涂布设备制造技术

本实用新型专利技术描述了一种涂布设备，包括支承机构、供料机构、冷却机构、以及驱动机构，支承机构具有支承涂布对象的支承面、以及与支承面相邻的流体腔，供料机构包括分配浆料的分配部，分配部包括具有容纳浆料的腔室的壳体、以及连通于腔室的出料口，冷却机构连通于支承机构的流体腔，并向支承机构的流体腔输送冷却介质，驱动机构驱动支承机构和/或供料机构以使两者相对移动。本实用新型专利技术的涂布设备在对涂布对象进行涂布时，可以通过冷却介质形成涂布的低温环境，降低供应到涂布对象上的浆料的挥发速率，进而能够在涂布对象上全面地、稳定地形成膜。成膜。成膜。

【技术实现步骤摘要】
涂布设备


[0001]本技术具体涉及一种涂布设备。

技术介绍

[0002]目前，随着一些行业例如芯片、显示、太阳能得到的发展，各工厂对精密成膜的技术也有了更高的需求。由于涂敷湿膜干燥制备膜层的技术在制备膜层时使用起来比较简单，且成本较低，因此，涂敷湿膜干燥制备膜层的方法在一些精密涂膜的产业中得到了广泛的应用。
[0003]现有技术中，为了降低生产成本并提高生产产能，常常采用涂敷湿膜干燥的方法制备膜层，使用涂敷湿膜干燥的方法制备膜层包括有狭缝涂膜、旋涂、刮涂等多种方式，而采用狭缝涂膜通常可以得到大面积、具有较高的一致性且精准膜厚的液膜，因此也常常用使用狭缝涂膜的方式进行涂膜。
[0004]然而，在进行大面积涂布时，与制备小批量且小尺寸的液膜相比，很容易出现一些制备小尺寸液膜时不容易出现的一些问题。在制备大尺寸的液膜时，涂膜的时间会比制备同种小尺寸的液膜多上几倍甚至十倍。在这种情况下，若形成液膜的溶剂挥发较快，在进行涂膜的前端和后端的溶剂梯度不同，容易造成膜厚不均，在液膜干燥过程中如果出现成核的结晶甚至可能会造成制膜失败。且对于一些具有光学性能需求的膜层(例如钙钛矿液膜)来说，若不能在短时间内统一成膜，会严重的影响其光电效率。

技术实现思路

[0005]本技术是有鉴于上述现有技术的状况而提出的，其目的在于提供一种能够控制或降低液膜溶剂挥发速率的涂布设备。
[0006]为此，本技术提供一种涂布设备，包括支承机构、供料机构、冷却机构、以及驱动机构，所述支承机构具有支承涂布对象的支承面、以及与所述支承面相邻的流体腔，所述供料机构包括分配浆料的分配部，所述分配部包括具有容纳浆料的腔室的壳体、以及连通于所述腔室的出料口，所述冷却机构连通于所述支承机构的流体腔，并向所述支承机构的流体腔输送冷却介质，所述驱动机构驱动所述支承机构和/或所述供料机构以使两者相对移动。
[0007]在本技术所涉及的涂布设备中，通过支承机构支承涂布对象，通过供料机构中分配浆料的分配部向出料口输送浆料，出料口流出的浆料流到涂布对象，并通过驱动机构驱动供料机构并使支承机构和/或供料机构相互移动。由此，能够通过涂布设备对涂布对象进行涂布。另外，支撑机构具有流体腔，冷却机构与流体腔连通并向流体腔输送冷却介质。在这种情况下，当涂布设备对涂布对象进行涂布时，通过冷却机构向与支承面相邻的流体腔输送冷却介质，可以在涂布过程中维持浆料形成液膜的低温条件，进而抑制浆料的挥发直至完成大面积尺寸的涂布，由此能够控制或降低浆料的挥发速率，提高大面积涂布的期望效果。
[0008]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述冷却介质为冷却气或冷却液。由此，通过冷却气和冷却液在一定程度上降低周围空间的温度，由此能够降低分子的运动速率。
[0009]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述供料机构还包括连通于所述分配部且储存浆料的储料罐，所述储料罐具有连通于所述冷却机构且与所述储料罐的储料空间相邻且不连通的流体腔，所述冷却机构向所述储料罐的流体腔输送所述冷却介质。在这种情况下，当对涂布对象进行涂布时，通过冷却介质维持储料罐中浆料所处的低温环境，由此能够有效控制或降低浆料的挥发速率。
[0010]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述壳体具有连通于所述冷却机构且与所述腔室相邻且不连通的流体腔，所述冷却机构向所述壳体的流体腔输送所述冷却介质。由此，能够有效控制壳体的温度，使得保持在壳体内的浆料能够处于一个具有稳定温度的环境。
[0011]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述支承机构呈平板状且具有预定宽度和预定长度。在这种情况下，根据预定宽度和长度设置对应尺寸的涂布对象，由此能够使涂布对象比较平整且完整地放置于支承机构。
[0012]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述支承机构的流体腔包括彼此连通的多个管状腔，所述多个管状腔并排布置。由此，能够在形成管状腔的多个位置上输入冷却介质。
[0013]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，各个管状腔的长度等于所述预定宽度，并且所述多个管状腔沿着所述支承机构的长度方向排列；或者各个管状腔的长度等于所述预定长度，并且所述多个管状腔沿着所述支承机构的宽度方向排列。在这种情况下，在对涂布对象进行涂布时，通过冷却机构向流体腔通入冷却介质，由此能够使流体腔所对应的各个部位的温度能处于一个稳定的低温环境，进而降低液膜的溶剂的挥发速率，使得涂布对象能够稳定成膜。
[0014]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述出料口呈狭缝状，并且所述出料口的长度不小于所述预定宽度。在这种情况下，通过供料机构向涂布对象供应浆料进行涂布时，能够使涂布对象比较全面的进行涂膜。
[0015]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述壳体的流体腔沿着所述出料口的长度方向延伸。由此，在向流体腔内连通冷却介质时，若出料口在对涂布对象供应浆料，能够相对应地通过冷却控制出料口的浆料的挥发速率。
[0016]另外，在本技术所涉及的涂布设备中，可选地，所述驱动机构驱动所述分配部沿着所述支承机构的长度方向水平移动。在这种情况下，在通过分配部对涂布对象进行涂布时，通过驱动机构控制移动，由此能够比较方便的控制对涂布对象进行涂布。
[0017]根据本技术的涂布设备，能够控制或降低液膜溶剂的挥发速率，以使涂布对象全面地、稳定地形成膜。
附图说明
[0018]现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本技术，其中：
[0019]图1是示出了本技术实施方式所涉及的涂布设备的整体示意图。
[0020]图2是示出了本技术实施方式所涉及的支承机构的示意图。
[0021]图3是示出了本技术实施方式所涉及的供料机构的示意图。
[0022]图4是示出了本技术实施方式所涉及的分配部的供料的示意图。
具体实施方式
[0023]以下，参考附图，详细地说明本技术的优选实施方式。在下面的说明中，对于相同的部件赋予相同的符号，省略重复的说明。另外，附图只是示意性的图，部件相互之间的尺寸的比例或者部件的形状等可以与实际的不同。
[0024]需要说明的是，本技术中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，例如所包括或所具有的一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可以包括或具有没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0025]本实施方式涉及一种涂布设备，是用于在片式材料表面涂布浆料以在表面形成膜的狭缝涂布设备。本实施方式所涉及的狭缝涂布设备，能够适用于对晶圆进行涂布并且能够提高膜厚的一致性。
[0026]本实施方式所涉及的涂布设备可还可以被称为涂膜设备、涂敷设备等，但应当理解，上述各名称都是为表示本实施方式所涉及的用于在涂布对象的表面涂布浆料以使在涂布本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布设备，其特征在于，包括支承机构、供料机构、冷却机构、以及驱动机构，所述支承机构具有支承涂布对象的支承面、以及与所述支承面相邻的流体腔，所述供料机构包括分配浆料的分配部，所述分配部包括具有容纳浆料的腔室的壳体、以及连通于所述腔室的出料口，所述冷却机构连通于所述支承机构的流体腔，并向所述支承机构的流体腔输送冷却介质，所述驱动机构驱动所述支承机构和/或所述供料机构以使两者相对移动。2.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述冷却介质为冷却气或冷却液。3.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述供料机构还包括连通于所述分配部且储存浆料的储料罐，所述储料罐具有连通于所述冷却机构且与所述储料罐的储料空间相邻且不连通的流体腔，所述冷却机构向所述储料罐的流体腔输送所述冷却介质。4.根据权利要求3所述的涂布设备，其特征在于，所述壳体具有连通于所述冷却机构且与所述腔室相邻且不连通的流体...

【专利技术属性】
技术研发人员：王锦山，张恒，
申请(专利权)人：上海德沪涂膜设备有限公司，
类型：新型
国别省市：