本实用新型是一种真空电镀挂具，其结构包括相互连接的主板和背板，主板远离背板的一侧面顶端开有抽真空连接孔，主板与背板通过抽真空连接孔外接抽真空装置相互抽真空连接。本实用新型的优点：结构设计合理，主板和背板两部分结构分别组装好后，可通过磁铁...

本实用新型是翻转式晶圆刻蚀机，其结构包括主机架，主机架正面顶部设触控式工业电脑，触控式工业电脑下方的主机架上的开口内设开合透视盖，开合透视盖两侧的主机架上设有控制按钮，开合透视盖下方的主机架内侧设水槽，水槽后侧的主机架内侧相邻设有工艺槽...

本实用新型是刻蚀机用晶圆翻转料架，其结构包括翻转轴，翻转轴一端连接安装在支座上的翻转油缸的输出端，翻转轴外侧面靠近两端处分别设有平行设置的支撑杆，支撑杆端部通过转动连接部转动连接晶圆架，料架转动驱动机构驱动连接晶圆架绕转动连接部转动。本...

本实用新型是晶圆电镀设备自动上下料装置上下料机构，其结构包括机架上的晶圆机器人和相邻设置在晶圆机器人外侧的两个晶圆篮，晶圆篮可拆卸安装在机架上的定位底座上，晶圆篮的开口朝向晶圆机器人，晶圆篮内从上至下均匀设有若干层与水平面平行的晶圆片放...

本实用新型是晶圆电镀设备自动上下料装置中转定位机构，其结构是固定在机架上的支撑板底面设升降伺服，升降伺服输出端穿过支撑板通过升降头连接位于支撑板上方的升降座底面中心，升降座顶面中心设负压真空，升降座底面连接四根导杆顶端，导杆通过轴承与支...

本实用新型是晶圆电镀设备自动上下料装置挂具移动开合机构，其结构包括设置在机架上的挂具移动机构和挂具开合机构，挂具移动机构滑动连接在导轨上，挂具开合机构安装在导轨中部上方的顶安装架上，顶安装架底端安装在导轨外侧的机架上。本实用新型的优点：...

本实用新型是水平式晶圆电化学沉积设备电化学液循环系统，其结构是副槽位于机架内一侧，溢流槽位于机架内另一侧上方且与副槽相通，溢流槽和副槽上方罩设有顶板，电化学沉积槽位于溢流槽内且顶部穿过顶板，电化学沉积槽侧壁设有与溢流槽相通的溢流口，电化...

本实用新型是晶圆电镀设备自动上下料装置定圆心及检测机构，其结构是安装座中心设转轴，转轴底端连接安装座内的转动驱动装置，转轴顶端连接转盘，转盘两侧对应设有内侧呈弧形的收拢爪，收拢爪安装在移动杆顶端，移动杆底端连接安装座内的平移驱动装置，两...

本实用新型是水平式晶圆电化学沉积设备电化学沉积槽搅拌机构，其特征包括搅拌风叶和马达，搅拌风叶位于安装在机架上的沉积槽内的均匀性孔板上方且由同步齿轮组传动连接，同步齿轮组位于沉积槽中部环形的安装板向内圆心侧的延伸部上且与位于安装板上部的内...

本实用新型是水平式晶圆电化学沉积设备电化学沉积槽，其结构包括安装在机架上的槽体支架内的沉积槽本体，槽体支架侧壁设溢流口，沉积槽本体内设搅拌机构，沉积槽本体包括从下至上依次设置的铜球放置钛篮、下均匀性孔板、环形的安装板、可转动的的内定齿轮...

本发明是晶圆电镀设备自动上下料装置，其结构是机架上的上下料机构与定圆心及检测机构相邻设置，上下料机构与中转定位机构相邻设置，中转定位机构两侧设导轨，导轨由中转定位机构两侧延伸至中转定位机构另一端两侧后部，挂具移动开合机构包括挂具移动机构...

本发明是水平式晶圆电化学沉积设备，其结构是密封盖位于机架顶部的顶板上，密封盖四周的顶板上设压紧把手，密封盖下方的顶板下方设主槽，主槽内设电化学沉积槽，主槽旁的顶板下方设马达安装槽，马达安装槽顶部装有马达，马达位于顶板上方，马达安装槽内水...