔室包括：腔室主体，所述腔室主体具有处理气体入口和处理气体出口；盖组件；处理气体入口和处理气体出口，...

本公开内容的实施方式一般涉及一种用于形成光学部件的方法，该光学部件例如用于虚拟现实或扩增实境显示设备。一个实施方式中，该方法包括，在基板上形成具有图案的第一层，且该第一层具有第一折射率。该方法进一步包括，通过可流动化学气相沉积(FCVD...

本文所论述的系统和方法的实施方式通过预处理经由成像系统的通道接收的图像数据来使成像设备自动聚焦，所述成像系统包括激光束和传感器，所述传感器被配置为当在跨基板的像素级应用中跨基板施加激光束时，接收图像数据。所述基板可包括光刻胶和金属材料两...

描述了用于在半导体基板上形成可流动碳层的方法。如本文中所述地向含碳前驱物施加局部激发(例如PECVD中的等离子体)以在基板上形成可流动碳膜。也已发现了远程激发方法，该远程激发方法通过以下步骤来产生可流动碳膜：激发稳定前驱物以产生自由基前...

处理方法包括以蚀刻剂蚀刻金属氮化物层。蚀刻剂可例如为WCl5、WOCl4或TaCl5。也公开了改善蚀刻工艺选择性的方法。善蚀刻工艺选择性的方法。善蚀刻工艺选择性的方法。

本文提供了喷头和包含喷头的处理室。在一些实施方式中，喷头包括具有中央部分和外部分的主体，其中外部分包括从中央部分向上延伸的环形壁和从环形壁径向向外延伸的凸缘；穿过中央部分设置的多个孔；环形台阶部分，设置在多个孔中最外面的孔的径向外侧且在...

本公开内容涉及用于原子层沉积(ALD)腔室的方法和设备。在一个实施方式中，提供一种盖组件，所述盖组件包括：多通道喷头，所述多通道喷头具有多个第一气体通道和与所述第一气体通道中的每一者流体地隔离的多个第二气体通道；和流引导件，所述流引导件...

所描述的实施方式提供了动态成像系统，所述动态成像系统补偿了由于基板的翘曲引起的变形而导致的图案缺陷。所描述的方法和设备可用于产生补偿曝光图案。动态成像系统包括检查系统，检查系统被配置为将第一基板的三维轮廓测量及裸片偏移测量提供给接口，所...

本文讨论的系统与方法用于衍射光栅(诸如在波导组合器中使用的那些光栅)的制造。本文讨论的波导组合器是使用高折射率与低折射率材料的纳米压印光刻(NIL)结合高折射率与低折射率材料的定向蚀刻来制造的。波导组合器可额外地或替代地通过定向蚀刻透明...

提供用于沉积金属硅化物的方法，所述方法包括：将具有含硅表面的基板加热到沉积温度；以及在化学气相沉积工艺期间将所述基板暴露到沉积气体以在所述含硅表面上沉积硅化物膜。所述沉积气体含有硅前驱物、钛或其他金属前驱物、及磷或其他非金属前驱物。及磷...

提供磁悬浮系统，用于在运输方向(T)上沿着运输路径运输载体(10)。磁悬浮系统包含被构造为用非接触的方式在载体运输空间(15)中保持载体(10)的一个或多个主动磁性轴承(121)、具有至少一个被动磁体(131)的侧向稳定装置(130)和...

本文所述的实施方式提供改善沉积膜层或蚀刻膜层的一致性的基板支撑组件。每个基板支撑组件包括单流向流体与双流向流体中的一者，通过基板支撑件的底板使多余的热量可被移除，和/或将将热量提供至基板支撑件以维持预定的支撑件温度。预定的支撑件温度是基...

提供用于测量基板温度的设备和方法。在一个或多个实施方式中，提供用于估计温度的设备且包含：多个电磁辐射来源，放置该多个电磁辐射来源以发射电磁辐射朝向反射平面；和多个电磁辐射检测器。放置每一电磁辐射检测器以对由该多个电磁辐射来源的对应电磁辐...