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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法技术
本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题为提供密合膜形成用组成物、使用该组成物的图案形成方法、及密合膜的形成方法,该密合膜形成用组成物提供于半导体装置制造步骤中微细图案化处理中,得到良好的图案形状,同...
糊状有机硅组合物、其制备方法及化妆品技术
本发明提供一种糊状有机硅组合物,其特征在于,其含有:(A)交联型有机聚硅氧烷及(B)25℃下为液状的油剂,其中所述(A)交联型有机聚硅氧烷由(A‑1)一分子中具有2个以上键合于硅原子的氢原子的有机氢聚硅氧烷、(A‑2)一分子中具有2个以...
晶圆边缘保护膜形成方法、图案形成方法、及晶圆边缘保护膜形成用组成物技术
本发明涉及晶圆边缘保护膜形成方法、图案形成方法、及晶圆边缘保护膜形成用组成物。本发明的目的为提供一种晶圆边缘保护膜,对比已知的晶圆边缘保护膜,具有优良的干蚀刻耐性,且即使是难被覆的晶圆边缘部也具有优良的成膜性。一种晶圆边缘保护膜形成方法...
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,能形成可形成极高孤立间距分辨性且LER小、矩形性优异、显影负载及残渣缺陷的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜,并提供抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅...
氟聚醚系固化性组合物和固化物、以及电气电子部件制造技术
含有(A)在1分子中具有2个以上的烯基的全氟聚醚化合物、(B)由下述通式(1)表示、具有2个以上的氢甲硅烷基的含氟有机氢硅烷化合物(Rf为1价的全氟聚醚基,A为2价的有机基团,R为1价烃基,x为1~3,B为具有二有机氢甲硅烷基的同时与连...
图案形成方法技术
本发明涉及图案形成方法,其在半导体装置制造步骤中的微细图案化处理中可以获得良好的图案形状,使用了与抗蚀剂上层膜具有高密合性并防止微细图案崩塌的密合膜。所述方法使用含有(A)高分子化合物、(B)热酸产生剂及(C)有机溶剂的密合膜形成用组成...
热传导性有机硅组合物、半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
本发明提供一种能够起到良好的散热效果的热传导性有机硅组合物。所述热传导性有机硅组合物包含下述(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分和(E)成分,其中,(A)有机聚硅氧烷,其在25℃条件下的运动粘度为10~100000mm<...
感光性树脂组合物、感光性树脂被膜、感光性干膜和图案形成方法技术
提供感光性树脂组合物,其包含:(A)具有环氧基和/或酚羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)表示的光致产酸剂、和(C)苯并三唑系化合物。
铂催化剂混合物、固化性液状有机硅组合物和固化性液状有机硅组合物的固化方法以及铂催化剂混合物的制备方法技术
本发明为需氧性的铂催化剂混合物,其包含:铂‑含有烯基的有机硅氧烷络合物与在分子中具有至少一个SiH基的有机硅化合物的反应混合物,其中,该有机硅化合物的量使得相对于该铂‑含有烯基的有机硅氧烷络合物中的烯基、与硅原子键合的氢原子(SiH基)...
抗蚀剂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供感度良好、边缘粗糙度、尺寸变异小、分辨性优良,进而保存稳定性良好的含有具有錪阳离子的感光性化合物的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。一种抗蚀剂组成物,包含(I)下式(A)表示的酸化合物、(II...
加成固化型硅橡胶组合物及硅橡胶固化物制造技术
本发明为一种加成固化型硅橡胶组合物,其特征在于,含有:100质量份的(A)1分子中具有2个以上键合于硅原子的烯基的含烯基有机聚硅氧烷;0.2~20质量份的(B)1分子中具有2个以上与硅原子键合的氢原子的有机氢聚硅氧烷;催化剂量的(C)铂...
硅橡胶球状颗粒用液状组合物、硅橡胶球状颗粒及其制造方法、以及有机硅复合颗粒及其制造方法技术
本发明为一种硅橡胶球状颗粒用液状组合物,其包含:(A)聚硅氧烷,其由通式(1)表示,且于一分子中具有至少2个烯基;(B)有机氢聚硅氧烷,其由通式(2)表示,且于一分子中具有至少2个键合于硅原子上的氢原子;及(C)氢化硅烷化反应性催化剂。...
负极活性物质、负极及锂离子二次电池制造技术
本发明为一种负极活性物质,其为由被碳覆膜包覆且掺杂有锂的一氧化硅颗粒构成的负极活性物质,其中,在使用激光衍射法粒度分布测定装置测定的体积基准分布中,所述一氧化硅颗粒满足:粒径1μm以下的相对颗粒量的累计值为1%以下;粒径5μm以下的相对...
有机聚硅氧烷改性环糊精化合物及其制造方法和含有其的化妆料技术
提供下述有机聚硅氧烷改性环糊精化合物和将其配混的化妆料。有机聚硅氧烷改性环糊精化合物,是由下述式(1)[式中,R独立地为氢原子、碳原子数1~20的烷基、碳原子数1~22的羧酸酯残基、由下述式(2)表示的基团、或由下述式(3)表示的基团,...
层叠体、层叠体的制造方法及图案形成方法技术
本发明涉及一种层叠体,其由半导体基板与形成在所述半导体基板上的光敏性树脂层构成,所述层叠体的特征在于,所述光敏性树脂层包含含有有机硅骨架的树脂或丙烯酸树脂,所述半导体基板在一侧具有段差面,所述段差面的凹部被预湿溶剂填满,并在其之上形成有...
氧化钛粒子/金属粒子组合物及其制造方法技术
本发明提供一种比以往的光催化活性高、特别是比以往的可见光活性高的氧化钛粒子/金属粒子组合物及其制造方法。所述氧化钛粒子/金属粒子组合物含有以下两种粒子,i)固溶有锡成分和用于提高可见光活性的过渡金属成分,但铁成分和硅成分未被固溶、而被改...
含有呋喃基的有机聚硅氧烷及其制造方法技术
本发明提供一种具有源于(聚)硅氧烷的柔软性和光交联性的含有呋喃基的有机聚硅氧烷和能够不副产金属盐且安全地制造的含有该呋喃基的有机聚硅氧烷的制造方法。所述含有呋喃基的有机聚硅氧烷以下述平均组成式(1)表示,数均分子量为500~40000。...
Q开关结构体及Q开关结构体的制造方法技术
本发明为一种Q开关结构体,其具备固体激光介质与磁光材料,并由所述固体激光介质与所述磁光材料接合一体化而成,所述Q开关结构体中,在所述固体激光介质的一个面上形成有第一对粘合剂防反射膜,在所述磁光材料的一个面上形成有第二对粘合剂防反射膜,所...
金刚石基板及其制造方法技术
本发明为一种金刚石基板的制造方法,其特征在于,其为通过微波等离子体CVD法、直流等离子体CVD法、热灯丝CVD法或电弧放电等离子体喷射CVD法,将氢稀释甲烷作为主原料气体,通过外延生长在基底基板上制造(111)取向金刚石晶体的方法,并将...
生物体电极组成物、生物体电极、及其制造方法技术
本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、及其制造方法。本发明的课题为提供可形成导电性及生物体适合性优异、轻量、且能以低成本制造,不论被水濡湿或干燥而导电性也不会大幅降低,柔软且伸缩性及粘着性优异的生物体电极用的生物体接触层的生物体电极组...
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