在一个实施方式中，一种制作具有不同高度的至少两个特征的器件的方法包含以下步骤：在基板上沉积抗蚀剂；确定用于器件的至少两个特征的形貌图案；确定用于器件的至少两个特征的曝光图案；以第一剂量的光曝光抗蚀剂的第一区域，第一区域对应于至少两个特征...

一种有机发光二极管(OLED)装置包括基板、基板上的阱结构，阱结构具有带有侧壁与底面的凹槽、覆盖阱的底面与侧壁的下部金属层、在下部金属层上且覆盖阱的底面及接触下部金属层的上部导电层，上部导电层具有在侧壁与底面的大约交界处的外边缘、由下部...

通过在多个位置获得校准基板的顶层的地表实况厚度测量结果来训练神经网络以用于基板厚度测量系统，每一位置为在基板上制造的管芯的定义位置。获取校准基板的多个彩色图像，每一彩色图像对应于在基板上制造的管芯的区域。训练神经网络以将来自直列式基板成...

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在辊运输轨道(200a、200b)上沿运输方向(X)运输的载体(100)。所述载体(100)包括：第一辊接触表面(120a)，所述第一辊接触表面被配置为将所述载体(100)支撑在所述辊运输轨道(2...

对基板上的膜非均匀性进行分类的方法包括：获取基板的彩色图像，其中该彩色图像包括多个色彩通道；针对基板的彩色图像获取标准色；针对沿着彩色图像中的路径的每个相应像素，确定该相应像素的颜色与标准色之间的差分向量，以生成差分向量序列；并基于差分...

一种训练用于摄谱监测的神经网络的方法包括：抛光测试基板；在测试基板的抛光期间，由原位摄谱监测系统测量从基板反射的光的测试光谱序列并由原位非光学监测系统测量来自基板的测试值序列；测量在抛光之前基板的初始特征值或在抛光之后基板的最终特征值中...

本文描述的实施方式涉及显示设备，例如，虚拟现实和扩增实境显示器和应用。在一个实施方式中，平面的基板具有：形成于其上的阶梯特征和形成于数个特征中的每一特征上的发射器结构。封装层设置在该基板上，并且多个均匀的介电纳米结构形成于该封装层上。由...

本文所述的数个实施方式涉及一种用以将已蒸发源材料沉积于基板上的蒸发源(20)。蒸发源(20)包括：一或多个分配管(106)，具有多个喷嘴(22)，其中所述多个喷嘴(22)的每个喷嘴被构造成用于朝向基板(10)导引已蒸发源材料的羽流；和遮...

在一个实例中，腔室入口组件包括腔室入口、用于输送管线的外部耦接件以及用于处理腔室的处理区域的内部耦接件。内部耦接件和外部耦接件分别在腔室入口的内端和外端上，其中内部耦接件的横截面面积大于外部耦接件的横截面面积。腔室入口组件还包括纵向剖面...

一种有机发光二极管(OLED)沉积系统，包括两个沉积腔室、位于两个沉积腔室之间的传送腔室、具有一个或多个传感器以用于对传送腔室内的工件执行测量的计量系统、及用于使系统在工件上形成有机发光二极管层堆叠的控制系统。在工件在两个沉积腔室之间传...

一种用于在抛光系统中固持基板的承载头具有：包括承载板的外壳、紧固至外壳的第一柔性膜、以及紧固至承载板的多个第二可独立操作的压电致动器。第一柔性膜具有上表面，并且具有提供基板安装表面的下表面。压电致动器定位在第一柔性膜上方，以便独立地调整...

描述了并入桥接的字线的存储器装置。所述存储器装置包括：多个有源区域，所述多个有源区域沿着第一方向、第二方向、和第三方向隔开。多个导电层被布置为使得至少一个导电层沿着所述第三方向与所述有源区域的每一者的至少一侧相邻。导电桥接器沿着所述第二...

讨论了沉积金属膜的方法。金属膜形成在具有金属底部及电介质侧壁的特征的底部上。金属膜的形成包含：在将基板维持在沉积温度下的同时，暴露于金属前驱物及烷基卤化物催化剂。所述金属前驱物具有高于沉积温度的分解温度。所述烷基卤化物包含碳及卤素，且所...

本申请提供用于处理定位于基板支撑组件上的基板的方法和设备。例如，基板支撑组件包括：静电吸盘，静电吸盘具有嵌入其中的一个或多个吸附电极，一个或多个吸附电极用于将基板吸附至静电吸盘的基板支撑表面；边缘环，边缘环设置在静电吸盘上且围绕基板支撑...

一种用于在基板上沉积碳化合物的方法和设备包括：使用具有腔室主体、盖、内部空间、泵设备和气体传输系统的电感耦合等离子体(ICP)腔室和用于支撑设置于ICP腔室的内部空间内的基板的基座，基座具有从氮化铝形成的具有上部表面的上部部分和具有从氮...

在一实施方式中，公开了一种用于在能量储存装置中的锂金属的沉积和处理的整合处理工具。整合的处理工具可为卷材工具(webtool)。整合的处理工具可包括：卷对卷系统(reel

所公开的实施方式描述了一种系统，该系统包括：第一光学器件，用来接收光的输入射束，该输入射束具有光的多种光谱分量，并使得该输入射束分散成多个光谱束，其中该多个光谱束中的每一者对应于该多种光谱分量中的一者并沿着与其他光谱束的空间路径不同的空...

描述了用于等离子体腔室条件监测的电容传感器及电容感测位置。在一示例中，等离子体处理腔室包括腔室壁，所述腔室壁环绕处理区域。腔室盖在所述腔室壁之上并且在所述处理区域上方。腔室地板在所述腔室壁下并且在所述处理区域下方。支撑基座在所述处理区域...

一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽...

本公开内容涉及装载杯以及包括该装载杯的化学机械抛光系统，所述装载杯包括环形基板站，所述环形基板站被配置为接收基板。环形基板站包围位于装载杯内的喷雾器。喷雾器包括一组激励流体喷嘴，所述一组激励流体喷嘴邻近在环形基板站与喷雾器之间的界面设置...