＊＊＊ （Ⅰ） 提供了在３位受到保护的Ｎ－乙烯基内酰胺衍生物，它由通式（Ⅰ）表示。这些衍生物被聚合成均聚物和共聚物，并用于半导体制造的微平版印刷方法。该聚合物用作适合于深ＵＶ处理的光刻胶原料，从而能够获得具有高灵敏度和高分辨率的...

本发明提供了抗反射涂料聚合物，包含该聚合物的抗反射涂料（ＡＲＣ）组合物和使用该种组合物的方法。本发明的抗反射涂料聚合物特别适用于ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）或Ｆ＃－［２］（１５７ｎｍ）激光作为光源的超微平版印刷方法中，其包...

本发明公开了一种方法，该方法增加ＢＰＳＧ膜进行平面化的回流工艺后的温度线性下降速率，然后在尽可能高的温度下取出晶片，由此ＢＰＳＧ膜的表面变成一快速冷却区，该区的结构保持完好，ＢＰＳＧ膜的内部变成一慢冷却区，该区内所有材料将在回流温度进行...