负型感光性树脂组合物制造技术

本发明专利技术的课题是提供新的负型感光性树脂组合物。解决手段是一种负型感光性树脂组合物，其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量％为80质量％～90质量％的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量％为3质量％～20质量％的下述(C)成分、以及溶剂。(A)成分：碱溶性聚合物，(B)成分：1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物，(C)成分：至少1种光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负型感光性树脂组合物
本专利技术涉及含有碱溶性聚合物、至少2种交联性化合物、至少1种光聚合引发剂、和溶剂的负型感光性树脂组合物。特别是涉及用于形成微透镜的负型感光性树脂组合物。
技术介绍
一直以来，在CCD/CMOS图像传感器等电子器件中，为了使聚光效率提高而设置微透镜。作为CCD/CMOS图像传感器用微透镜的制作方法之一，已知回蚀法(专利文献1和专利文献2)。即，通过在形成于滤色器上的微透镜用树脂层上形成抗蚀剂图案，通过热处理将该抗蚀剂图案回流而形成透镜图案。以将该抗蚀剂图案回流而形成的透镜图案作为蚀刻掩模，将下层的微透镜用树脂层回蚀，将透镜图案形状转印于微透镜用树脂层，从而制作微透镜。对这样的微透镜要求耐化学品性、高透明性等各种特性。此外，仅在CCD/CMOS图像传感器、液晶显示器、和有机EL显示器等电子器件元件上的任意位置将膜进行图案形成的情况下，要求光刻性。对于这样的感光性材料，要求可以以低曝光量形成图案(灵敏度特性)、和可以抑制碱显影后残渣的产生。另外，提出了含有马来酰亚胺系共聚物的微透镜形成用感光性树脂组合物(专利文本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种负型感光性树脂组合物，其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量％为80质量％～90质量％的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量％为3质量％～20质量％的下述(C)成分、以及溶剂，/n(A)成分：碱溶性聚合物，/n(B)成分：1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物，/n(C)成分：至少1种光聚合引发剂。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180830 JP 2018-1620551.一种负型感光性树脂组合物，其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量％为80质量％～90质量％的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量％为3质量％～20质量％的下述(C)成分、以及溶剂，
(A)成分：碱溶性聚合物，
(B)成分：1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物，
(C)成分：至少1种光聚合引发剂。


2.根据权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，所述至少2种交联性化合物包含1分子中具有2个丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基作为所述聚合性基的交联性化合物、和1分子中具有3个以上丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基作为所述聚合性基的交联性化合物。


3.根据权利要求1或2所述的负型感光性树脂组合物，所述碱溶性聚合物具有选自下述式(1a)、式(1b)、式(1c)、式(1d)和式(1e)中的结构单元，



式中，R1表示氢原子或甲基，A表示-O-基或-NH-基，X表示单键、碳原子数1～3的...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木朋哉，安达勋，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP