现代电子产业株式会社专利技术

现代电子产业株式会社共有423项专利

  • 本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物,更具体地说,涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光酸产生剂,(c)有机溶剂,及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2...
  • 本发明提供的光致抗蚀剂组合物包括,其用于抗蚀剂流动工艺中。本发明还提供一种方法,采用所述组合物形成接触孔图形。特别地,本发明的光致抗蚀剂树脂包括两种以上聚合物的混合物。优选地,第一共聚物和第二共聚物的混合物交联,从而防止由于经常发生于常...
  • 一种用于LCD投影仪式LCD监视器的偏振元件,包括一块偏振束分离与组合棱镜以及扭转向列(TN)液晶或者1/2或1/4波长板。该偏振束分离与组合棱镜的作用为透射通过平行于偏振镜的偏振方向的光束。用这种结构,有可能在使用同一光源时加倍光效率...
  • 一种用于一光盘记录器的光束成形棱镜,设计成具有一入射面,用于接收一倾斜入射光束并将该入射光束反射,从而使该光束形状扩张,一全反射面,用于将入射光全反射,和一出射面,用于将该全反射光束折射成垂直于入射光束的光束,出射面相对于入射光束的方向...
  • 本发明提供一种车用平视显示装置,该装置包括:由粘接在汽车前玻璃窗上的反射型全息光学元件构成的全息合像器;以及由形成文字和图案的光源、用来把由上述光源形成的文字图案投射到合像器上的透射型全息光学元件、和LCD所构成的全息投射光学系统。该装...
  • 一种用于移动式通信交换机的连接电缆检验设备和方法,该方法包括下述步骤:存储与检验对象种类相同并且假定能正常工作的连接电缆的连接数据;以及比较该连接数据和作为检验对象的连接电缆的连接数据,由此判断作为检验对象的连接电缆的连接状态是否良好。
  • 一种用于检验在半导体基片上的介电薄膜的可靠性的方法:确立第一级的电流值并施加于介电薄膜;施加对应后续各级的下一个电流直到介电薄膜被击穿,其中,各级的电流值按续增加;测量电荷值直到介电薄膜被击穿,其中对应于各级的电流值被一预定的分母值除,...
  • 一种通过肉眼检测涂敷在晶片上的光刻胶膜微观厚度差的方法,即使是256M以上的DRAM器件也能精确控制光刻胶膜图形关键尺寸,并允许精确地分析产额,该法包括以下各步骤:使光刻胶膜在低温经受热处理,以使得某些低分子量化合物或溶剂分子保留在光刻...
  • 本发明涉及光学测距装置及其方法。本发明光学测距装置包括:系统控制装置、光发射装置、光接收装置、时间-距离转换装置。当本发明装置正常时,向目标发射高功率脉冲光束,然后发生触发信号,通过在所发生触发信号和从目标反射的光速信号之间的时间差得到...
  • 本发明涉及使用相位变异的光学测距装置及方法。本发明装置包括:光发射装置、光接收装置、信号发生/相位差检出装置和控制装置。在本发明方法中,使第一和第二为断续脉冲信号乘以基准脉冲信号,低通滤波该相乘信号,使该低通滤波信号进行相位补偿,检出在...
  • 一种形成呈现较好电学和物理性能的PLT薄膜的方法。此方法包括下列步骤:将形成有氧化硅膜和(111)定向的金属薄膜的薄片放在反应室里;调整反应室至能产生沉积的温度,同时保持它在高真空状态;导入所需量的运载气体到反应室里,其用来运载原材料;...
  • 本发明公开了一种制造高纯度硅片的方法,通过利用离子注入和退火的非固有吸杂方法,仅仅进行低温短时间的退火处理,获得的所期望的吸杂效果来实现高纯度硅片的制造。
  • 一种制备氮化钛(TiN)层的方法,包括的步骤为:用原材料形成TiN层;将TiN层置于氢气和氮气的等离子体中。本发明通过消除TiN层中的杂质和减少TiN层中的气孔率,降低了TiN层的电阻率,从而提高了TiN层的电学稳定性。
  • 一种在可涂敷性、结构精细度和组成的均匀性方面都是优越的铁电薄膜是通过由下列步骤组成的方法获得的:通过用RF能激发等离子体引发由多种元素组成的铁电反应物离解,使其能够参与沉积反应;建立最佳工艺条件,在该条件下,使通过激发等离子体由反应物的...
  • 一种金属有机化学气相淀积装置,包括原料细颈瓶、液体微型泵、装置有溶剂供应装置的蒸发器及反应器。容于溶剂中的反应物在原料细颈瓶中经液体微型泵送至蒸发中,足够量的溶剂和送进来的反应物同时经由溶剂供应装置被另外供应至蒸发器中,在蒸发器中蒸发后...
  • 本发明披露了一种在制造半导体器件过程中通过化学气相淀积法淀积铜线时使用的液体输送系统(LDS),其包括:铜液体材料供给装置,用于经过以恒定速度旋转的注入孔向汽化器装置供给具有室温的铜液体材料;载体供给装置,用于经过注射喷嘴注射保持在铜汽...
  • 提供了适用于半导体器件的防反射性涂料的重氮萘醌磺酰基取代的聚合物及其制法。该涂料在照相平版印刷过程中用于半导体器件,防止来自该器件底涂层的或由光致抗蚀涂层厚度变化带来的光反射,并且消除了当使用ArF光时的驻波效应。还提供了仅含有这些有机...
  • 本发明提供了一种抗反射涂料聚合物,包含该聚合物的抗反射涂料(ARC)组合物和使用该种组合物的方法。本发明的抗反射涂料聚合物特别适用于使用ArF(193nm)激光作为光源的在超微平版印刷方法中。本发明的ARC降低或阻止光的背反射和衍射和/...
  • 本发明提供了抗反射涂料聚合物,包含该聚合物的抗反射涂料(ARC)组合物和使用该种组合物的方法。本发明的聚合物特别适用于KrF(248nm)或ArF(193nm)激光作为光源的超微平版印刷工艺中,其包括能够吸收在超微平版印刷工艺中所用波长...
  • 本发明提供了一种适合用于抗反射涂层(ARC)的聚合物、含有该聚合物的ARC组合物、其制备方法以及其使用方法。本发明的聚合物特别适用于超微平版印刷工艺,例如使用KrF(248nm)、ArF(193nm)或F#-[2](157nm)激光器作...