洁净箱制造技术

本实用新型专利技术描述一种洁净箱，是为处理对象提供洁净空间的洁净箱，其包括壳体、支承机构、第一气流引导机构和第二气流引导机构，壳体具有容纳空间、以及分别形成在容纳空间相对两侧的第一风洞和第二风洞，支承机构设置在容纳空间内并支承处理对象，第一气流引导机构设置在壳体上并经由第一风洞而与容纳空间连通，第二气流引导机构设置在壳体上并经由第二风洞而与容纳空间连通。根据本实用新型专利技术，该洁净箱能够提高操作区域的洁净程度。够提高操作区域的洁净程度。够提高操作区域的洁净程度。

【技术实现步骤摘要】
洁净箱


[0001]本技术涉及一种洁净箱。

技术介绍

[0002]随着电子核心产业的高速发展，在半导体集成电路制造过程中在晶圆片的表面形成涂膜的技术越来越得到发展。例如，在晶圆级封装(Wafer
‑
level Packaging)、晶圆片材表面膜层涂敷、生物医用芯片、微流控芯片等领域，在生产、制造、加工芯片的过程中，可能需要在晶圆片的表面上涂布规定溶液以形成涂膜，而后再对晶圆片进行后续处理。
[0003]目前，通常在洁净空间内进行精密电子薄膜加工。由于在精密电子薄膜的成膜过程中，对于局部环境的洁净程度要求较高，对于局部气体流速以及温度湿度等都有一定要求，例如有一些材料对于加工温湿度比较敏感。鉴于上述，需要提供一个千级甚至百级洁净空间以进行半导体精密元器件加工。

技术实现思路

[0004]本技术是有鉴于上述现有技术的状况而提出的，其目的在于提供一种能够对气流进行引导以提高操作区域的洁净程度的洁净箱。
[0005]为此，本技术提供一种洁净箱，是为处理对象提供洁净空间的洁净箱，其特征在于，包括壳体、支承机构、第一气流引导机构和第二气流引导机构，所述壳体具有容纳空间、以及分别形成在所述容纳空间相对两侧的第一风洞和第二风洞，所述支承机构设置在所述容纳空间内并支承所述处理对象，所述第一气流引导机构设置在所述壳体上并经由所述第一风洞而与所述容纳空间连通，所述第二气流引导机构设置在所述壳体上并经由所述第二风洞而与所述容纳空间连通。在本技术所涉及的洁净箱中，通过第一气流引导机构和第二气流引导机构来引导进入容纳空间内的洁净气体，由此能够有利于引导洁净气体经过支承处理对象的支承机构，从而能够有利于提高操作区域的洁净程度。
[0006]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述第二气流引导机构包括集气部，所述集气部包括以预定间距设置在所述第二风洞上方且具有多个通孔的隔板，所述隔板与所述壳体形成集气腔室。在这种情况下，气流通过集气腔室而流入第二风洞，由此能够有利于形成稳定的气流。
[0007]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述第一风洞沿着由外部至所述容纳空间的方向逐渐缩小，所述第二风洞沿着由所述容纳空间至外部的方向逐渐缩小。在这种情况下，能够有利于经过第一风洞的气体被聚束以形成气流。
[0008]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述第一风洞位于所述容纳空间的上方，所述第二风洞位于所述容纳空间的下方，并且所述支承机构位于所述第一风洞与所述第二风洞之间。由此，能够有利于气流经过支承机构。
[0009]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述第一气流引导机构经由所述第一风洞将气体从外部引导至所述容纳空间，所述第二气流引导机构经由所述第二风洞将
气体从所述容纳空间引导至外部。由此，能够有利于定向地在容纳空间内形成气流。
[0010]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述第一气流引导机构和所述第二气流引导机构引导气流经过所述支承机构。
[0011]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，还包括加热所述支承机构的加热机构。由此，能够加速干燥涂覆在处理对象上的湿膜。
[0012]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述壳体包括框架、设置在所述框架上的顶部、底部、侧部、以及设置在所述框架与所述顶部、所述底部、所述侧部之间的泡沫棉，所述顶部、所述底部与所述侧部形成所述容纳空间，并且在所述侧部上设有可开闭的门。在这种情况下，通过泡沫棉能够有利于提高所述容纳空间的密闭性，并且通过可开闭的门能够便于从容纳空间内取放处理对象。
[0013]另外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，所述门的数量为一个或多个，并且各个门彼此独立地被控制。
[0014]此外，在本技术所涉及的洁净箱中，可选地，还包括对所述容纳空间内的气压进行监测的气压监测装置、对所述容纳空间内的温度进行监测的温度监测装置、以及对所述容纳空间内的湿度进行监测的湿度监测装置。
[0015]根据本技术，能够提高操作区域的洁净程度。
附图说明
[0016]现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本技术，其中：
[0017]图1是示出了本实施方式示例所涉及的洁净箱的整体示意图。
[0018]图2是示出了本实施方式示例所涉及的洁净箱的剖面示意图。
[0019]附图标记说明：
[0020]1…
洁净箱，900
…
处理对象，
[0021]10
…
壳体，10a
…
第一风洞，10b
…
第二风洞，11
…
框架，12
…
顶部，13
…
底部，14
…
侧部，15
…
门，16
…
底座，161
…
滚动机构，
[0022]20
…
支承机构，
[0023]30
…
第一气流引导机构，31
…
第一风机，
[0024]40
…
第二气流引导机构，41
…
第二风机，42
…
集气部，421
…
隔板，422
…
通孔
具体实施方式
[0025]以下，参考附图，详细地说明本技术的优选实施方式。在下面的说明中，对于相同的部件赋予相同的符号，省略重复的说明。另外，附图只是示意性的图，部件相互之间的尺寸的比例或者部件的形状等可以与实际的不同。
[0026]需要说明的是，本技术中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，例如所包括或所具有的一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可以包括或具有没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0027]另外，需要说明的是，本文中的“上方”、“朝向上方”、“下方”、“朝向下方”、“上下方向”、“左侧”、“朝向左侧”、“左方”、“朝向左方”、“右侧”、“朝向右侧”、“右方”、“朝向右方”、
“
左右方向”、“前方”、“朝向前方”、“后方”、“朝向后方”、“前后方向”等相对位置和相对方向术语，是参照通常操作姿态，并且不应当认为是限制性的。
[0028]本实施方式涉及一种为处理对象提供洁净空间的洁净箱。在本实施方式所涉及的洁净箱中，通过对洁净气流进行引导能够提高操作区域的洁净程度。
[0029]图1是示出了本实施方式示例所涉及的洁净箱1的整体示意图。图2是示出了本实施方式示例所涉及的洁净箱1的剖面示意图。以下，结合附图，对本实施方式所涉及的洁净箱1进行详细说明。
[0030]在本实施方式中，洁净箱1可以包括壳体10、支承机构20、第一气流引导机构30和第二气流本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种洁净箱，是为处理对象提供洁净空间的洁净箱，其特征在于，包括壳体、支承机构、第一气流引导机构和第二气流引导机构，所述壳体具有容纳空间、以及分别形成在所述容纳空间相对两侧的第一风洞和第二风洞，所述支承机构设置在所述容纳空间内并支承所述处理对象，所述第一气流引导机构设置在所述壳体上并经由所述第一风洞而与所述容纳空间连通，所述第二气流引导机构设置在所述壳体上并经由所述第二风洞而与所述容纳空间连通。2.如权利要求1所述的洁净箱，其特征在于，所述第二气流引导机构包括集气部，所述集气部包括以预定间距设置在所述第二风洞上方且具有多个通孔的隔板，所述隔板与所述壳体形成集气腔室。3.如权利要求1所述的洁净箱，其特征在于，所述第一风洞沿着由外部至所述容纳空间的方向逐渐缩小，所述第二风洞沿着由所述容纳空间至外部的方向逐渐缩小。4.如权利要求1所述的洁净箱，其特征在于，所述第一风洞位于所述容纳空间的上方，所述第二风洞位于所述容纳空间的下方，并且所述支承机构位于所述第一风洞与所述第二风洞之间。5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王锦山，郑新峰，徐建煌，张恒，
申请(专利权)人：上海德沪涂膜设备有限公司，
类型：新型
国别省市：