本公开描述一种具有风刀机构的涂布装置，包括基台

本公开涉及一种涂布设备，包括承载机构和分配机构，承载机构包括具有第一引导部

本公开描述一种多龙门结构的涂布设备，其包括基台、供料机构、以及驱动机构，基台用于承载涂布对象，供料机构包括多个支承部、以及多个分配部，支承部为龙门结构的横梁且具有位于基台上方的主体部、以及形成在主体部的两端且分别布置在基台相对两侧的两个...

本公开描述一种连续式涂布装置，是用于对多个涂布对象进行连续涂布的连续式涂布装置，包括支承机构、驱动机构和分配机构，支承机构包括由上游向下游延伸的基平面，多个涂布对象沿着由上游指向下游的方向连续排布在基平面上，驱动机构具有抵接基平面上的涂...

本公开描述一种用于涂布设备的装配机构，涂布设备包括底座、设置在底座上且形成为龙门结构的支承机构、可拆卸地安装在支承机构的横梁上的涂布模头、以及布置在支承机构的横梁下方且承载涂布对象的基台，涂布模头具有容纳浆料的腔室、以及与腔室连通且呈狭...

本公开描述一种用于大面积涂布的涂布装置，其包括基台、供料机构、干燥机构、以及驱动机构，供料机构包括分配浆料的分配部，干燥机构包括供应气体的供应部、设置在分配部与供应部之间的挡风部、以及设置在供应部上游的气流导引部，出风口以气流流向朝向上...

本公开描述一种涂布设备，包括洁净箱、支承机构、供料机构、搬运机构、气流引导机构、以及送风机构，洁净箱包括箱体、进气口、出气口、进气阀、排气阀、以及门，支承机构和供料机构设置在容纳空间内，支承机构用于支承基板，供料机构将溶液引导至基板上，...

本公开描述一种涂布设备，包括洁净箱、气流引导机构、支承机构、以及供料机构，洁净箱包括具有容纳空间的箱体、以及设置在箱体上且与容纳空间连通的第一风洞和第二风洞，气流引导机构包括风机、进气管道、排气管道、循环管道、以及试剂含量控制器，风机用...

本发明公开了一种适用于太阳能硅片的涂膜设备，其包括至少一个硅片载台、至少一个掩膜载台、基础平台以及至少一个调平定位组件；掩膜载台固设在基础平台上，并形成硅片涂布工作区域；硅片载台通过调平定位组件可调节的安置在基础平台上，并位于所述掩膜载...

本实用新型描述一种涂布装置，包括承载涂布对象的基台、朝向涂布对象分配浆料的供料机构、驱动供料机构相对于基台移动的驱动机构、以及风刀机构，风刀机构包括具有朝向基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节气流引导部的调节底座，调节底座包括与驱...

本实用新型涉及一种用于涂布设备的承载装置，包括具有第一引导部、第二引导部和第三引导部的基座、以及第一支承部和第二支承部，第一支承部具有沿着第一引导部移动的第一安装部、以及设置于第一安装部且支承承载对象的第一基板，第二支承部具第二安装部、...

本实用新型描述一种涂布装置及其顶升机构，顶升机构包括顶升构件、多个底座、电机、以及传动构件，顶升构件包括支架、以及设置在支架上且朝向上方延伸的多个突起部；多个底座设置在支架的下方；传动构件包括多个十字传动部、设置在十字传动部上的升降轴、...

本实用新型描述了一种涂布设备，包括支承机构、供料机构、冷却机构、以及驱动机构，支承机构具有支承涂布对象的支承面、以及与支承面相邻的流体腔，供料机构包括分配浆料的分配部，分配部包括具有容纳浆料的腔室的壳体、以及连通于腔室的出料口，冷却机构...

本实用新型描述一种涂布设备的供液装置，包括存储液体的储液瓶、经由第一流体通道和第二流体通道而与储液瓶流体连接的隔膜泵、经由第三流体通道而与隔膜泵连接的涂布头，以及连接涂布头和储液瓶的第四流体通道；隔膜泵向储液瓶和/或涂布头施加致动力，第...

本实用新型描述一种洁净箱，是为处理对象提供洁净空间的洁净箱，其包括壳体、支承机构、第一气流引导机构和第二气流引导机构，壳体具有容纳空间、以及分别形成在容纳空间相对两侧的第一风洞和第二风洞，支承机构设置在容纳空间内并支承处理对象，第一气流...

本实用新型描述一种具有除边机构的晶圆涂布设备，其包括支承晶圆的支承机构、向晶圆供应浆料的供料机构、驱动供料机构的驱动机构、以及对晶圆的边缘进行清除的除边机构，支承机构包括承载晶圆的托盘、以及驱动托盘转动的转动部，供料机构具有容纳浆料的腔...

本实用新型描述一种具有清洁机构的晶圆涂布设备，其包括支承晶圆的支承机构、向晶圆供给浆料的供料机构、驱动供料机构的驱动机构、以及清洁支承机构的清洁机构，支承机构包括承载晶圆的托盘、以及驱动托盘转动的转动部，供料机构具有容纳浆料的腔室、以及...

本发明提供了一种狭缝涂敷成膜方法，使用狭缝涂膜装置进行,所述的装置包括：基板承载平台（101）、基板（102）、分配刀头（104）、等离子清洗头（105）、高温风刀（106）、精密预计量泵（107）、储液罐（108）和保温管路（109）...

本发明提供了一种电子信息及光电材料涂布装置，用于将液体光电材料应用于基片，其特征在于，所述的装置包括：流体导管；一个与流体导管连接的挤出模具，其用于将光电材料挤出到基片上；一个用于固定基片相对于挤出模具的选择位置的卡盘；一个与流体导管连...

本公开提供了一种提高高粘度材料利用率的涂膜装置，其包括供料模块、第一涂覆模块、第二涂覆模块、清洗模块和控制模块，供料模块包括分配刀头、刀头压力监控器、储液罐、第一供液泵、第一泵压力监控器、第一吸料阀、第一出料阀、第二吸料阀、第二出料阀、...