沈阳广泰真空科技股份有限公司专利技术

沈阳广泰真空科技股份有限公司共有17项专利

  • 本发明公开了一种闭环控制坩埚烘烤方法、系统、存储介质及计算机设备,涉及坩埚制造技术领域。其中方法包括:通过感应加热装置对坩埚进行加热烘烤,并通过测温装置测量得到坩埚温度,然后根据所述坩埚温度和预设的目标温度,利用升温PID算法调整所述感...
  • 本申请公开了一种五室真空连续热处理炉控制系统及方法,涉及热处理炉控制领域,可以实现对系统的自动化控制,减轻操作人员的负担,提高生产效率和安全性
  • 本申请公开了一种磁控溅射旋转靶真空镀膜机控制系统及方法,涉及材料工程领域,中央控制器能够根据预设逻辑和操作人员的控制指令输出控制信号,从而实现对执行器的精确控制,提高设备的稳定性和可靠性,同时降低设备维护和运营成本
  • 本申请提供了一种八室真空连续烧结炉控制方法和八室真空连续烧结炉,所属真空连续气氛烧结炉技术领域,通过连续对物料进行预处理
  • 本发明提供了一种真空炉插板阀,属于真空炉技术领域,用于解决真空炉炉温一致性及真空炉性能和节能减排方面存在不足的问题。本发明的真空炉插板阀包括:真空腔体、压板、至少一个阀板、驱动装置。真空腔体通过接口连接在真空炉的炉口上。真空腔体的内壁上...
  • 本申请提供了一种扳手及电动扳手,属于机械工具技术领域,用于解决狭小空间中的螺栓装配困难的问题。本申请的扳手包括:导向管和柔性转轴。导向管包括相互连接的第一管段和第二管段。第一管段的轴线与第二管段的轴线之间形成夹角。第一管段与第二管段的连...
  • 本申请属于真空炉技术领域,提供了一种凹凸板式反射屏加热室,包括:真空壳体、加热室框架、反射屏、加热器及凸起部;所述加热室框架设置于所述真空壳体内,所述反射屏设置于所述加热室框架内,若干所述加热器从上到下依次间隔设置于所述反射屏内部,两两...
  • 本发明公开了一种自动保护进料热处理控制系统及方法,能提高生产质效。该系统包括:控制中心、保护进料装置、至少一个连续热处理炉,保护进料装置和每个连续热处理炉均与控制中心建立通信连接;控制中心接收工艺处理指令,获取工艺处理指令对应的工艺执行...
  • 本发明公开了一种镀膜外循环风冷装置及风冷方法,属于金属热加工冷却技术领域,包括风冷腔体、管路、真空系统、输气系统、换热器、制冷装置和风机系统。本发明通过将风冷腔体内抽真空,注入惰性气体并将冷却气体的温度降至零下,将惰性气体循环制冷使用,...
  • 本发明公开了一种烧结炉控制方法及装置、存储介质、终端,涉及冶金设备控制技术领域,主要目的在于解决烧结炉控制精度较低的问题。主要包括获取参数配置界面中对参数进行设定的第一操作内容,并根据所述第一操作内容确定烧结炉运行参数;获取曲线选择界面...
  • 本申请提供了一种扳手及电动扳手,属于机械工具技术领域,用于解决狭小空间中的螺栓装配困难的问题。本申请的扳手包括:导向管和柔性转轴。导向管包括相互连接的第一管段和第二管段。第一管段的轴线与第二管段的轴线之间形成夹角。第一管段与第二管段的连...
  • 本申请公开了一种浇注控制方法、装置、存储介质以及电子设备。其中方法包括:接收由显示界面发送的初始浇注关系曲线;当铸片设计厚度改变的情况下,获得基于所述初始浇注关系曲线以及待加工铸片厚度进行计算得到的、与所述待加工铸片生产过程对应的目标浇...
  • 本申请提供了一种用于熔炼炉的加料机构及控制方法,属于熔炼技术领域,用于解决加料过程中发生的运行异常及加料失败的问题。用于熔炼炉的加料机构,包括:加料室、加料桶、第一传感器、导向结构和控制系统。加料室位于熔炼炉的顶部且与熔炼炉的熔炼室连通...
  • 本发明实施例公开了一种真空感应快淬炉的控制方法及真空感应快淬炉,在大功率熔化与喷射生产过程中,对熔炼室及收料室边充入氩气边排气,这样腔室内部的氩气分子与合金料挥发物分子形成流动做布朗运动,从而将腔室内部的微观分子一并排出腔室外部,避免熔...
  • 本申请公开了一种真空感应铸片炉的控制方法、装置、电子设备及存储介质,涉及真空感应熔炼炉领域,在不破坏真空惰性气体环境下打磨铜辊、更换中间包及加料,提高生产效率,且突发情况时,能将中间包与铜辊在惰性气体氛围下退出,保证鳞片品质。所述真空感...
  • 本发明公开了一种真空熔炼炉加料装置,包括沿第一方向依次设置的转塔装置、台车装置和料仓装置。转塔装置包括用于悬挂料桶的第一支架;台车装置包括台车底座、运动机构、第二支架,运动机构设置在台车底座上并与第二支架连接,用于驱动第二支架相对于台车...
  • 本发明公开了一种驱动冷却辊旋转的方法、装置、存储介质及电子设备,其中方法包括:获取液压马达的实时转数PV,将实时转数PV转换为第一模拟信号,发送第一模拟信号;接收第一模拟信号,比较实时转数PV与设定转数SV,根据实时转数PV与设定转数S...
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