日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有741项专利

  • 本发明的课题是提供新的甘脲类及其制造方法。解决手段是下述式(1)所示的含氮环状化合物,该式(1)所示的含氮环状化合物例如由下述式(1A)或式(1B)表示。(式中,R
  • 本发明提供含有导电性碳材料的薄膜的制造方法,其特征在于,包含如下工序:使用凹版涂布机或模涂机涂布含有碳纳米管等导电性碳材料的涂布液。
  • 本发明提供含有导电性碳材料的薄膜的制造方法,其包含如下工序:使用凹版涂布机或模涂机以20m/分以上的涂布速度涂布含有碳纳米管等导电性碳材料的涂布液。
  • 含有碳纳米管的薄膜,是在基材上形成的含有碳纳米管的薄膜,厚度为10~500nm,所述薄膜中所含的碳纳米管的相对于所述薄膜形成部分中的所述基材的被覆率为20~100%,该含有碳纳米管的薄膜即使膜厚度薄,对于基材的被覆率也高,并且可进行超声...
  • 本发明的课题是要提供蓄热材料、尤其是在低温下进行水蒸气(水)的吸附和解离、并且蓄热量大的化学蓄热材料。于是,提供了一种化学蓄热材料,含有碳原子数2~10的脂肪族多元羧酸金属盐,通过水蒸气即水的吸附或解离显示发热性或吸热性。
  • 本发明提供一种分别制作作为医药/农药有用的肟基化合物的E体和Z体的几何异构体的新颖的制造方法。该方法将式(EZ)‑1所表示的肟基化合物的几何异构体的混合物和酸性化合物混合,由此高收率且高立体选择性地制造式(E)‑1所表示的肟基化合物的E...
  • 本发明提供使用了核酸适配体的细胞培养用支架材料,所述核酸适配体是能够化学合成、不含动物来源成分、生物相容性高的材料。细胞支架材料,其含有E‑钙粘蛋白结合型核酸适配体。
  • 本发明的课题是提供针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。解决手段是一种针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物,其包含:下述式(1a)所示的化合物、式(1b)所示的化合物、具有下述式(2)所示的取代基的分子量为300以上且小于800的化...
  • 本发明提供一种能够获得膜硬度高且具有良好的残影特性等的液晶取向膜的液晶取向剂。所述液晶取向剂含有下述(A)成分、(B)成分和有机溶剂。(A)成分:其为聚酰亚胺前体的酰亚胺化物即聚酰亚胺,且酰亚胺化率为20%~80%,所述聚酰亚胺前体为四...
  • 含有结构中具有芳香族杂环和伯氨基及仲氨基的聚合物的液晶取向膜以及可以形成这种液晶取向膜的液晶取向剂。上述芳香族杂环和上述伯氨基及仲氨基优选在液晶取向膜的烧成时生成,具体而言,液晶取向剂含有选自聚酰胺酸和作为其酰亚胺化物的聚酰亚胺中的至少...
  • 一种液晶取向剂,其含有下述(A)成分和下述(B)成分。需要说明的是,下述式(1)~下述式(3)中的记号的定义如说明书中所记载。(A)成分:四羧酸二酐成分与二胺成分反应而得到的聚酰胺酸,所述四羧酸二酐成分包含含有芳香族结构的四羧酸二酐,所...
  • 一种液晶取向剂,其含有下述(A)成分和(B)成分。需要说明的是,下述各式中的记号的定义如说明书中所记载。(A)成分:选自由含有下述式(1)的二胺的二胺成分与四羧酸衍生物成分反应而得到的聚酰亚胺前体、和使该聚酰亚胺前体闭环而得到的聚酰亚胺...
  • 提供一种具有水蒸气阻隔性的相位差膜,其包含具有感光性侧链的液晶性聚合物,膜厚大于300nm且为50000nm以下。
  • 本发明的课题是提供一种含有硅的抗蚀剂下层膜,是可以在光刻工序作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜,其能够通过使用了化学溶液的湿式法、特别是SPM(硫酸与过氧化氢水的混合水溶液)来除去。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其特征在于,包含:在...
  • 提供一种液晶取向剂,其能够改善用密封剂密封的液晶表示元件的密封密合性,并且所得液晶取向膜的液晶取向性、预倾角等特性良好而不会着色为黑褐色且不失去透明性。一种液晶取向剂,其含有选自由聚酰胺酸和将该聚酰胺酸进行酰亚胺化而得到的聚酰亚胺组成的...
  • 本发明的课题是提供新的抗蚀剂图案被覆用水溶液。解决手段是一种抗蚀剂图案被覆用水溶液,其包含:A成分:选自α‑环糊精、β‑环糊精和γ‑环糊精中的环糊精、或上述环糊精的衍生物;B成分:以水作为主成分的溶剂;以及可选的C成分:下述式(2)所示...
  • 提供一种能够形成在蓄积电荷的释放等方面具有优异的电特性,并且无着色而具有透明性的液晶取向膜的液晶取向剂。液晶取向剂的特征在于,其含有选自由聚酰胺酸和将该聚酰胺酸进行酰亚胺化而得到的聚酰亚胺组成的组中的至少1种聚合物,所述聚酰胺酸是通过含...
  • 本发明的课题是提供,低介电损耗角正切并且低介电常数的、并适合于形成印刷配线板的环氧树脂组合物。解决手段是一种印刷配线板形成用环氧树脂组合物,其包含:(a)包含式[1]所示的环氧化合物A和式[2]所示的可以具有环氧基的化合物B的混合物;以...
  • 本发明提供能够获得特别是在KrF工艺中发挥充分的防反射功能、高耐溶剂性和干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、并可以形成良好的截面形状的光致抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含共聚物,所述共聚物包含:来源于二环...
  • 本发明涉及一种液晶取向剂,其特征在于,含有:(A‑1)选自聚酰胺酸和该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少1种聚合物,所述聚酰胺酸是使用包含下述式(1)所示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分和包含下述式(2)所示的二胺的二胺成分而得到的;(A‑2...