日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有988项专利

  • 例如提供由下述式表示的苯胺衍生物。(式中,Ph为苯基。)
  • 本发明涉及一种电荷输送性组合物,其能够提供具有高透明性且平坦性优异的电荷输送性薄膜。另外,还提供一种显示出优异特性的有机EL元件。作为通过使用包含聚噻吩化合物、金属氧化物纳米粒子、非离子含氟表面活性剂以及有机溶剂的组合物所制成的电荷输送...
  • 包含附加了下式(1)所示的基团的聚合物。(在式(1)中,R
  • 本发明提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:环氧加成物形成用化合物与下述式(1)所示的化合物的环氧加成生成物;以及溶剂,[...
  • 本发明的课题是提供具有优异的耐擦伤性的硬涂膜的制造方法。解决手段是一种耐擦伤性硬涂膜的制造方法,其至少包含下述工序:将能够形成硬涂层的固化性组合物涂布在膜基材上而形成涂膜的工序;以及向该涂膜照射活性能量射线进行固化的工序,上述固化性组合...
  • 本发明涉及聚合物的制造方法。本发明还提供一种聚合物,其是含有由下述式(1)表示的结构单元的聚合物,末端为来自引发剂残基的正丁基,重均分子量为1,000~50,000,分散度为1.5以下,式(1)中,R1表示氢原子或甲基,R2~R6各自独...
  • 本发明的课题是提供可获得对液晶可溶的各种溶剂的耐溶剂性,可以获得良好的取向性,并且即使是膜厚为3μm以上的厚膜也透明性优异,具有对良溶剂的耐性的固化膜,并提供光取向用的取向材以及使用该取向材而形成的相位差材。解决手段是具有光取向性基的固...
  • 本发明提供电荷传输性组合物,其包含:含有式(1)的聚噻吩衍生物或其胺加成物的电荷传输性物质、选自含有氟烷基的硅烷等的有机硅烷化合物、金属氧化物纳米粒子和有机溶剂。(R1和R2相互独立地为氢原子、碳数1~40的烷氧基、
  • 包含在分子内具有9
  • 一种液晶取向剂,其含有选自由由二胺成分和四羧酸成分得到的聚酰亚胺前体和聚酰亚胺组成的组中的至少1种聚合物(P),所述二胺成分含有具有下述式(1)的结构的二胺和具有选自由下述式(S1)~(S3)所示结构组成的组中的至少1种的二胺(v)。式...
  • 提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法以及半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:通过下述式(1)所示的化合物、与环氧加成物形成用化合物的反应而获得的环氧加成生成物;...
  • 本发明提供一种零面锚定膜的工业制造方法,以及使用其的良好的液晶显示元件和液晶显示元件的制造方法。一种零面锚定膜的制造方法,其包括以下步骤:在使含有液晶和具有下述式(1)表示的结构的自由基聚合性化合物的液晶组合物与自由基产生膜接触的状态下...
  • 本发明的课题是提供新的压印用光固化性组合物。解决手段是一种压印用光固化性组合物,是包含下述(a)成分、下述(b)成分、下述(c)成分、和下述(d)成分的压印用光固化性组合物,相对于该组合物所包含的具有烯属不饱和基的化合物总量100质量份...
  • 本发明提供零面锚定膜的工业制造方法、以及使用其的良好的液晶显示元件和液晶显示元件的制造方法。一种图案化的零面锚定膜的制造方法,其包括:对自由基产生膜在特定区域内照射放射线而形成图案化的自由基产生膜的步骤;以及使含有液晶和自由基聚合性化合...
  • 提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数,对所谓的高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外,提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合...
  • 提供用水稀释时的乳化稳定性大幅改善了的农药乳化性组合物。农药乳化性组合物,其包含:(a)选自氟噁唑酰胺(Fluxametamide)、哒螨灵、吲唑磺菌胺和精喹禾灵中的至少1种的农药活性物质;(b)包含(b‑1)包含3‑甲氧基‑N,N‑二...
  • 本发明提供将聚硅氧烷中含有的盐类杂质通过活性炭除去,降低了盐类等的浓度的聚硅氧烷制造方法。本发明适合用于与半导体有关的领域。本发明提供了一种除去了盐类的聚硅氧烷的制造方法,包含以下工序(1)和工序(2),工序(1):在有机溶剂中使聚硅氧...
  • 提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数,对所谓高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外,提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物...
  • 本发明的课题是提供新型的农药、尤其是除草剂。本发明的解决手段是提供式(1)所示的酮或肟化合物及含有它们的除草剂。[式中,B表示B‑1、B‑2或B‑3,Q表示氧原子、=NOR
  • 一种相位调制元件,其为将液晶层用于介电常数可变构件的相位调制元件,其具有液晶层和与前述液晶层接触来配置的取向控制层,所述液晶层包含具有异硫氰酸酯基的液晶化合物,所述取向控制层具有下述式(N‑1)或(N‑2)所示的特定官能团。式(N‑1)...