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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
分子抗蚀剂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中感度、分辨性及LWR优异的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种负型分子抗蚀剂组成物,含有:包含具有环状醚...
包含含有甲基丙烯酰氨基的有机硅化合物的组合物和经该组合物表面处理的物品制造技术
提供组合物,其包含由下述式(1)表示的含有甲基丙烯酰氨基的有机硅化合物和由下述式(2)表示的有机硅化合物。(式中,R1各自独立地表示碳原子数1~10的烷基或碳原子数6~10的芳基,R2表示甲基或乙基,Me表示甲基,m1和m2表示1~3的...
硅酮粘着剂组合物、粘着带及粘着膜制造技术
本发明提供一种赋予即使在超过150℃的高温下也可维持高粘着力与保持力的粘着层的硅酮粘着剂组合物、及包括包含所述粘着剂组合物的硬化物的粘着层的粘着带及粘着膜。本发明提供一种含有下述(A)成分~(D)成分的硅酮粘着剂组合物。(A)在一分子中...
形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法技术
本发明提供一种能够简便地评估基准标记的加工精度(例如深度)的EUV掩膜坯料的评估方法。一种形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法,拍摄形成于所述EUV掩膜坯料的基准标记并获取基准标记图像,根据该获取到的基准标记图像获取作为所述基准标记...
有机膜形成用材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、图案形成方法和化合物制造方法及图纸
提供有机膜形成用材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、图案形成方法和化合物。[课题]提供化合物和含有该化合物的有机膜形成用材料,所述化合物能够形成即便在非活性气体中的成膜条件下也会固化,不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋或平坦化...
反射掩模坯和反射掩模的制造方法技术
在包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收体膜和硬掩模膜的反射掩模坯中,保护膜由含有钌(Ru)的材料组成,吸收体膜由第一层和第二层或第一层、第二层和第三层组成,第一层具有含有钽(Ta)且不含氮(N)的组成,第二层具有含有钽(Ta)和氮(N)的...
含有羟基的有机硅化合物制造技术
提供由下述通式(1)表示的含有羟基的有机硅化合物。(R13SiO1/2)k(R12SiO2/2)p(R1SiO3/2)q(SiO4/2)r (1)[式(1)中,R1为选自一价烃基和由下述式(2)表示的基团中的基团,其中,全部R1基团中的...
硅氧烷改性聚氨酯组合物制造技术
提供硅氧烷改性聚氨酯组合物,其包含:(A)由式(1)表示的含羟基的有机硅化合物(R13SiO1/2)k(R12SiO2/2)p(R1SiO3/2)q(SiO4/2)r (1)[R1为一价烃基等,不过,全部R1基团中的至少一个为由式(2...
含有氟聚醚基的聚合物组合物、涂布剂和物品、以及物品的表面改性方法技术
本发明涉及能够形成拒水拒油性、耐磨损性优异、具有高摩擦系数的固化被膜的含有氟聚醚基的聚合物组合物,其含有:(I)在分子内具有氟聚醚基和反应性官能团、该氟聚醚基与反应性官能团经由不具有极性基团的连接基键合的特定结构的聚合物;(II)在分子...
化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法技术
一种化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。提供能够获得提高了形成图案时的分辨率且改善了LER、分辨率、图案忠实性和剂量裕度的抗蚀图案的化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组合物,其包含(A)淬灭剂和(...
化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供能够改善图案形成时的分辨性,且得到LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物,含有:...
导热性有机硅组合物及其制造方法技术
具有高热导率,作业性、耐偏移性优异的导热性有机硅组合物,其含有:(A)有机硅凝胶交联物;(B)既不含脂肪族不饱和键又不含SiH基的硅油;(C)平均粒径0.01~100μm的导热性填充剂:相对于(A)、(B)成分的合计100质量份为10~...
化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法技术
提供化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。提供能够获得提高了形成图案时的分辨率且改善了LER、分辨率、图案忠实性和剂量裕度的抗蚀图案的化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组合物,其包含(A)淬灭剂和(...
鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐,以下式(A...
连续地制造解聚纤维素醚的方法技术
本发明提供一种制造解聚纤维素醚的方法,所述方法节省空间且生产率高,能够减少纤维素醚的粉体对反应器的附着,并且能够得到抑制了黄度和异物的产生量的解聚纤维素醚。一种连续地制造解聚纤维素醚的方法,至少包含以下工序:a)调湿工序,使从原料罐(1...
负极活性物质、混合负极活性物质材料及负极活性物质的制造方法技术
本发明为一种负极活性物质,其为包含负极活性物质颗粒的负极活性物质,其特征在于,所述负极活性物质颗粒含有由碳层包覆的硅氧化物颗粒,并且,所述碳层在由其至少一部分的拉曼光谱分析得到的拉曼光谱中,源自G带的峰位置在大于1590cm<su...
负极活性物质、负极、锂离子二次电池、负极活性物质的制备方法及锂离子二次电池的制造方法技术
本发明为一种负极活性物质,其包含负极活性物质颗粒,其特征在于:所述负极活性物质颗粒含有SiO<subgt;x</subgt;所表示的硅化合物,其中,0.5≤x≤1.6,在由所述负极活性物质颗粒的XANES测定得到的XANES...
固化性全氟聚醚凝胶组合物、全氟聚醚凝胶固化物、及用该固化物密封的电气及电子构件制造技术
本发明提供一种固化性全氟聚醚凝胶组合物,其含有:10~90质量份的(A)在一分子中具有2个以上的烯基且在主链中不具有支链结构的直链状全氟聚醚化合物;10~90质量份的(B)在一分子中不具有反应性官能团的直链状全氟聚醚化合物(其中,(A)...
鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中,良好的感度、对比度,且曝光裕度、边缘粗糙度、尺寸均匀性、焦点深度等光刻性能优异,同时即便在微细图案形成中抗图案崩塌仍强且蚀刻...
生物体电极组合物、生物体电极和生物体电极的制造方法技术
一种生物体电极组合物、生物体电极和生物体电极的制造方法。[课题]提供一种生物体电极组合物、利用该生物体电极组合物形成有生物体接触层的生物体电极及其制造方法,所述生物体电极组合物能够形成导电性和生物体相容性优异、质量轻且能够以低成本进行制...
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