太阳能电池元件涂布组合物在有机薄膜太阳能电池、钙钛矿型太阳能电池等中能够在太阳能电池单元上直接涂布，在大气压下固化，能够形成水蒸汽阻隔性高的保护膜，所述太阳能电池元件涂布组合物含有：(A)由式(1)表示的聚合物，[式中，X各自独立地为由...

用于光学元件的窗材料，其包括：合成石英玻璃基板，该基板具有平板形状并具有透过光的主表面，该主表面的至少一个是粗糙表面；和在合成石英玻璃基板的至少一个主表面上形成的防反射膜，该主表面是粗糙表面。本发明的用于光学元件的窗材料容易成型加工，在...

本发明涉及生物体电极、及生物体电极的制造方法。本发明的课题是提供为薄膜且高透明，生物体信号的感度高，生物体适合性优良，为轻量，且能以低成本进行制造，即使被水沾湿或即使干燥，即使长期间贴附于皮肤，生物体信号的感度仍不会大幅降低，不会产生皮...

以特定比例含有（A）分子链末端用水解性甲硅烷基和/或羟基甲硅烷基封端的有机聚合物、（B）由下述通式（1）表示的水解性有机硅烷化合物和/或其部分水解缩合物（R1为碳原子数1～10的一价烃基，n为1～8，m为3或4。）的室温固化性树脂组合物...

含有特定量的(A)下式的含有氟聚醚基的丙烯酸系化合物，V1‑Rf1‑Z‑Y(X)b(Rf1为二价的全氟聚醚基。Z为二价的有机基团。Y为(b+1)价的有机基团。X为含有(α取代)丙烯酰基的一价的有机基团。V1为H、F或‑Z‑Y(X)b。b...

由下式(1)表示的含有氟聚醚基的丙烯酸系化合物具有低折射率，并且能够与一般的光聚合引发剂相容，形成透明的组合物。V2‑Rf2‑C(＝O)‑NR1a[Y2(X2)b’]2‑a (1)(Rf2为由碳原子数1～6的全氟亚烷基和氧原子构成的数均...

本发明涉及导电性材料组成物、导电膜、及导电膜的形成方法。本发明提供用于形成高导电且高透明的导电膜的导电材料组成物。一种导电性材料，其特征为包含：(A)金属纳米线、(B)主链因酸及热中的任一者或两者而分解的树脂，及(C)溶剂。

本发明提供一种固化性马来酰亚胺树脂组合物等。所述固化性马来酰亚胺树脂组合物能够不使用NMP等非质子性极性溶剂，在比通常的聚酰亚胺的固化温度250℃低的低温条件下进行固化，特别是能够赋予对铜的粘合性优异的固化物。所述固化性马来酰亚胺树脂组...

本发明的反射型光掩模坯料具有：基板1；反射作为极端紫外线区域光的曝光光的多层反射膜2；用于保护多层反射膜2的保护膜3；吸收曝光光的光吸收膜4；以及与光吸收膜4相接形成的硬掩模。光吸收膜4是包含含氧的光吸收膜4的氧化层41及吸收层42的多...

本发明为一种模板头单元，其包含：模板部件，其在石英玻璃基板上至少具备有机硅类橡胶膜；模板部件保持部件，其具备具有孔的面，该孔用于对前述模板部件的石英玻璃基板面进行真空抽吸；以及，管状部件，其具有排气抽吸孔且与前述模板部件保持部件结合固定...

能够使烃油、高级醇等多种油剂胶凝的油胶凝剂，其为包含以下作为结构单元的共聚物：(a)由下述通式(1)表示的两亲性(甲基)丙烯酸系单体(式中，R1为氢原子或甲基，R2为直链状或分支状的碳原子数1～21的烷基)，(b)由下述通式(2)表示的...

提供保持石英玻璃布的低介电损耗角正切、介电损耗角正切的稳定性优异、用于基板时的可靠性优异的、硅烷偶联剂处理石英玻璃布及制造方法以及硅烷偶联剂处理液。硅烷偶联剂处理石英玻璃布，其为将SiO2量为95质量％以上、长丝直径为3～20μm的石英...

本发明提供有机硅氧烷化合物和表面处理剂。提供由下述通式(1)表示的可形成亲油性、耐磨损性优异的固化被膜的含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物和含有该化合物的表面处理剂。(式中，A为‑CH3、‑C(＝O)OR1、‑C(＝O)NR12...

本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供对比已知的抗蚀剂下层膜材料显示了极优良的干蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜形成用组成物、使用该组成物于抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。一种...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供具有相对于以往的抗蚀剂下层膜材料优异的干蚀刻耐性，且兼具高程度填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用化合物、使用了该化合物的含金属的膜形成用组成物、...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明提供对比于已知的抗蚀剂下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性，而且兼顾高程度的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用化合物、使用该化合物的含金属的膜形成用组成物、及使用...

本发明提供一种新型组合物(含有无机/有机杂化化合物的组合物)。本发明为一种组合物，其包含在聚乙烯醇类树脂上化学键合有金属氧化物的无机/有机杂化化合物与疏水性树脂。

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题提供于使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂组成物，包含下式(1)表示的超价碘化合物、含羧基...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明提供对比已知的抗蚀剂下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性且兼顾高程度的填埋/平坦化特性的金属化合物、使用了该化合物的含金属的膜形成用组成物、使用该组成物于抗蚀剂材...

本发明为一种量子点的图案化方法，其特征在于，其包含：在基板上涂布含有量子点与固化性树脂的混合物从而得到树脂层的工序；通过喷墨方式，在所述树脂层上将固化剂喷成图案状的工序；使所述树脂层中喷有所述固化剂的部分固化的固化处理工序；及使用溶剂去...