涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术描述一种涂布装置，包括承载涂布对象的基台、朝向涂布对象分配浆料的供料机构、驱动供料机构相对于基台移动的驱动机构、以及风刀机构，风刀机构包括具有朝向基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节气流引导部的调节底座，调节底座包括与驱动机构联动的基座和铰接于基座的支承部，气流引导部设置于支承部。在本实用新型专利技术中，涂布装置的供料机构通过向位于基台的涂布对象供应浆料以形成液膜，风刀机构向液膜输送气流以使液膜干燥，风刀机构的调节底座可以对气流引导部输出气流的角度进行调整。的角度进行调整。的角度进行调整。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置


[0001]本技术大体涉及电子核心产业，具体涉及一种涂布装置。

技术介绍

[0002]涂布装置是一种可以在基材的表面形成涂膜的设备，常用于芯片制造领域、显示屏制造领域、太阳能电池制造领域或锂电池制造领域。涂布装置通常采用狭缝涂膜、旋涂、刮涂的方式在基材表面涂覆一层湿膜，湿膜干燥后可以形成涂膜或涂层。
[0003]在制备涂膜或涂层的过程中，为了提高湿膜的干燥速度，一般会向湿膜表面供应气流以加速湿膜中的溶剂挥发。在现有技术中，通常采用风刀机构向湿膜表面供应气流以进行干燥。
[0004]在现有的涂布装置中风刀机构通常是固定的，但是在采用风刀机构对湿膜进行干燥处理的时候，风刀机构供应的气流与湿膜之间的夹角通常会影响液膜的干燥质量和干燥速度。因此，在对不同类型的浆料、或者对不同区域的浆料进行干燥时，通常需要对风刀机构的气流供应角度进行调节。

技术实现思路

[0005]本技术是有鉴于上述现有技术的状况而提出的，其目的在于提供一种能够对气流供应角度进行调节的涂布装置。
[0006]为此，本技术提供一种涂布装置，包括承载涂布对象的基台、朝向所述涂布对象分配浆料的供料机构、驱动所述供料机构相对于所述基台移动的驱动机构、以及风刀机构，所述风刀机构包括具有朝向所述基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节所述气流引导部的调节底座，所述调节底座包括与所述驱动机构联动的基座和铰接于所述基座的支承部，所述气流引导部设置于所述支承部。在本技术中，涂布装置的供料机构通过向位于基台的涂布对象供应浆料以形成液膜，通过风刀机构能够向液膜输送气流以使液膜干燥，通过风刀机构的调节底座能够对气流引导部的出风口方向进行调整从而对输出气流与液膜之间的夹角(即气流供应角度)进行调整，由此，能够有利于提高液膜的干燥质量(例如干燥均匀性、膜厚一致性)和干燥速度。
[0007]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述基座包括与所述驱动机构联动的主体部、以及铰接于所述支承部的转接部，所述主体部具有第一轨道，所述转接部可移动地设置于所述第一轨道。在这种情况下，转接部可沿着第一轨道移动，从而能够实现对气流引导部的位置进行调整以调整气流供应角度，由此能够提高膜层的干燥质量。
[0008]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道为腰形孔、燕尾槽或滑轨。在这种情况下，能够便于转接部装配于主体部且灵活地沿着第一轨道移动。
[0009]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述主体部包括具有第二轨道的第一基板、以及第二基板，所述第二基板可移动地设置于所述第二轨道。在这种情况下，能够便于第二基板装配于第一基板且灵活地沿着第二轨道移动。
[0010]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道的延伸方向垂直于所述第二轨道的延伸方向。由此，通过调节底座能够在第一轨道的延伸方向和/或第二轨道的延伸方向上对气流引导部的位置进行调整。
[0011]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向，或者所述第二轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向。由此，通过驱动气流引导部在第一轨道或第二轨道上移动能够便于调整气流引导部和供料机构的间距。
[0012]另外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述驱动机构包括驱动所述供料机构的第一驱动部、以及驱动所述风刀机构的第二驱动部。在这种情况下，能够分别驱动风刀机构和供料机构移动。
[0013]此外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一驱动部驱动所述供料机构移动的速度不小于所述第二驱动部驱动所述风刀机构移动的速度。由此，能够在对涂布对象进行干燥的过程中延长风刀机构的作用时间，从而有利于膜液均匀干燥。
[0014]此外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述支承部经由转轴而铰接于所述基座并且配置为绕所述转轴转动，所述转轴的延伸方向垂直于所述供料机构的移动方向。在这种情况下，气流引导部输出的气流能够对大致同时涂覆于涂布对象的液膜同时进行干燥，由此能够使膜层干燥后成分更均匀。
[0015]此外，在本技术所涉及的涂布装置中，可选地，所述调节底座还包括第一锁紧部，所述第一锁紧部配置为向所述转接部施加朝向所述基座的第一压力或第二压力，所述第一压力的数值大于所述第二压力的数值。在这种情况下，当第一锁紧部向转接部施加第二压力时，转接部可以相对于基座移动，当第一锁紧部向转接部施加第一压力时，转接部和基座之间的阻力能够用于抑制转接部的移动，由此能够在转接部调整到预设位置后，通过第一锁紧部将转接部锁紧，从而减少转接部发生不期望的转动。
[0016]根据本技术的涂布装置，能够提供一种能够对气流供应角度进行调节的涂布装置。
附图说明
[0017]现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本技术，其中：
[0018]图1是示出了本技术示例所涉及的涂布装置的示意图。
[0019]图2是示出了本技术示例所涉及的涂布装置的涂布原理图。
[0020]图3是示出了本技术示例所涉及的对气流供应部的位置进行调整的原理图。
[0021]图4是示出了本技术示例所涉及的调节底座的模块图。
[0022]图5是示出了本技术示例所涉及的支承部铰接于转接部的示意图。
[0023]图6是示出了本技术示例所涉及的转接部设置于第二基板的示意图。
[0024]图7是示出了本技术示例所涉及的第二基板设置于第一基板的示意图。
[0025]图8是示出了本技术示例所涉及的第一锁紧部的工作原理图。
[0026]附图标记说明：
[0027]1…
涂布装置，2
…
涂布对象，
[0028]100
…
基台，
[0029]200
…
供料机构，210
…
分配部，211
…
腔室，212
…
壳体，213
…
出料口，
[0030]300
…
驱动机构，
[0031]400
…
风刀机构，410
…
气流引导部，411
…
出风口，420
…
调节底座，421
…
支承部，422
…
基座，423
…
主体部，424
…
转接部，425
…
第一基板，426
…
第二基板，427
…
第一轨道，428
…
第一锁紧部，
[0032]500
…
转轴。
具体实施方式
[0033]以下，参考附图，详细地说明本技术的优选实施方式。在下面的说明中，对于相同的部件赋予相同的符号，省略本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，其特征在于，包括承载涂布对象的基台、朝向所述涂布对象分配浆料的供料机构、驱动所述供料机构相对于所述基台移动的驱动机构、以及风刀机构，所述风刀机构包括具有朝向所述基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节所述气流引导部的调节底座，所述调节底座包括与所述驱动机构联动的基座和铰接于所述基座的支承部，所述气流引导部设置于所述支承部。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述基座包括与所述驱动机构联动的主体部、以及铰接于所述支承部的转接部，所述主体部具有第一轨道，所述转接部可移动地设置于所述第一轨道。3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述第一轨道为腰形孔、燕尾槽或滑轨。4.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述主体部包括具有第二轨道的第一基板、以及第二基板，所述第二基板可移动地设置于所述第二轨道。5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，所述第一轨道的延伸方...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑新峰，
申请(专利权)人：上海德沪涂膜设备有限公司，
类型：新型
国别省市：