本发明的课题是提供在溶剂显影光刻工艺中用于涂布在经图案化的抗蚀剂膜上而使图案反转的涂布用组合物的制造方法。解决手段是一种涂布于经图案化的抗蚀剂膜的组合物的制造方法，其包含下述工序：将水解性硅烷在非醇系亲水性溶剂中水解并缩合而获得水解缩合...

提供具备即使发生间隔物摩擦等物理摩擦时也没有亮点的具有曲面形状的液晶面板的液晶表示装置。一种曲面液晶表示元件，其具备液晶取向膜，所述液晶取向膜含有具有下述式[1]的结构的聚合物。(Y

一种液晶取向剂，其特征在于，含有：(A‑1)选自聚酰胺酸和该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少1种聚合物，所述聚酰胺酸是使用包含下述式(1)所示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分和包含下述式(2)所示的二胺的二胺成分而得到的；(A‑2)选自聚酰...

一种液晶取向剂，其特征在于，含有：选自聚酰胺酸和该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少1种聚合物、以及有机溶剂，所述聚酰胺酸是使用以10：90～90：10的比率包含下述式(1)所示的四羧酸二酐和脂肪族四羧酸二酐的四羧酸以及包含下述式(2)所...

本申请涉及一种液晶取向剂，其特征在于，含有：(A)选自聚酰胺酸和该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少1种聚合物，所述聚酰胺酸是使用以10：90～90：10的比率包含下述式(1)所示的四羧酸二酐和脂肪族四羧酸二酐的四羧酸二酐成分、以及包含下...

本发明的课题是提供具备防眩性优异，并且表现高的耐擦伤性，与此同时对基材的密合性优异的硬涂层的叠层体。解决手段是防眩性硬涂叠层体及其制造方法，上述防眩性硬涂叠层体是由基材、在该基材上方的底漆层、和在该底漆层上方的硬涂层构成的防眩性硬涂叠层...

本发明提供针对将在被加工基板上形成的抗蚀剂图案转印到下层而得的有机下层膜的图案，在填埋其图案间隙的同时，形成平坦的膜的图案反转用被覆组合物。解决课题的手段是，用于被覆在将抗蚀剂图案转印到下层而成的有机下层膜的图案上的被覆组合物，该被覆组...

本发明提供通过硅氢化反应迅速交联而形成具有耐腐蚀气体性的固化物的交联性有机聚硅氧烷组合物、其固化物、以及通过该组合物密封了LED元件的LED装置。解决手段是一种交联性有机聚硅氧烷组合物，其包含：(A)平均单元式所示的含有联苯基的烯基官能...

本发明提供一种组合物，包含具有由下式1表示的结构的给电子聚合物D和具有由下式2表示的结构的吸电子聚合物A(下式中符号的定义如说明书中所述)，*‑O‑X

提供以水为分散介质的热电转换层形成用组合物。另外，使用热电转换层形成用组合物，采用涂敷工艺来制造热电转换层。一种热电转换层形成用组合物，包含(A)水、(B)钴系氧化物和(C)多糖类，相对于该组合物100质量份，(A)水和(B)钴系氧化物...

本发明的课题是提供LED用密封材料组合物、将该组合物固化而获得的固化物、和通过该固化物而密封了LED元件的LED装置。解决手段是一种LED用密封材料组合物，其包含：(A)直链状的有机聚硅氧烷，上述直链状的有机聚硅氧烷具有下述式(1)所示...

本发明提供一种具有被高效率地赋予取向控制能力、余像特性优异的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板、以及具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。本发明提供一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如...

本发明提供一种液晶取向剂，其含有由二胺成分得到的聚合物和有机溶剂，所述二胺成分包含选自具有下述式(1)～(3)所示的结构的二胺中的至少1种以及具有下述式(4)所示的结构的二胺(式中，W和X分别独立地为碳原子数6～14的芳香环，Y为氧原子...

固化膜形成用树脂组合物，其特征在于，含有作为(A)成分的包含来自具有下述式(1)的结构的第1单体的结构单元的聚合物、作为(B)成分的光产酸剂、作为(C)成分的微粒、及溶剂。(式中，R

本发明的课题是提供具有优异的消泡性，并且表现高的耐擦伤性的硬涂层的形成材料。解决手段是固化性组合物、以及具有由利用该组合物得到的固化膜形成的硬涂层的硬涂膜，上述固化性组合物含有以下成分：成分(a)：活性能量射线固化性多官能单体100质量...

本发明的课题是提供具有表现高的耐擦伤性和硬度的硬涂层的叠层体。解决手段是一种高硬度硬涂叠层体及其制造方法，上述高硬度硬涂叠层体包含基材、位于该基材的上方的底涂层、和位于该底涂层的上方的硬涂层，上述底涂层由包含(A)选自活性能量射线固化性...

本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1)～式(3)所示的结构单元的共聚物、交联剂、有机酸催化剂、以及溶剂。(式中，R

本发明涉及用于使在基板上形成的包含嵌段共聚物的层相分离的上层膜形成用组合物，包含：(A)包含(a)来自马来酰亚胺结构的单元结构和来自苯乙烯结构的单元结构的共聚物、和(B)作为溶剂的碳原子数8～16的醚化合物。本发明的上层膜形成用组合物对...

本发明的课题是提供用于形成兼具耐热性、平坦化性、和耐蚀刻性的光刻工序所使用的抗蚀剂下层膜的材料。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：包含下述式(1)(在式(1)中，R

一种液晶取向剂，其特征在于，含有选自由聚酰亚胺和聚酰亚胺前体组成的组中的至少1种聚合物、和包含下述(A)组和(B)组的溶剂的有机溶剂。(A)组：选自N‑甲基‑2‑吡咯烷酮、N‑乙基‑2‑吡咯烷酮和γ‑丁内酯中的至少1种溶剂；(B)组：选...