本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明提供对比已知的抗蚀剂下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性且兼顾高程度的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用化合物、使用了该化合物的含金属的膜形成用组成物、及使用该组...

本发明涉及胺化合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度，且能改善LWR、CDU的化学增幅抗蚀剂组成物、该化学增幅抗蚀剂组成物使用的淬灭剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。下式(1)表示的胺化...

本发明涉及一种制备下式(5)的(Z)‑7‑十四碳烯‑2‑酮的方法，所述方法包括如下步骤：将以下通式(1)的(Z)‑1‑卤代‑4‑十一碳烯化合物(1)，其中X1表示卤素原子，转变为以下通式(2)的亲核试剂(Z)‑4‑十一碳烯基化合物，其中...

本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用此抗蚀剂材料的图案形成方法。下式(1)表示的锍盐、及包含该锍盐的抗蚀剂材料。

[课题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的最大容许异物尺寸的降低以及供防护膜片暴露的严酷的气压的变动，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气孔贴靠的过滤器的高性能化。[解决手段]本发明的防护膜包括：防护膜框架3；防护膜片1，设置于所述防护...

硅氧烷改性聚氨酯组合物具有高拉伸强度等，所述组合物包含：(A)式(1)的聚硅氧烷(R13SiO1/2)k(R12SiO2/2)p(R1SiO3/2)q(SiO4/2)r(1)[R1为选自式(2)～(5)中的基团等，‑CH2‑CH2‑Y‑...

由式(1)表示的含有羟基烷基的聚硅氧烷的原料化合物的OH基与SiH基的脱氢反应产物少，具有高耐热性。(R13SiO1/2)k(R12SiO2/2)p(R1SiO3/2)q(SiO4/2)r(1)[R1为选自式(2)～(5)的基团等，‑C...

根据接合构件的解体方法，其包括如下工序：对于用使含有利用微波发热的粒子的特定量和分解温度为180～600℃的氢氧化化合物的固化性液体有机硅系粘接剂固化而成的固化物将多个构件之间接合的接合构件，通过对该固化物照射微波，从而使所述多个构件之...

通过将由下述式(1)(Rf为2价的含有氟代氧亚烷基的聚合物残基，U为2价或3价的有机基团，Z为硅亚烷基结构或硅亚芳基结构，Y为2价的有机基团，R为碳原子数1～4的烷基或苯基，X为羟基或水解性基团，n为1～3，m为1或2。)表示的具有硅烷...

提供了一种光纤用玻璃基材的制造方法，其中通过烧结参数的简单调节，可以抑制不透明玻璃部分和伸长的出现。光纤用多孔基材的制备步骤，在该制备步骤中，围绕芯棒的外围形成多孔玻璃层；烧结制备步骤，在该烧结制备步骤中，光纤用多孔基材悬挂在烧结设备的...

本发明涉及制备以下通式(5)有机卤素化合物的方法，其中R2表示具有1‑10个碳原子的直链、支链或芳族一价烃基，n是1‑10的亚甲基数目且X2表示卤素原子，该方法包括：将以下通式(1)(ω‑卤代‑2‑烯基)三苯基卤化鏻化合物，其中n如通式...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、且EL、LWR等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐，以及提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学...

本发明为一种一氧化硅粉末，其为由一氧化硅构成的一氧化硅粉末，其特征在于，在通过使用了Cu‑Kα射线的X射线衍射对该一氧化硅粉末进行测定而得到的X射线衍射光谱中，在2θ＝22°附近及2θ＝50°附近具有来自非晶相的宽峰，另一方面在2θ＝2...

本发明提供一种高强度且耐化学药品性、耐溶剂性均为优异的复合材料以及一种能够比较容易且有利地工业性制造所述复合材料的方法。所述复合材料由将含有固化性液态含氟化合物的固化性液态含氟组合物的固化物和纤维基材一体化所形成。所述复合材料的制造方法...

本发明涉及物品，其特征在于，具有由表面处理剂形成的表面处理层，该表面处理剂含有在分子中不含羰基键、具有水解性基团的含有氟代氧亚烷基的聚合物和/或其部分水解缩合物，该物品进行下述条件的耐UVC性试验后的水的静态接触角为100度以上。上述表...

本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且高对比度、线的LWR及孔洞的CDU经改善、图案形成后的蚀刻耐性仍优良的化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅抗蚀剂组成...

本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，无论正型或负型，皆为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述...

一种硅氧烷改性的聚氨酯树脂涂布剂组合物，其包括：(A)硅氧烷改性的聚氨酯树脂；和(B)溶剂，其中组分(A)是包括下列成分的组合物的固化产物：(a)具有式(1)的含羟基的有机硅化合物(R13SiO1/2)k(R12SiO2/2)p(R1S...

本发明提供由下述通式(1)表示的新型的有机聚硅氧烷化合物、含有该化合物和具有环烯氧基甲硅烷基的水解性有机硅烷化合物和/或其部分水解缩合物的、即使使用各种催化剂也具有与现有产品同等的固化性、减轻对于人体的有害性、环境负担、固化后具有良好的...

本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物及其所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示...