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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
含有铂-亚磷酸酯络合物的氢化硅烷化催化剂、其制造方法、抑制含有铂-亚磷酸酯络合物的氢化硅烷化催化剂的结晶化的方法和固化性有机聚硅氧烷组合物以及物品技术
包含由铂和特定结构的亚磷酸酯化合物构成的铂‑亚磷酸酯络合物、和包含具有2个以上邻接烯基的有机聚硅氧烷化合物的液体的含有烯基的硅氧烷化合物、不含烃系有机溶剂、23℃下为液体的含有铂‑亚磷酸酯络合物的氢化硅烷化催化剂的保存稳定性良好,通过使...
负极、锂离子二次电池及锂离子二次电池的制造方法技术
本发明为一种负极,其特征在于,包含负极活性物质颗粒,且已充电至少1次,所述负极活性物质颗粒含有被碳层包覆的硅氧化物颗粒,所述硅氧化物颗粒的至少一部分包含Li<subgt;2</subgt;SiO<subgt;3<...
成膜用雾化装置及使用了该成膜用雾化装置的成膜装置以及半导体膜制造方法及图纸
本发明是一种成膜用雾化装置,其具有:原料容器,其容纳原料溶液;筒状部件,其在空间上连接所述原料容器的内部与外部,且设置为其下端在所述原料容器内不与所述原料溶液的液面接触;超声波发生器,其具有一个以上的照射超声波的超声波发生源;以及液槽,...
负极制造技术
本发明涉及一种负极,其特征在于,其具有将表面粗糙化后的负极集电体与设置在该负极集电体上的负极活性物质层;所述负极活性物质层具有多层结构,并且在各层的厚度方向的中心部包含含有硅、锂及氧的复合化合物,且在各层的厚度方向的中心部包含氧量低的多...
非水系电解质及非水电解质二次电池制造技术
本发明为一种非水系电解质,其为用于非水电解质二次电池的非水系电解质,其中,所述非水系电解质包含下述通式(1)所表示的硅烷化合物。由此,提供充放电后的安全性高的非水系电解质及非水电解质二次电池。Si(R1)l(R2)m(R3)4‑l‑m ...
非水系电解质及非水电解质二次电池制造技术
本发明为一种非水系电解质,其为用于非水电解质二次电池的非水系电解质,所述非水电解质二次电池的负极至少包含硅化合物、锗化合物、锡化合物中的任一种作为负极活性物质颗粒,所述非水系电解质的特征在于,所述非水系电解质包含选自下述通式(1)、(2...
非水系电解质及非水电解质二次电池制造技术
本发明为一种非水系电解质,其为用于非水电解质二次电池的非水系电解质,所述非水电解质二次电池的负极至少包含硅化合物、锗化合物、锡化合物中的任一种作为负极活性物质颗粒,所述非水系电解质的特征在于,所述非水系电解质包含下述通式(1)所表示的硅...
光固化性氟聚醚类弹性体组合物的涂膜形成方法技术
提供一种光固化性氟聚醚类弹性体组合物的涂膜形成方法。所述涂膜形成方法不受来自基材(特别是树脂基材)的固化阻碍,在基材的界面或即使在暗处、深处也能够得到均匀的组合物的固化物。所述涂膜形成方法为光固化性氟聚醚类弹性体组合物的涂膜形成方法,其...
包覆KSF荧光体、其制造方法、含有该荧光体的固化性有机硅组成物及光半导体装置制造方法及图纸
本发明为一种包覆KSF荧光体颗粒,其特征在于,所述包覆KSF荧光体颗粒具有基于聚合物的表面包覆层,所述聚合物为(甲基)丙烯酸酯聚合物,所述聚合物的比例在所述包覆KSF荧光体颗粒整体的0.1~20质量%的范围内。由此,提供一种即便在高温条...
液状加成硬化型氟硅酮组合物、硅酮橡胶、成形品制造技术
[问题]本发明是鉴于所述情况而成,且目的在于提供一种液状加成硬化型氟硅酮组合物以及对所述组合物进行加热硬化而获得的氟硅酮橡胶及其成形品,所述液状加成硬化型氟硅酮组合物的加热硬化后的压缩永久变形的值低,机械强度得到保持,尤其是能够适宜地应...
加成固化型有机硅组合物及光学元件制造技术
本发明提供一种可给予具有耐硫化性,抗拉强度高,耐裂痕性优异的固化物的加成固化型有机硅组合物。所述加成固化型有机硅组合物包含(A)下述式(1)表示的有机聚硅氧烷、(B)下述平均组成式(4)表示的有机氢聚硅氧烷、及(C)氢化硅烷化催化剂。(...
负极及负极的制造方法技术
本发明涉及一种负极,其特征在于,其具有表面经粗糙化的负极集电体与设置在该负极集电体上的负极活性物质层;所述负极活性物质层包含负极活性物质颗粒,该负极活性物质颗粒具有锂、硅及氧的化合物,构成所述负极活性物质颗粒的所述氧与所述硅的比O/Si...
含有硅亚苯基骨架的聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体元件的制造方法技术
提供在主链包含硅亚苯基骨架、异氰脲酸骨架和羟基取代烷基醚骨架、在侧链包含环氧基的聚合物。
具有拒水拒油表面层的物品制造技术
提供物品,该物品由塑料基材、在该塑料基材的外表面上形成的以氧化硅作为主成分的基底层、和在该氧化硅基底层的外表面上形成的拒水拒油表面层构成,该物品中,氧化硅基底层的膜密度为1.8~2.2g/cm3,氧化硅基底层的膜厚为80~300nm,拒...
负极及其制造方法技术
本发明为一种负极,其包含负极活性物质颗粒,且至少进行了一次充放电,其中,所述负极活性物质颗粒含有被碳层覆盖的氧化硅颗粒,所述氧化硅颗粒具有Li<subgt;2</subgt;SiO<subgt;3</subgt;...
亲水性共聚物和亲水性组合物制造技术
提供亲水性共聚物,其包含由下述式(1)表示的结构单元(a)和由下述式(2)表示的结构单元(b),结构单元(a)的含有率为5~60质量%,并且结构单元(a)与(b)的合计含有率为30质量%以上。R1为氢原子或甲基,R2为烷基或芳基,X1为...
具有拒水拒油表面层的物品制造技术
提供物品,该物品由玻璃基材、在该玻璃基材的外表面上形成的以氧化硅作为主成分的基底层、和在该氧化硅基底层的外表面上形成的拒水拒油表面层构成,该物品中,氧化硅基底层的膜密度为1.8~2.2g/cm3,拒水拒油表面层是以特定结构的具有水解性甲...
非水电解液及具备该非水电解液的非水电解质二次电池制造技术
本发明为一种非水电解液,其特征在于,含有非水溶剂、溶解在所述非水溶剂中的电解质盐及下述通式(1)所表示的硅烷化合物。由此,能够提供一种可实现升高的电池循环特性的非水电解液及含有该非水电解液的非水电解质二次电池。Si(R<supgt...
鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中,溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、EL、LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成时图案崩塌耐性仍强且蚀刻耐性亦优良的化学...
防护薄膜、防护膜、带有防护膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法和液晶显示板的制造方法技术
本发明提供一种防护薄膜及防护膜,所述防护薄膜的特征在于包括具有氮化硼纳米管的膜(BNNT膜),所述防护膜为包含防护薄膜以及防护膜框架、且所述防护薄膜经由接着剂设置于所述防护膜框架的一端面的光微影用防护膜,其特征在于,所述防护薄膜包含BN...
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