用于检测透镜变形的掩模包括在石英的各个位置形成的多个母游标和与每个母游标间隔的多个子游标。

本发明通过使光掩模图形边缘的某些部分或全部形成不变的锯齿形结构，来抵消光波在其峰值波长的干涉现象，从而能改善步进器分辨率极限。

一种相移掩膜，它包括在透明衬底的一面或两面上形成两个相移膜图形，使得它们的光路相互重叠。在相移膜图形之上，形成具有小于相关相移膜图形尺寸的间隔的相移膜图形，使得相对于相移膜图形可产生光的三次相位移，由此使相邻光束之间产生干涉。这种光干涉...

＊＊＊ （Ⅰ） 本发明公开了一种用于亚微米光刻术的光致抗蚀剂树脂共聚物（如式Ⅰ所示），及一种包括此共聚物的光致抗蚀剂组合物：其中Ｒ↓［１］是含有０－３０个碳原子的烷基；Ｒ↓［２］和Ｒ↓［３］互不相关地分别为含有１－１５个碳原子的...

＊＊＊ Ⅰ 本发明提供含第３位置被保护的Ｎ－乙烯基内酰胺衍生物的共聚物，其由下式代表。用该共聚物作为适合远紫外线方法的光致抗蚀剂，如此可以得到高敏感度和清晰度。除此之外，使用该光致抗蚀剂，可以形成超细电路，在曝光后放置时间（ＰＥ...

一种光致抗蚀剂，包括从双环烯衍生物、马来酸酐和／或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物，其中共聚物分子量范围是３０００－１０００００。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外，该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在Ｔ...

一种可用于抗光蚀剂的新颖共聚物，其是由共聚合至少两种环脂肪族的烯烃与一种酰胺或酰亚胺所制备而得，而包含该共聚物的抗光蚀剂，在使用氟化氩（１９３纳米）光源的一种光石版印刷术中，可形成一种解析度得到很大改进的图案。

本发明涉及一种使用于远紫外线（像ＫｒＦ或ＡｒＦ）的光致抗蚀剂的共聚物树脂、其制备方法及包含此树脂的光致抗蚀剂。本发明的共聚物因其可将顺－５－降冰片烯－内－２，３－二羧酸单甲酯单元导入用作光致抗蚀剂之降冰片烯－顺丁烯二酸酐共聚物的结构中，...

本发明涉及一种用于超短波光源（像ＫｒＦ或ＡｒＦ）的共聚物树脂及其制备方法，和包含此树脂的光致抗蚀剂。本发明的共聚物树脂可以传统的自由基聚合反应，容易地将降冰片基（甲基）丙烯酸酯单元导入用于光致抗蚀剂聚合物的结构中制备而得。此树脂在１９３...

＊＊＊ 本发明涉及下式１所示的聚合物和采用该聚合物形成显微图形的方法其中，Ｒ为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］伯醇或仲醇基；ｍ和ｎ相互独立地代表１－３的数；以及ａ∶ｂ∶ｃ之比为（１０－８０）摩尔％∶（１０－８０）摩尔％∶（１０－８０）摩尔...

＊＊＊ 本发明涉及右式１所示的聚合物和采用该聚合物形成显微图形的方法，其中，Ｒ↓［１］为Ｃ↓［０］－Ｃ↓［１０］直链或支链取代烷基或苄基；Ｒ↓［２］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］伯醇、仲醇或叔醇基；ｍ和ｎ相互独立地代表１－３的数；以及...

＊＊＊ 本发明涉及一种新型单体、该单体的共聚物和从其制得的光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂单体由下面化学式１表示：其中Ｒ是取代或未取代的直链或支链（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］）烷基，取代或未取代的（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］）醚，...

＊＊＊ 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂，该光致抗蚀剂组合物适用于使用ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ），电子束，离子束或ＥＵＶ光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有（ｉ）由下列化学分子式１表示的化合物...

＊＊＊ 本发明涉及用于光致抗蚀剂的交联剂，该光致抗蚀剂适用于使用ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ），电子束，离子束或ＥＵＶ光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有一种具有来源于（ｉ）由下列化学分子式１表示的化合...

＊＊＊ 本发明揭示一种化学式１的交联单体，使用该单体制备光致抗蚀剂聚合物的方法，及该光致抗蚀剂聚合物。

本发明涉及一种具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物及一种使用该组合物形成光致抗蚀图案的方法。更具体地说，本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包括（ｉ）光致抗蚀剂聚合物和（ｉｉ）赋予光致抗蚀剂组合物剪切稀化特性的有机溶剂，例如非牛顿...

本发明涉及一种防止胺污染的顶部涂层组合物及一种使用所述组合物形成精细图案的方法。优选地，本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物包括一种防止胺污染的化合物。本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物减少或避免了由于曝光后延迟效应所引起的Ｔ形顶部涂层问...

本发明提供一种式１的交联剂单体，由包含该交联剂单体的单体生成的光致抗蚀剂聚合物，及包含该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂组合物。光致抗蚀剂聚合物的交联单元可被曝光区域中由光酸产生剂产生的酸水解（或降解或断裂）。据信该交联单元的酸降解增加了曝...

公开了一种适合用于超微平版印刷的抗反射薄膜组合物，包括一种含如下化学通式１１的化合物作为交联剂和生色团及如下化学通式１２的化合物。本发明的有机抗反射薄膜有效吸收通过涂于抗反射薄膜上的光刻胶薄膜渗透的光，由此大大降低驻波影响。因此，本发明...

＊＊＊ 公开了一种适合用于超微平版印刷的抗反射薄膜组合物，包括一种如下化学通式１３的化合物作为交联剂和如下通式１４的化合物作为生色团。本发明的有机抗反射薄膜有效地吸收通过涂于抗反射薄膜上的光刻胶薄膜渗透的光，由此大大降低驻波影响。...